【課題】被処理物の品質低下を抑制すること。
【解決手段】相対向する放電電極と対向電極との間に電圧を印加して放電を発生させることにより、前記放電電極と前記対向電極との間に位置する被処理物の表面を改質する表面処理装置であって、前記放電電極と前記被処理物との間に、前記被処理物の表面のうち表面改質しない非処理領域を形成するための、遮蔽物が設けられること、を特徴とする表面処理装置。 （もっと読む）

【課題】安価でコンパクトな紫外線照射装置と、そのような紫外線照射装置を用いて低コストで実施できる光硬化性塗布物の硬化処理方法を提供する。
【解決手段】紫外線を一方向へ照射する紫外線照射部と、前記紫外線照射部の紫外光照射側に該紫外線照射部と離間しかつ該紫外線照射部に対向して設けられた、前記紫外線を反射して該紫外線発光部との間に集光させる反射集光部と、を有している紫外線照射装置。 （もっと読む）

【課題】
紫外線照射による熱影響の少ない光照射装置および印刷装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の光照射装置は、紫外線硬化型インクまたは紫外線硬化型樹脂を被着させた光透過性を有するフィルム状の対象物に対して紫外線を含む光を照射するための光照射装置であって、前記対象物の一方主面に対向するように配置された光照射デバイスと、前記対象物の前記光照射デバイスに対する移動方向の前記光照射デバイスよりも下流側に位置し、前記対象物の他方主面側に当接して下方に反転させて、反転した前記対象物の他方主面が上方に位置する前記対象物を介して前記光照射デバイスに対向するように前記対象物の移動方向を反転させる第１のリターンローラとを備えているため、紫外線硬化を十分に行ないつつ、発光素子からの熱影響が比較的少ない小型化された光照射装置が実現される。 （もっと読む）

【課題】含有水素量を低下させた雰囲気中で有機基板の表面に紫外線を照射することで、紫外線照射後の有機基板の表面に対する導電膜の密着性を向上しつつ、導電膜の導電率の低下を防止する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板１００が配置されるハウジング３０内にドライエアボンベ３４からドライエアを供給する。基板１００の表面は、含有水素量が十分に少ないドライエアの雰囲気中で、照射窓２１及びフィルタ２８を介して紫外線ランプ２２から紫外線の照射を受ける。 （もっと読む）

【課題】長期にわたり安定してコロナ処理を行うことができる方法を提供することである。
【解決手段】コロナ処理装置１が備える放電電極２とアースロール３との間にコロナ放電を発生させ、このコロナ放電下にアースロール３を介してフィルム状の被コロナ処理物１０を通過させ、被コロナ処理物１０の表面をコロナ処理する方法であって、コロナ処理装置１は、放電電極２を覆うとともに、アースロール３側に開口部４ｃを有する電極カバー４をさらに備え、この電極カバー４の開口部４ｃが横向きないし上向きとなるように、コロナ処理装置１を配置するようにしたコロナ処理方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、内部電極を用いることなく、ワークの内表面を処理し得るプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマ表面処理装置Ｓａは、内表面を持つ長尺筒状体のワークＷＫに対し前記内表面をプラズマによって表面処理する装置であって、ワークＷＫの外雰囲気における第１放電開始電圧よりも低い第２放電開始電圧の気体をワークＷＫ内に供給する供給部１０ａと、前記筒状体の外側から前記筒状体を挟み込むようにワークＷＫの大きさに応じた間隔を空けて互いに対向する一対の第１および第２電極２１、２２を備える電極部２０ａと、ワークＷＫおよび電極部２０ａを相対的に運動させる駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】特別な窒素ガスチャンバー等を用いることなく、簡易な構成で、不活性ガスの使用量を少なくすることができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】照射室２０の内部には、被処理物に電子線を照射する処理が行われる照射空間２１が含まれている。電子線発生部１０で発生した電子線は、照射窓部３０を介して照射空間２１内に取り出される。被処理物は、搬送装置４０により、照射空間２１を通過するように搬送される。照射空間２１は、照射窓部３０と、照射空間２１を通過した電子線を捕捉するビームキャッチャー５０と、被処理物の搬送を妨げることなく、電子線の照射方向に略平行に設けられた外枠部２１０とにより囲まれた空間として構成される。ガス供給部６０は、電子線照射処理の際、照射空間２１内に不活性ガスを供給することにより、照射空間２１内の照射雰囲気を不活性ガス雰囲気とする。 （もっと読む）

