【課題】２軸連続式の処理装置において、その回転軸に装着された装着部材のケーシング内面との接触に起因する不具合を防止する。
【解決手段】ケーシング本体部１ｃの排出口８の近傍で回転軸２の外周に装着され、外周面の平坦な頂部５ａでケーシング本体部１ｃの内周に嵌め込んだブッシュ１３の内面に摺接するとともに、各回転軸２の同一軸方向位置に装着されたものどうしでセルフクリーニングを行う排出スクリュ５を、ガラス繊維を２５ｗｔ％分散させたポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）で形成することにより、装着部材としての強度を確保しながら、排出スクリュ５とブッシュ１３の摺接部および排出スクリュ５どうしの間で金属粉の発生や被処理物の固着が生じないようにしたのである。 （もっと読む）

【課題】流路の閉塞の可能性を抑える。
【解決手段】化学反応装置は、状態変換部１０と、混合部１６と、生成物回収部２２とを備える。状態変換部１０は溶媒物質を超臨界状態または亜臨界状態にする。混合部１６は溶媒物質と原料流体と添加物とを混合する。生成物回収部２２は生成物含有流体を回収する。生成物含有流体は原料流体と溶媒物質と添加物とが混合されることで生成するものである。化学反応装置は、固相停滞抑制部２０をさらに備える。固相停滞抑制部２０は、原料流体中の固相の停滞と生成物含有流体中の固相の停滞とのうち少なくとも一方を抑制する。 （もっと読む）

【課題】 クラスレートの壁面への付着の抑制する手法であって、第１の液体と第２の液体との直接接触による熱交換を通じてクラスレートを生成させる場合に適した比較的簡便な方法および装置を提供すること。
【解決手段】 クラスレートを生成する薬剤を含む第１の液体と第１の液体に実質的に溶解しない第２の液体との混合物Ｍを収容する容器Ｃの内壁面１に、第１の液体と第２の液体との直接接触による熱交換を通じて生成するクラスレート４が付着することを予防するために、移動部材２を容器Ｃの内壁面に沿って且つ接触することなく移動することにより第１の液体の乱流３を発生させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画像形成装置に用いられトナー等の粉体を製造する粉体製造装置や、画像形成装置に採用され、トナー等の粉体を収容して排出する粉体収容器において、粉体の付着や固着を抑制する。
【解決手段】粉体と接触する部分を導電性ポリマーシートである導電性ポリエチレンシート１で形成するものであって、導電性ポリエチレンシート１端部同士の接合部を、ポリエチレン系接着剤３を用いて接着して、粉体が接触する面の接合部を平滑にする。 （もっと読む）

【課題】配管内の水を超電導磁石で磁化する磁場発生装置において効率良く磁化を行う。
【解決手段】配管３によって形成される閉ループ内を流れる水８を超電導磁石によって磁化する磁場発生装置１において、超電導磁石には、一対のコイル１１，１２が、その軸Ｚ方向に離間して配置されるスプリット型の超電導磁石を用い、そのスプリット型の超電導磁石による一対のコイル１１，１２の離間した空間内に配管１３を配置して磁化を行う。したがって、磁力線は管軸Ｙ方向とは垂直なＺ方向から加わることになり、配管３内の水８を超電導磁石によって効率良く磁化することができる。また、既設の配管１３の周囲にスプリット型の超電導磁石の一対のコイル１１，１２を設置する空間があれば、既設の配管１３はそのままで、一対のコイル１１，１２間に配管１３が位置するようにコイル１１，１２を設置するだけで設置を行うことができ、構造を簡略化することもできる。 （もっと読む）

【課題】ＰＣＢ混入絶縁油中の水分を除去する減圧蒸留槽内に析出するスラッジの実用的な除去方法を提供する。
【解決手段】ＰＣＢ混入絶縁油を被処理油とし、被処理油を金属ナトリウムを用いて無害化するに先立ち行う、被処理油に含まれる水分を除去する減圧蒸留槽内に析出するスラッジの除去方法であって、スラッジは、油酸化変質物を含むＰＣＢ混入絶縁油から水分を除去するとき析出する水溶性のスラッジであり、水で該スラッジを溶解除去する。このとき被処理油を洗浄液とし、被処理油に含まれる水を洗浄剤として使用することが可能であり、これにより簡単にスラッジを溶解除去することができる。 （もっと読む）

