【課題】製造コストの低減を図りつつ、各種の径のプラズマを低コストで照射し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】高周波信号Ｓを入力して放射する放射器１４と、放射器１４が内部空間に配設されたトーチ型の筐体１１と、筐体１１内にプラズマ放電用ガスＧを供給するガス供給部３と、放射器１４が挿通されると共に筐体１１の内面に取り外し可能に取り付けられた絶縁管３０ａ〜３０ｃ（管状の絶縁体）とを備え、プラズマ放電用ガスＧを供給した状態において放射器１４から高周波信号Ｓを放射して放射器１４の近傍に発生させたプラズマＰを絶縁管３０ａ〜３０ｃの噴出口３１ａ（一端部）から噴出させて処理対象体Ｚに照射可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマにより励起された処理対象ガスの分解、改質及び合成を行うプラズマ素子を提供する。
【解決手段】二重管誘電体１の内管内側に処理対象ガスとキャリアガスを流通させ、内管と外管の間に流通させる導電性液体２を外部電極とし、内管内側に螺旋状に正回転する非導電性第１羽根部分３ａ、螺旋状に逆回転する非導電性第２羽根部分４ａとを交互に配設し、羽根部の長手外周部に敷設した導電性連続コイルを内部電極５とし、処理対象ガスとキャリアガスが羽根部により剪断力を受けて分割及び合流を繰り返すことにより両者が攪拌混合されると同時にプラズマ電源７により両電極間に高周波・高電圧を印加し放電プラズマを誘起させ、対象処理ガスのプラズマ反応と攪拌混合による酸化反応により、内管内側に流通するガスに分解、改質、及び合成処理を施す。 （もっと読む）

【課題】２つの部材同士が接合膜を介して接合された接合体において、２つの部材同士を容易な方法で、かつ効率よく剥離し得る接合体の剥離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の接合体の剥離方法は、第１の基材２１と第２の基材２２とが、シリコーン材料を含有する接合膜３を介して接合された接合体１において、接合膜３に剥離用エネルギーを付与して、前記シリコーン材料を構成する分子結合の一部を切断することにより、接合膜３内にへき開を生じさせて、第１の基材２１から第２の基材２２を剥離する。 （もっと読む）

【課題】膜厚及び膜特性の均一性を改善するガスディフューザを提供する。
【解決手段】ガス分散プレートは、ディフューザプレートの上流側と下流側との間の複数のガス流路とを含み、ガス流路は、上流面に第１の径を有し、第１の径よりも大きい第２の径を下流面に有する。プラズマのイオン化を強めるために、下流側に第２の径を有する中空カソードキャビティを含む。下流端部まで伸びるガス流路の中空カソードキャビティ（円錐体形状の孔）の深さ、径、表面積及び密度はディフューザプレートの中心部から縁部に向かって徐々に増加させて、基板全域での膜厚及び特性の均一性を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】 誘電体表面に電荷を均一帯電させることにより均一なプラズマの生成を可能にすると共に、プラズマ放電開始電圧の低減を可能にするプラズマ発生電極を提供する。
【解決手段】 互いに均等な間隔を隔てて配置された対向配置された少なくとも一対の対向電極１，１’を備え、これら対向電極１，１’に高周波電力を印加することによって、対向電極１，１’間にプラズマを発生させるプラズマ発生電極であって、前記一対の対向電極１，１’の少なくとも一方の電極表面に一様な厚みに誘電体層２が設けられ、該誘電体層２中には、多数の導体小片７が、誘電体層２の表面の面方向に沿った方向に、当該導体小片サイズ程度の間隔を隔てて一様に分散されて埋設される。 （もっと読む）

【課題】連続して広幅基材の表面の均質な改質処理が出来るプラズマ放電処理装置の提供。
【解決手段】対向して設けられた第１の電極と第２の電極を有し、前記第１の電極と第２の電極の間に形成される放電部に、基材を通過させて、前記基材表面を処理するプラズマ放電処理装置において、前記第１の電極に対して非接触で設けられた給電部材と、前記第２の電極に対して非接触で設けられたアース部材とを有し、前記第１の電極は前記給電部材に対して、且つ、前記第２の電極は前記アース部材に対して移動可能に構成されていることを特徴とするプラズマ放電処理装置。 （もっと読む）