【課題】長尺の放電路を形成し、長尺のプラズマを発生、照射する大気圧プラズマ発生装置を提供。
【解決手段】噴出口２１１からアルゴン流が電極４１及び電極４２間の高周波電力によりプラズマ化され、予備プラズマとして筒状部１５内部に左端から右方向へ噴出される。噴出口２２１においては、アルゴン流が電極４３及び電極４４間の高周波電力によりプラズマ化され、予備プラズマとして筒状部１５内部に右端から左方向へ噴出される。電極４１と電極４３との間に高周波電力を印加すると、放電領域１５０の両端からなだれ込む２つのアルゴンプラズマ間で放電が生じ放電領域１５０全体が放電状態となる。導入口１３を介してアルゴン及び酸素の混合気体を供給すると、酸素プラズマＰ１５０が生じて、筒状部１５の下側に設けられた１７０個の第２の孔部１５２から下方向に照射される。即ち、長さ５０ｃｍに及ぶ長尺の酸素プラズマＰ１５０が生成し、照射される。 （もっと読む）

本発明は、移動長尺固相（例えばリボン）を流動流体相に接触させるための装置およびシステム、並びに同様のものを使用する（例えば固相合成の）ための方法を提供する。特定の装置は、（ｉ）横断面が円形または非円形で、流動流体相および移動長尺固相を共に入れるための内腔を画成する導管と、（ii）流体相を内腔に入れ、内腔を通し、内腔から出すために内腔と連通する流体相ポートと、（iii）固相を内腔に入れ、内腔を通し、内腔から出すために内腔と連通する固相ポートとを備え、固相ポートを通って内部から流体が流出するのを防止可能とする。さらに本発明は、分子の合成およびスクリーニングのための連続するプロセスを提供し、このプロセスにおいて固相は、固相合成の異なる段階を行い、合成された分子を活性化するためにスクリーニングする連続の処理ステーションを通過する。
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【課題】高圧電流が流れる導体の絶縁と、発生したオゾンの処理とを行うことができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】放電電極２と、この放電電極２と電源装置とを接続する導体３とを備え、放電電極２による放電により被処理物たるフィルムの表面を改質する。放電電極２をケース１１に設け、このケース１１にダクト２１の一端を接続し、このダクト２１内に導体３を配置し、ダクト２１の他端に排気部２４を設ける。導体３をダクト２１内に配置することにより、外部との絶縁を図ることができ、また、コロナ放電により発生したオゾンを、ケース１１に接続したダクト２１の排気部２４から排気し、オゾン触媒などにより処理をすることができる。 （もっと読む）

【課題】真空装置等の複雑な装置を必要としない、稼働開始時から均一な品質の薄膜を形成可能な薄膜形成装置及び、薄膜形成方法の提供。
【解決手段】大気圧または大気圧近傍でプラズマを発生させ薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置において、
放電ガスを供給する放電ガス供給手段と、原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
１対の電極と、１対の電極間に高周波電界を発生させる高周波電源と、
前記放電ガス供給手段による放電ガスの供給開始と、前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給開始と、前記高周波電源による電極への高周波電圧の印加開始とを、同時に行なわせる制御手段とを、有することを特徴とする薄膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】ドライアイスのような冷媒を用いても装置を大型化することなく被照射物を効率良く冷却することができ電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 被照射物（Ｗ）を巻回する第一のローラ（１）及び第二のローラ（２）と、第一のローラ（１）を収容する第一の冷却室（１０）及び第二のローラ（２）を収容する第二の冷却室（２０）と、第一の冷却室（１０）と第二の冷却室（２０）の間に形成され、被照射物に電子線を照射する電子線照射室（３０）と、前記第一の冷却室（１０）、前記第二の冷却室（２０）及び前記電子線照射室（３０）を冷却する冷却手段（４）とを有し、第一の冷却室（１０）で冷却した被照射物を第一のローラ（１）から巻き出して電子線照射室（３０）に導入し、この電子線照射室（３０）で冷却しつつ電子線を照射し、さらに、第二の冷却室（２０）で冷却しながら第二のローラ（２）で巻き取るように構成した。 （もっと読む）

【課題】連続して広幅基材の表面の均質な改質処理が出来るプラズマ放電処理装置の提供。
【解決手段】対向して設けられた第１の電極と第２の電極を有し、前記第１の電極と第２の電極の間に形成される放電部に、基材を通過させて、前記基材表面を処理するプラズマ放電処理装置において、前記第１の電極に対して非接触で設けられた給電部材と、前記第２の電極に対して非接触で設けられたアース部材とを有し、前記第１の電極は前記給電部材に対して、且つ、前記第２の電極は前記アース部材に対して移動可能に構成されていることを特徴とするプラズマ放電処理装置。 （もっと読む）

