【課題】高い発光強度を有する半導体ナノ結晶及びその半導体ナノ結晶を簡単に低コストで製造できる方法を提供すること。
【解決手段】複数の元素がイオン結合により結合している化合物半導体の構成元素を含む化合物を含有するイオン液体にマイクロ波を照射する。 （もっと読む）

【課題】噴霧燃焼法において、ナノサイズの微粒子を大量に製造する装置などを提供する。
【解決手段】液滴化した原料溶液を、火炎中で反応させて微粒子を生成する微粒子製造装置であって、液滴化した原料溶液を含む原料流を噴出する原料溶液噴霧部と、前記原料溶液噴霧部の周囲に設けられ、噴霧制御ガスを噴出する噴霧制御ガス噴出部と、前記原料流及び前記噴霧制御ガスが供給される火炎を形成するバーナーと、を具備することを特徴とする微粒子製造装置である。 （もっと読む）

【課題】適切なパワーのマイクロ波を照射する方法、およびマイクロ波支援反応装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波支援反応装置１０を、マイクロ波放射源１１、内部に複数の異なるタイプの反応容器１４を有するキャビティ１２、マイクロ波放射源およびキャビティをマイクロ波連通する導波路１３、センサ１５、インターフェース２０、コンピュータコントローラ２１から構成し、キャビティ内に位置決めされた反応容器の数および／またはタイプに応答して、マイクロ波放射源の出力を決定する。 （もっと読む）

【課題】 揺動により攪拌する方式の連続型揺動式粒子表面処理装置を提供する
【解決手段】 複数の半円弧形状の反応流路１と、反応流路の一方端に反応流路入口１ａ、他端に反応流路出口１ｂを有し、隣接する反応流路入口と反応流路出口が逆止管２を経由して接続されるように反応流路の円弧中心を共通の軸上に位置するように並列配置し、並列配置した反応流路の一方端の反応流路の入口から粒子３０を供給し、他端の反応流路の出口から粒子を排出し、所定の反応ガスを反応流路に供給し、反応流路を円弧中心に揺動させる。 （もっと読む）

【課題】射出成形で得られる樹脂基板をマイクロ流路デバイスとして用いる場合であって、電極部を有するマイクロ流路デバイスの製造方法、及びそれを用いて製造したマイクロ流路チップを提供する。
【解決手段】第１基板２が流路を有し、第２基板３が電極部４を有する基板同士の接着が熱圧着であって、その熱圧着が、低温および高温の二温度の二段階で行い、二温度間の温度差が２０度以上、５０度未満であることを特徴として得られる。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を解消すること。
【解決手段】チャンバ内には導電性材料からなる少なくとも４つの加熱素子または加熱素子の群が配置されており、各加熱素子または加熱素子の群は、電気エネルギー網の別個に閉ループおよび／または開ループ制御可能なサブシステムに接続されており、かつ直接的な電流通過によって加熱可能であり、別個に閉ループおよび／または開ループ制御可能な加熱素子または別個に閉ループおよび／または開ループ制御可能な加熱素子の群は、温度、加熱電力、電流、電圧、抵抗またはこの装置により影響される加熱素子のプロセス量からなる群からのパラメタの少なくとも１つの同じ値または異なる値に閉ループおよび／または開ループ制御可能であり、少なくとも４つの閉ループおよび／または開ループ制御可能なサブシステムがアースに対してガルバニック絶縁されている、腐食性ガスの温度処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】混合用流路を形成する流路形成体を用いた液体の混合方法及び装置であって、当該混合用流路の形状の著しい複雑化や、混合促進のための大掛かりな設備を要することなく、当該混合を促進することができるものを提供する。
【解決手段】微小流路でなる混合流路内で互いに可溶性を有する第１液体及び第２液体を混合させる。具体的には、前記混合流路内に前記第１液体及び前記第２液体を合流させる工程と、前記流路内を流れる合流後の液体に対して当該流路と交差する方向から前記両混合対象液体に対して不溶性を有する不溶流体を供給して当該合流後の液体を間隔をおいて分断することにより当該合流後の液体からなる混合対象セル６０と当該不溶流体からなる不溶流体セル６３とが交互に並ぶスラグ流を前記不溶流体の供給位置よりも下流側の流路内に形成し、これにより、前記下流側の流路内において各混合対象セル内の前記第１混合対象液体と前記第２混合対象液体とを混合させる工程とを行う。 （もっと読む）