【課題】無機酸化膜を均一で薄くコーティングすることができ、かつ、無機酸化膜の表面にイオン性の疎水物質が吸着することを防ぐこと。
【解決手段】下側プレート部材１２の流路１２ａ、および、上側プレート部材１４の各貫通孔１４ａ、１４ｂの内壁面は、全てＳｉＯ₂膜１６によってコーティングされている。ＳｉＯ₂膜１６は、樹脂基板に接する部分にＣ原子の含有量が多い最下層１６ａと、流路表面に露出する部分にＣ原子が殆ど存在しない表層１６ｂの２層からなる。 （もっと読む）

【課題】排出ストリームを削減するための改良された方法および装置を提供すること。
【解決手段】特定の実施形態では、ガスストリームから汚染物質を除去する際に使用するための装置が提供される。該装置は、複数の積層多孔性セラミックリングから形成された熱反応ユニットを含む。該多孔性セラミックリングの第１は第１の熱膨張係数（ＣＴＥ）を有しており、該多孔性セラミックリングの第２は第２のＣＴＥを有している。他の態様も提供される。 （もっと読む）

流路システムにおいて実施される連続反応の副生成物に起因する連続反応流路システムの閉塞防止方法は、複数のプロセス流体のうちの少なくとも１つのプロセス流体の流れ方向に少なくとも１つの超音波を少なくとも１つのプロセス流体に接続することによって、前記流路システムを通過する少なくとも１つの超音波を発生するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】マイクロリアクタのメンテナンスに費やす作業コスト及び時間コストが少なくて済み、以って生産性を向上させることのできるマイクロ流路の閉塞防止装置及び閉塞防止方法を提供すること。
【解決手段】被反応流体（Ｌ３）の反応を進行させるためのマイクロ流路（Ｒ）を形成する流路形成体（１１）と、流路形成体（１１）に超音波振動を付与する超音波振動付与手段（１３）とを備える。超音波振動付与手段（１３）が発した超音波振動は、流路形成体（１１）を介してマイクロ流路（Ｒ）内を流れる被反応流体（Ｌ３）に伝わる。この振動特性は、マイクロ流路（Ｒ）内の被反応流体（Ｌ３）の分子が微少振動を発生して、分子間の結合を阻止する振動数及び振幅に設定される。これにより反応進行中に生じ得る高粘性流体または顆粒や結晶の析出の蓄積が回避され、その結果、マイクロ流路（Ｒ）の閉塞が防止される。 （もっと読む）

【課題】塩素化炭化水素及び水を含む雰囲気中、温度３８０〜５２０℃において用いられるニッケル含有金属装置材料であって、コーキング及び腐食の発生を抑制することができるという優れた効果を有する金属装置材料並びに該金属装置材料を用いた反応容器を提供する。
【解決手段】塩素化炭化水素及び水を含む雰囲気中、温度３８０〜５２０℃において用いられるニッケル含有金属装置材料であって、ニッケルの含有量（Ｘ重量％）が下記式（１）により表されるニッケル含有金属装置材料並びに該金属装置材料を用いた反応容器。
５．０≦Ｘ≦{６２．２＋０．２７×（５２０―Ｔ）} （１）
ここで、Ｔは材料を使用する温度（℃）である。 （もっと読む）

【課題】水処理設備の水路となるパイプ内のスケールの付着防止、除去等を行う電磁場処理装置を省電力化する。
【解決手段】
流体や気体を扱う各種装置や設備に設置される電磁場処理装置１であって、前記パイプ１８の外周に少なくとも１つのソレノイド状又はスパイラル状のコイル１７を設け、このコイル１７に印加する電流を、周波数変調器１１によって周波数変調する構成にした。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、エネルギー効率の改善と最適化を図った液流体の電磁処理装置に関する。
【解決手段】本発明にかかる電磁処理装置は、液体の流路を構成する配管の外側に設けた作動コイルと、該作動コイルに電流を供給する電源部と、該電源部の供給する電流の基本周波数を前記作動コイルの共振周波数とし、断続駆動の周期を調整可能として、前記作動コイルに高調波のビート波形を発生させる電流制御部とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】長期間安定して運転できる易重合性物質取扱装置を提供する。
【解決手段】易重合性物質を取り扱う装置であって、反応器本体１２（装置本体）と、反応器本体１２から突設されたノズル１４（外管２６および内管２８）と、ノズル１４の開口を封止するラプチャーディスク４６（蓋体）と、ノズル１４の基端から先端までの間を遮断するように設けられ、かつ通気口４２が形成されたアルミニウム箔４０（金属薄膜）と、ラプチャーディスク４６とアルミニウム箔４０との間に置換ガスを供給するガス供給手段（コンプレッサー（図示略）、第１の貫通孔３６、空隙３２および第２の貫通孔３８）とを具備する多管式反応器１０（易重合性物質取扱装置）。 （もっと読む）