【課題】各種の処理対象体を均一にプラズマ処理し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】処理対象管Ｚ（処理対象体）を貫通させる貫通孔２２ａが形成された筐体１１と、筐体１１に立設されると共に高周波信号Ｓを入力して放射する放射器１４とを備えて、高周波信号Ｓの放射によって放射器１４の近傍にプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、貫通孔２２ａに貫通させた状態で筐体１１に取り外し可能に取り付けられると共に、筐体１１の内面に対する接離方向への処理対象管Ｚの移動を規制しつつ、貫通方向に沿っての処理対象管Ｚの移動を許容する位置決め部材１５を備えている。 （もっと読む）

【課題】 装備する長尺管型紫外線ランプの発光管中央部がランプ点灯時に重力により垂れ下がる熱変形が起こるのを抑制する手段が、性能への影響を極力小さくする構成で備えられた空冷式紫外線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ランプ発光管の管軸に垂直な面への投影図上で紫外線照射方向に直交し該発光管を介して対向する位置関係で配置される一対の発光管支持体によって該発光管中央部外表面を挟持する構成とした。該発光管支持体は、発光管外側面との接触面が凹面であり高耐熱性透光性材料から構成される発光管支持片と、該発光管支持片を穿貫してこれを固定し、自らは、通気孔を備え光源部と通気筒部とを隔てる隔壁に嵌挿され保持される、高耐熱性高熱伝導性金属材料から成る固定杭と、から構成される。 （もっと読む）

本発明は、輸送ベルトの連結部及び／又は輸送ベルト表面の損傷がシーラントで封止されている、連続的に運行する輸送ベルトでのモノマーの重合による吸水性ポリマー粒子の製造のための装置に関する。
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【課題】作業性良く迅速にシート体に所定の処理ガスによる表面処理を実施でき、前記処理ガスが装置本体の外部周囲に漏出することも防止できる画期的なシート処理装置。
【解決手段】装置本体Ａの処理室２の搬入口４及び搬出口５を夫々覆う搬入側補助室６及び搬出側補助室７を設け、搬送手段によりシート体３を前記搬入側補助室６を通過して処理室２内に順次搬入しつつこの処理室２内から前記搬出側補助室７を通過して順次搬出して装置本体Ａ内にシート体３を連続的に搬送通過させ得る構成とし、前記処理室２には、この処理室２内を搬送通過するシート体３の少なくとも一面側に、このシート体３の幅方向に噴出領域を有しこのシート体３に向けて所定の処理ガスを噴出する噴出ノズル部９と、この噴出ノズル部９に対して前記シート体３の搬送方向前方側若しくは後方側の近傍位置に吸入口10とを設け、前記搬入側補助室６と搬出側補助室７とには夫々排気部８を設ける。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成用ガスを有効利用する。
【解決手段】電極基板４に形成された複数の貫通孔６を介して被処理物２の表面にプラズマ生成用ガスを直接供給する。これにより、被処理物２の表面処理に必要な量だけのプラズマ生成用ガスを供給することにより、プラズマ生成用ガスを有効利用し、プラズマ生成用ガスの消費量を低減することができる。 （もっと読む）

物質が担持された長尺材料（１）を、少なくとも１つの反応区域（２）に通過させ、前記区域（２）において前記物質を反応させることを含む固相反応方法である。前記長尺材料（１）は、前記少なくとも１つの反応区域（２）の内容物に対して実質的に不溶性であり、前記物質の少なくとも１つのリンカー化学種に結合する少なくとも１種の基を備えている。長尺材料（１）は、好適には、コード、リボン、糸、またはテープからなる。
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【課題】静電ピニング装置とした場合に特許文献２に記載のものと同様の効果があるばかりでなく、テープ状とした放電電極の幅方向の傾きを簡単に調整できることにより、静電ピニング装置とした場合には成形されるシートの厚みを微妙に調整できる、長尺処理物の放電処理装置を提供する。
【解決手段】放電電極１をテープ状としてこれを繰り出す繰出ユニット２と巻き取る巻取ユニット３との間に張架し、これら繰出ユニット２及び巻取ユニット３を繰出側及び巻取側のそれぞれの傾斜ステージ１３上に設置し、この傾斜ステージ１３にて繰出ユニット２及び巻取ユニット３を傾動させることにより、テープ状の放電電極１の幅方向の傾きを調整できるようにした。 （もっと読む）