【課題】稼働率を向上させる電子線照射システムを提供する。
【解決手段】電子線照射システム２００は、第１電子線照射装置１００ａと第１搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ａと、第２電子線照射装置１００ｂと第２搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ｂと、第１搬送ラインの第１搬出部３１２から第２搬送ラインの第２搬入部３５０に被照射物を送出するユニット間搬送部２１０と、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物の搬送先を、第１搬出口３１２ａおよびユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部２１４と、を備え、搬送先切換部が第１照射領域を通過した被照射物の搬送先をユニット間搬送部に切り換えたとき、第１照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、第２照射領域を通過するときの被照射物における該照射面と、を異ならせる。 （もっと読む）

【課題】 単位時間当りの熱交換量を十分に確保できる熱交換装置を得ること。
【解決手段】
反応釜１のジャケット部１１に冷却流体供給管２３と蒸気供給管３を接続する。反応釜１の内部に第２の熱交換器３１を取り付ける。ジャケット部１１の外側に副熱交換器２７を取り付ける。副熱交換器２７の上下を循環ポンプ２８を介在して反応釜１内と接続する。気液分離器４の下部に蒸気トラップ２５を接続する。蒸気圧力調節弁７と気液分離器４の間に、流体供給管６を接続する。流体供給管６には液体エゼクタ２０を介在する。液体エゼクタ２０の吸込室２２を蒸気トラップ２５の出口側と接続する。
ジャケット部１１の内側は反応釜１を熱交換すると共に、第２の熱交換器３１でも熱交換し、また、ジャケット部１１の外側は副熱交換器２７を熱交換する。 （もっと読む）

【課題】 単位時間当りの熱交換量を十分に確保できる熱交換装置を得ること。
【解決手段】
反応釜１のジャケット部１１に冷却流体供給管２３と蒸気供給管３を接続する。ジャケット部１１の内部に第２の熱交換器３１を取り付ける。ジャケット部１１の外側に副熱交換器２７を取り付ける。副熱交換器２７の上下を循環ポンプ２８を介在して反応釜１内と接続する。気液分離器４の下部に蒸気トラップ２５を接続する。蒸気圧力調節弁７と気液分離器４の間に、流体供給管６を接続する。流体供給管６には液体エゼクタ２０を介在する。液体エゼクタ２０の吸込室２２を蒸気トラップ２５の出口側と接続する。
ジャケット部１１の内側は反応釜１を熱交換すると共に、第２の熱交換器３１でも熱交換し、また、ジャケット部１１の外側は副熱交換器２７を熱交換する。 （もっと読む）

【課題】原料溶液を高温高圧流体の混合点直前まで冷却可能であり、さらに、装置を２次元構造として最大でも高温高圧流体を２分岐するだけで、原料溶液に対して周囲の全方向から高温高圧流体を混合させることが可能な高温高圧流体混合装置の提供。
【解決手段】第１反応溶液である基質を含む溶液を供給する第１反応溶液流路と、該第１反応溶液路に対して側面方向から第２反応溶液である高温高圧流体を供給する第２反応溶液流路と、前記第１反応溶液路の外周に設けられ、該第１反応溶液路の排出端にまで延出し液媒体を供給する液媒体流路と、前記第１反応溶液と前記第２反応溶液と前記液媒体とを混合する混合域と、前記混合溶液を排出するための混合溶液排出流路を備える。 （もっと読む）

【課題】基板内部の少なくとも1つのプラグの内部における反応を誘導する好適な方法を提供すること。
【解決手段】基板の第1流路４００へ搬送流体を導入する手段と、搬送流体に対して非混和性を持つ少なくとも2つの異なるプラグ流体を1つ以上のプラグ形成領域の第1流路へ導入する手段と、プラグ流体混合物を含む少なくとも1つのプラグを形成するために基板で流体の流れを誘発することを目的として第1流路に圧力を適用(加圧)する手段を備え、プラグ断面積がプラグ形成領域の第1流路断面積と本質的に同一であることを特徴とする、基板内部の少なくとも1つのプラグの内部における反応を誘導する方法。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマによる気流誘起現象により高温下や含塵環境下においても安定して気流を発生させることができ、空気力学的特性の制御などを行うことが可能な気流発生装置、気流発生方法および気流発生ユニットを提供する。
【解決手段】気流発生装置４０は、固体からなる誘電体２０の表面と同一面に露出された一つの電極２１と、電極２１から誘電体２０の表面と水平な方向にずらして電極２１と離間され、かつ誘電体内に埋設された一つの電極２２と、電極２１と電極２２との間に、（１）交番電圧の印加、または（２）断続的な電圧の印加および／または電圧値を調整しながらの電圧の印加が可能な放電用電源２４とを備える。電極２１と電極２２との間における誘電体バリア放電により、誘電体２０の表面に沿って、流れる方向が所定の時間間隔で反転して振動する気流を発生させる。 （もっと読む）