【課題】熱的・化学的に非常に安定な不純物であるＰＦＣを効率よく除去してクリプトン及びキセノンを低コストで精製することができるクリプトン及びキセノンの精製方法を提供する。
【解決手段】空気液化分離装置から導出した液体酸素中に含まれるクリプトン及びキセノンを濃縮して精製する方法において、前記液体酸素中に不純物として含まれるＣＦ_４，Ｃ_２Ｆ_６，ＳＦ_６などのパーフルオロコンパウンド（ＰＦＣ）やフロン、ハイドロクロロフルオロカーボン（ＨＣＦＣ）を、酸素を主成分とする９００℃以上のガス雰囲気中における触媒反応、又は、酸素を主成分とするガス雰囲気中における放電プラズマにより酸化し、ＣＯＦ_２，Ｆ_２Ｏ，ＳＯ_２などに変換することによって除去する。 （もっと読む）

【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】一方向に配列された複数の誘電体（３）と、該各誘電体（３）の内部に設けられた電極（６）とを有し、電極（６）間に電圧を印加することにより誘電体（３）間にプラズマを発生可能な誘電性構造体（１）であって、誘電体（３）の少なくとも１つにおいて、他の誘電体（３）に対向する表面および該表面と電極（６）との間の少なくとも一方に電極に沿って導電体（７）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】処理流体の圧力損失を低減でき、また、高効率で処理流体内の微粒子状不純物を取り除くことのできる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】 誘電性構造体１は、第１表面Ｓ１と第２表面Ｓ２との間に少なくとも１つの貫通孔３を有する誘電体と、誘電体における第１表面Ｓ１と第２表面Ｓ１との間に設けられ、少なくとも一部が貫通孔３の内周面に沿って位置する第１導電体４と、第２表面Ｓ２上に設けられ、外縁部が該第２表面Ｓ２上に位置するとともに少なくとも一部が貫通孔３の開口に沿って位置する第２導電体６とを有する。 （もっと読む）

【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】誘電性構造体（１）は、一方向に配列された複数の誘電体（３）と、該各誘電体（３）の内部に設けられた複数の導体層（７）からなる電極（６）とを有する。そして、電極（６）間に電圧を印加することにより誘電体（３）間にプラズマを発生可能である。誘電体（３）の少なくとも１つにおいて、電極（６）は、貫通孔および欠け部の少なくとも一方（９）を有する第１導体層（７ａ）と、貫通孔および欠け部（９）の少なくとも一方に対応する位置に設けられ、第１導体層（７ａ）に電気的に接続される第２導体層（７ｂ）とからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、安定したグロー放電環境下での高濃度の窒素官能基を付与することを可能とした粉体のプラズマ処理方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極２と、中心電極２と所定の空隙部５を介して配置された筒状の周辺電極３と、中心電極２表面若しくは周辺電極３表面の少なくとも一方に設けられた誘電体４とを有する放電容器１を用いた粉体のプラズマ処理方法であって、不活性気体雰囲気とされた空隙部５内で、粉体と、粉体に窒素官能基を付加する窒素官能基供給部材にグロー放電によるプラズマ処理を行なう工程を備える。 （もっと読む）

【課題】高濃度で沸点の高い油類等の分解処理を行なうとともに、そのときの放電発生条件を最適化した効率的な処理を可能とするコンパクトで低コストの液体処理装置を得る。
【解決手段】液体処理装置は、被処理液体２よりも沸点の低い第２液体１０を被処理液体と混合することにより、第２液体１０の性質を利用して混合液体中にキャビテーション気泡を発生させて放電プラズマによる処理を行なう。また、監視装置１３で放電プラズマの状態を監視して、調整弁１２の開閉作動を行なう構成である。 （もっと読む）

【課題】直流によるストリーマ放電の有害物質除去装置は使用電力が少なく、これかの期待される装置ではあるが直流によるストリーマ放電は放電の安定度が悪く電流の投入増加が得られず又放電プラズマに接触せずに通過し有害物質の除去率に難点があった。
【解決手段】直流ストリーマ放電素子は放電ピンの密度を高くしても電流の増加は望めない。放電ピン配置と間隔が重要な要素になっている。最適な間隔を選定すると同時に密度を変えずに放電素子のピン配列をＶ字型にすることで放電投入電流と放電領域を拡大出来、より安定した放電が得られる。又有害物質を効率よく除去しようとするにはストリーマ放電によって出来るプラズマの中を集中して放電領域を複数段通過させる事も重要な要素である。強制的にプラズマの中を通過させる構造により高効率な有害物質除去率を達成することが出来た。 （もっと読む）

