ハイパーサーマル分子状水素を生成する方法を開示し、且つ他の結合を切断することなくC-H結合又はSi-H結合を選択的に切断するためのその使用を開示する。水素プラズマを維持し、プロトンを電場で抽出して、適切な運動エネルギーに加速させる。プロトンはドリフト領域に入り込んで、気相の分子状水素と衝突する。衝突カスケードによって、水素プラズマから抽出されたプロトンのフラックスより何倍も大きいフラックスを有する、ハイパーサーマル分子状水素の高フラックスが生成される。ハイパーサーマル分子状水素とプロトンとの公称のフラックス比は、ドリフト領域の水素圧力及びドリフト領域の長さによって制御される。プロトンの抽出エネルギーは、これらのハイパーサーマル分子によって共有され、その結果、ハイパーサーマル分子状水素の平均エネルギーは、プロトンの抽出エネルギー及び公称のフラックス比によって制御される。ハイパーサーマル分子状水素プロジェクタイルは、電荷を帯びていないので、ハイパーサーマル水素のフラックスを使用して、電気絶縁性生成物と導電性生成物の両方の表面改質を達成することができる。このハイパーサーマル分子状水素の高フラックスを生成する方法を適用して、基材上の望ましい一つ/複数の化学官能性を有する有機前駆体分子(又はシリコーン又はシラン分子)を衝撃すると、C-H結合又はSi-H結合は、ハイパーサーマル水素プロジェクタイルから前駆体分子の水素原子へのエネルギー付与の運動学的選択性のため優先的に開裂される。誘導された架橋反応によって、制御可能な架橋度を有し、且つ前駆体分子の望ましい一つ/複数の化学官能性を保持している安定な分子層が生成される。 （もっと読む）

【課題】放電によるオゾン発生器と吸着による分離および酸素の回収、リサイクルを備えるオゾン発生システムにおいて、ＮＯxなどの望ましくない副生物を生じさせずに、効率よくオゾンを製造する方法と装置を提供する。
【解決手段】オゾン発生器へ導入される酸素流に添加物質としてヘリウムを導入し、発生器の流出物を吸着プロセスへ導く。オゾンの発生及び回収プロセスを維持するのに必要とされる補給ヘリウムと酸素の量を減らすようにされる改良ＰＳＡサイクル。 （もっと読む）

【課題】 低い電圧でプラズマを発生させることができ、プラズマによる表面電極の侵食が抑制された沿面放電型のプラズマ発生体およびプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、セラミックスからなる絶縁基板１と、絶縁基板１の一方主面に設けられた第一電極２１と、絶縁基板１の内部または他方主面に設けられ、第一電極２１の少なくとも一部と対向している対向領域および絶縁基板１の一方主面に垂直な方向から見たときに第一電極２１の外側に延出している延出領域からなる第二電極２２とを備えた沿面放電型のプラズマ発生体であって、絶縁基板１の一方主面に垂直な方向から見たときに、第二電極２２の内側に位置する第一電極２１の周縁部がセラミック被膜４で覆われているとともに、セラミック被膜４とセラミック被膜４から露出する第一電極２１との境界が連続する凹凸形状に形成されている。 （もっと読む）

プラズマ反応器(100)は、反応チャンバーと、上記反応チャンバーと流体連通する1又は複数のプラズマ源(105)を有する。イオン化される材料を含む流体は、上記プラズマ源(105)によって発生するプラズマ形のイオン化された材料が上記反応チャンバー(102)の反応領域に捕集されるようにプラズマ源(105)に供給される。反応産物は、上記プラズマ反応器の連続運転を可能にするように上記反応チャンバー(102)から捕集される。加えて、上記プラズマ反応器(100)は、上記反応チャンバー(102)内の浮流中の微粒子を維持するように構成され、プラズマ反応器が適する処理範囲を広げ、かかる処理の効率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】改質原料ガスの温度が低い場合でも効率的に水素含有ガスを発生させることができるプラズマリアクタを提供する。
【解決手段】流入口２及び流出口３が形成された外枠体１と、一方の端部１１から他方の端部１２まで貫通する流路１３を区画形成する隔壁１４を有し、隔壁１４の一部がプラズマ発生電極であり、流入口２から流入した流体が一方の端部１１から流入し、流路１３内を通過して他方の端部１２から流出し、更に流出口３から流出するように外枠体１の内部に配設された筒状の反応器本体２１と、反応器本体の側面２２の少なくとも一部に沿うように形成され、流入口２から流入した流体を反応器本体２１の側面に沿って流しながら反応器本体２１の一方の端部１１まで導く導入路３１と、反応器本体の側面２２のなかの導入路３１に沿った部分に配設された加熱器３５、及び導入路３１に配設された導入路加熱器３２とを備えたプラズマリアクタ１００。 （もっと読む）