【課題】ユーザに煩雑な作業を強いることなく、電子線の照射領域において、確実に被照射物同士を密接させて搬送する。
【解決手段】電子線照射システム１００は、被照射物Ｗに電子線を照射する電子線照射装置２００と、被照射物を搬送するとともに、電子線照射装置によって被照射物に電子線が照射される領域である照射領域Ｒに被照射物を通過させる第１搬送装置３１０と、第１搬送装置よりも被照射物の搬送方向上流側に設けられ、第１搬送装置の搬送速度Ｖ１よりも速い搬送速度Ｖ２で被照射物を搬送するとともに、第１搬送装置に被照射物を搬出する第２搬送装置３２０と、第２搬送装置に被照射物を送出する送出部３７０と、被照射物に応じて、搬送速度Ｖ１、搬送速度Ｖ２、および、送出間隔ＰＴを制御する制御装置３９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】温度制御が可能であって、濃度の高い溶液を少量使用して固形物の表面に反応させるための反応装置および反応方法を提供する。
【解決手段】反応装置は、回転可能な円筒状の反応容器であり、上部に蓋を有する。反応容器は、その円筒面の底部に垂直な軸が水平に対して傾斜する。反応容器は、回転することにより収容する固形物および容液を遠心力により持ち上げ、回転を停止することにより、固形物および溶液を落下させて、混合して反応を促進させる。 （もっと読む）

【課題】気泡が入りにくい反応容器を提供すること。
【解決手段】開口と、第１領域と、前記第１領域よりも前記開口に近い第２領域と、を有する容室と、第１領域の少なくとも一部を第１容室として封止可能であり、かつ、第２領域の少なくとも一部を第２容室として封止可能である蓋と、容室に収容された第１の液体と、を含み、開口から、第１の液体とは混和しない第２の液体が容室に導入される場合に、第１容室の容積をＡ、第２容室の容積をＢ、第１の液体の体積をＣ、第２の液体の体積をＤとして、Ａ＜Ｃ＋Ｄ＜Ａ＋Ｂの関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】液体もしくは液体と固体の混合物中の気泡の有無もしくは気泡の発生を検出し、液体反応において、沸騰状態を検出、抑制する方法を提供する。
【解決手段】液体もしくは液体と固体の混合物４に電磁波を照射し、照射した電磁波の変化から、液体もしくは液体と固体の混合物４内に存在する気泡の有無を検出する方法。 （もっと読む）

【課題】 高感度な検出が可能であり、且つ温度変化によるリアルタイムな分析を可能とする。
【解決手段】 流路１を有し、流路内の流体を加熱可能であって、該流路内の流体の状態を光を用いて観察可能な流路デバイスにおいて、観察面３と内壁上面４とを有する第１の部材２と、該内壁上面４と対向するとともに流路の内壁を構成する内壁下面を有する第２の部材５と、を備え、光を反射する反射面を有する発熱抵抗体６が内壁下面に設けられており、前記反射面で反射した光が内壁上面４と観察面３とを透過するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】マイクロ流路と同一の基体に配置した抵抗体を加熱し、抵抗体の抵抗値変化によって、マイクロ流路内の温度を制御するマイクロ流体デバイスにおいて、流路内の流体に温度分布が生じてしまうこと。
【解決手段】基体内部に設けられた流体を流通させる流路と、前記流路内の流体を主として加熱するための第一の抵抗体とが配置されたマイクロ流体デバイスにおいて、前記第一の抵抗体と異なる位置に配置された、前記流路内の流体を補助的に加熱するための第二の抵抗体を複数個配置する。このマイクロ流体デバイスを動作させるマイクロ流体装置は、前記流路内の流体の温度と前記第一の抵抗体の抵抗値との関係式と、前記第一の抵抗体に投入する熱エネルギーと前記第二の抵抗体に投入する熱エネルギーとの比の固定値と、記憶し、前記関係式と前記固定値とに従い、前記流路内の流体の温度を制御する。 （もっと読む）

【課題】例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を製造するプロセスなどにおけるように、比較的薄いシート状の反応媒体中で反応が起り、しかも反応媒体の粘度が反応が進むに従って上昇する反応に使用するのに適した反応器及び方法を提供する。
【解決手段】反応媒体をシート状に維持しながら、大量の反応媒体を処理するためのシステム。このシステムは、反応媒体が反応条件に付されながら、それを越えて反応媒体が流れる、複数個の垂直に間隔を空けて配置された下方に傾斜したトレイを有する反応器を含む。トレイの傾斜は、反応媒体が反応器を通って下方に流れる間に、反応媒体の増加する粘度に適合するように、下方に増加する。トレイ群の上部分は一方向形状を有し、一方、トレイ群の下部分は二方向形状を有する。更に、一方向トレイを越える流れの配向は、反応媒体が一方向トレイを下に流れるとき、少なくとも一個所で９０度ほど回転される。 （もっと読む）