【課題】 プロセス回数にかかわらず基板に対する処理の均一性、再現性を改善できるプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】 本発明によるプラズマ処理方法は、真空容器内にプラズマを生成するプラズマ発生手段と、真空容器内で処理される基板を載せる基板ホルダを介してバイアスを印加するバイアス用電源と、真空容器内に処理ガス、キャリアガスをそれぞれ供給するガス供給源とを備えたプラズマ処理装置に適用される。特に、前記基板に対する処理終了後プラズマ生成をオフにして基板搬出を行うまでの間に、処理ガスの供給無しでキャリアガスのみでプラズマ生成を維持する期間を設けることで、真空容器内壁に蓄積される可能性のある処理物質をクリーニングできるようにした。 （もっと読む）

【課題】熱に弱い処理対象管を破損させることなく確実に処理する。
【解決手段】高周波信号を生成する高周波電源（高周波信号生成部）と、高周波信号を入力して放射する放射器と、プラズマ放電用ガスを供給するガス供給部と、高周波電源およびガス供給部を制御する制御部とを備え、制御部が、ガス供給部を制御して処理対象体の処理部位に向けてプラズマ放電用ガスを供給させると共に高周波電源を制御して高周波信号を生成させて放射器から高周波信号を放射させることにより、放射器の近傍にプラズマを発生させるプラズマ処理装置であって、制御部の制御に従って放射器に向けての放電を行う着火機構を備え、制御部は、高周波電源による高周波信号の生成開始に先立って着火機構を制御して放電を開始させ（ステップ４２）、その後に高周波電源を制御して高周波信号を生成させる（ステップ４３）。 （もっと読む）

【課題】各種の処理対象体を均一にプラズマ処理し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】処理対象管Ｚ（処理対象体）を貫通させる貫通孔２２ａが形成された筐体１１と、筐体１１に立設されると共に高周波信号Ｓを入力して放射する放射器１４とを備えて、高周波信号Ｓの放射によって放射器１４の近傍にプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、貫通孔２２ａに貫通させた状態で筐体１１に取り外し可能に取り付けられると共に、筐体１１の内面に対する接離方向への処理対象管Ｚの移動を規制しつつ、貫通方向に沿っての処理対象管Ｚの移動を許容する位置決め部材１５を備えている。 （もっと読む）

【課題】流体混合物、例えばガス混合物を、プラズマを用いて処理するためのプラズマ処理システムを始動させる方法の提供。
【解決手段】マイクロ波電源と、この結合手段内にある絶縁管１６を通って流れる流体混合物特にはガス混合物とを結合させる手段を具備し、結合手段はマイクロ波エネルギーの一部を流体混合物へと伝播させてそこにプラズマを発生させ、それにより流体分子の化学結合を破断させることを可能とし、まずアルゴンが管内へと注入され、次に高圧放電がアルゴンの注入の導入位置の近傍に位置した電極23を使用して放電を点火させるのに十分なマイクロ波出力によって発生させられ、次にアルゴンがプラズマ放電を維持するように処理されるべき流体混合物の注入で徐々に置換される。 （もっと読む）

【課題】高周波プラズマ法による無機材料及び金属材料の製造において、高周波プラズマ中への供給原料を固体粉末とした場合でも原料を安定に供給することができる方法の提供。
【解決手段】原料粉末を高周波プラズマフレーム中に供給して無機材料又は金属材料を製造する方法において、前記原料粉末として、流動性指数が５０以上である粒子粉末を用いることにより、原料を安定に供給することができるため、良好な粒子径分布を有する無機材料及び金属材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】安定で制御可能なプラズマを得ること。
【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成部と、独立して制御可能な第１電力と第２電力をプラズマ生成部に付与する電源と、を備え、第１電力は、プラズマを始動する高電圧小電流であり、第２電力は、プラズマを維持する低電圧大電流である、プラズマ生成装置、及び、プラズマガスに高電圧小電流の第１電力を付与してプラズマガスを始動状態にし、プラズマガスの始動状態に低電圧大電流の第２電力を付与してプラズマ状態を維持する、プラズマ生成方法。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で効果的に電極を冷却し、電極の寿命を大幅に伸ばすことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】電極１間にプラズマを発生させ、被処理物を処理するプラズマ処理装置において、電極１に液体を浸潤するように供給する液体供給機構６を設ける。 （もっと読む）