【課題】長期間安定して運転できる易重合性物質取扱装置を提供する。
【解決手段】易重合性物質を取り扱う装置であって、反応器本体１２（装置本体）と、反応器本体１２から突設されたノズル１４と、ノズル１４の開口を封止するラプチャーディスク３２（蓋体）と、ラプチャーディスク３２の易重合性物質非接触面側からラプチャーディスク３２を加熱する加熱手段（加熱空気導入口２８および加熱空気導入管２９）とを具備する多管式反応器１０（易重合性物質取扱装置）。 （もっと読む）

【課題】流路が詰まることなく、効率よく繰り返し利用が可能な流路構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】この流路構造体１は、流路用溝２０を有する流路基板２と、流路基板２の上面（第１の接合面）２ａおよび流路用溝２０の側面２０ａ，２０ｂおよび底面２０ｃに成膜された光触媒膜（第１の光触媒膜）４Ａと、流路基板２上に接合された蓋基板３と、蓋基板３の下面（第１の接合面）３ａに成膜された光触媒膜（第２の光触媒膜）４Ｂとを備え、流路基板２の上面２ａおよび蓋基板３の下面３ａを常温接合により接合して形成したものである。 （もっと読む）

【課題】プラズマを利用してガスの処理を行うガス処理装置において、汎用性が高く、特に芳香族化合物など処理が困難な成分を含有する大量のガスを速やかに処理することができるガス処理装置を提供する。
【解決手段】ガスの流路上に直列配置された複数のガス処理ユニット２０Ａ，２０Ｂからなるプラズマ装置列と、プラズマ装置列の各プラズマ装置２０Ａ，２０Ｂの動作を制御する制御部１０とを備える。各プラズマ装置２０Ａ，２０Ｂは、ガスの流路に連通する導電体からなるキャビティ２２Ａ，２２Ｂと、このキャビティ２２Ａ，２２Ｂ内にプラズマを発生させるプラズマ発生器２３Ａ，２３Ｂと、このプラズマ始動部２３Ａ，２３Ｂの発生するプラズマにマイクロ波を照射するマイクロ波照射器２４Ａ，２４Ｂとを有する。制御手段１０は、稼働するプラズマ装置２０Ａ，２０Ｂの数を、導入されるガスの成分に応じて選択する。 （もっと読む）

【課題】少ない熱エネルギーで効果的に汚れの付着予防もしくは成長予防又は除去を行うことができる汚れ排除方法及び汚れ排除装置を提供すること。
【解決手段】汚れ排除方法においては、反応生成物流体Ｗが存在する反応槽、晶析槽、配管、送液機器、熱交換器、バルブ等の流路形成部の内壁面に、固体化合物が汚れとして付着もしくは成長することを予防する、又は汚れとして付着した固体化合物を除去する。反応生成物流体Ｗの移送を行う最中に、流路形成部の外壁面に設けた加熱手段２を用いて、流路形成部を断続的に加熱することにより、汚れの付着の予防又は付着した汚れの除去を行う。 （もっと読む）

【課題】
軸振れ現象に対し弱いメカニカルシール方式に代わるグランドパッキン方式の軸封部からの液やガスの漏洩を阻止できる軸封機構を備えた攪拌装置およびこれを使用した反応槽を提供する。
【解決手段】
攪拌装置のグランドパッキン方式の軸封部に圧縮空気を吹き込むことで、軸封部からの液又はガスの漏洩防止、及び軸スリーブの磨耗を抑制する。 （もっと読む）

【課題】排気コンダクタンスの上昇を抑えつつプロセスガスを短時間で効率的に加熱できるようにした低コストの加熱装置、および、この加熱装置を用いてプロセスガスを高温に加熱して下流の長距離にわたりプロセスガスを高温に維持するプロセスガス処理システムを提供する。
【解決手段】加熱装置１の加熱流路部２００に複数枚配置されたフィン２２０の孔部２２１は、プロセスガスを螺旋状に案内しつつ流すように設けられている。孔部２２１を通過して螺旋状となったプロセスガスが円筒２１０およびフィン２２０から放射される熱により加熱され、反応副生成物の付着を防止する温度が下流の排気流路の終端まで維持されるプロセスガスとする。 （もっと読む）