【課題】溶射層を薄く形成するとともに、密着性を向上できる非金属部材からなるシート材を提供するとともに、その溶射方法を提供する。
【解決手段】シート材１０に、プラズマ溶射機で加熱・溶融した粉末状の銅の粒子１３を吹き付ける。シート材１０が、布材の場合、銅の粒子１３の大きさを約０．０５Φｍｍ程度にするとともに、プラズマ溶射ガン２の先端からシート材１０との距離を、２００〜５００ｍｍの範囲に設定し、プラズマ溶射ガン２のトラバーススピードを毎秒５００〜９００ｍｍとする。一方、シート材１０の溶射面には冷却空気２９を吹き付けて、銅の粒子１３がシート材１０に付着する際のシート材１０の温度を、シート材１０が布材や紙材の場合に１５０℃以下、シート材１０が樹脂材の場合に、１００℃以下となるようにする。 （もっと読む）

【課題】大容量の高電圧電源を不要としコストダウンを図る。
【解決手段】
高電圧印加手段２０を設ける。ハニカム構造体４の第１の電極８を高電圧印加手段２０の正電圧供給端子Ｔ１に接続する。ハニカム構造体４の第２の電極９を高電圧印加手段２０の負電圧供給端子Ｔ２に接続する。高電圧印加手段２０のトランジスタＱ１，Ｑ２のベースに駆動パルスＰＳを与え、第１の電極８に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧＋Ｖ１を、第２の電極９に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−Ｖ２を、交互に切り換えて印加する。これにより、第１の電極８と第２の電極９との間に、正電圧＋Ｖ１と負電圧−Ｖ２との差電圧Ｖ１＋Ｖ２（高電圧）が周期的に印加されるものとなり、大容量の高電圧電源が不要となる。 （もっと読む）

本発明は概ね、ナノ粒子、ミクロ粒子、及びナノ粒子／液体溶液（例えばコロイド）を連続的に製造するための方法及び装置に関する。ナノ粒子（及び／又はミクロン・サイズの粒子）は、考えられ得る種々様々な組成、サイズ、及び形状を成す。粒子（例えばナノ粒子）は、好ましくは少なくとも１種の調節可能なプラズマ（例えば少なくとも１つのＡＣ及び／又はＤＣ電源によって生成する）を利用して、液体（例えば水）中に存在（例えば生成させられ、且つ／又は液体に、粒子が存在しやすい性質が与えられる(例えばコンディショニング））させられることになる。このプラズマは、液体の表面の少なくとも一部と連通する。後続の及び／又は実質的に同時に行われる少なくとも１種の調節可能な電気化学処理技術も好ましい。複数の調節可能なプラズマ及び／又は調節可能な電気化学処理技術が好ましい。処理増強剤を単独で又はプラズマとともに利用することができる。半連続法及びバッチ法を利用することもできる。連続法は、少なくとも１種の液体をトラフ部材内に流入させ、トラフ部材を貫流させ、そしてトラフ部材から流出させる。このような液体は、前記トラフ部材内で処理され、コンディショニングされ、且つ／又は影響を与えられる。結果は、液体中に形成された成分を含み、これらの成分は、液体中に存在する、新規のサイズ、形状、組成、濃度、ゼータ電位、及び或る特定の他の新規の特性を有するイオン、ミクロン・サイズの粒子及び／又はナノ粒子（例えば金属系ナノ粒子）を含む。
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【課題】
大気圧プラズマプロセスによる処理を始め、正確に制御可能な比較的簡単な工程のみからなり、大面積化や高スループット製造が可能な微粒子単層膜付き基板の製造方法を提供し、またそれにより製造された微粒子単層膜付き基板を提供する。
【解決手段】
官能基を含む若しくは官能基が合成される環境下で、各種基板１の表面を大気圧プラズマ処理して、表面に官能基が修飾された微粒子固定用基板２を作製する官能基修飾工程と、前記微粒子固定用基板の表面に、直径０．００１〜１０μｍの粒度が揃った微粒子３を分散させた分散液を塗布し、基板表面に均一に伸展して微粒子を整列させて固定する微粒子整列化工程と、二層目以上に余分に付着した多層膜を除去する洗浄工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】超疎水性を得るように、高分子フィルム、繊維、不織布及びこれらの積層体を製造しかつ／または処理する単純かつ安価な方法を提供する。
【解決手段】高撥水性材料を製造する方法が提供される。一実施形態では、本方法は、粒子様のナノサイズの凹凸を含む外表面を有する高分子材料を提供するステップと、外表面を、高エネルギー表面処理によりエッチングするステップと、エッチングされた外表面上に、プラズマフッ素化プロセスによってフルオロケミカルを堆積させるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】消耗部材を用いず、低消費電力で効率よく大量の排水もしくは廃液中の有害有機化合物を安定に分解除去する。
【解決手段】誘電体２被覆棒状電極１を液中に挿入し、誘電体バリヤー放電３を液面上の大気中に形成することにより該液中の有害有機化合物を分解除去する。誘電体バリヤー放電を用いることで電力を節減し、大気圧プラズマを用いることで消耗部材を無くし、棒状電極を用いることにより液面の変動に対して安定なプラズマを維持する。 （もっと読む）

【課題】液体の気化と改質を改質器内で行い、省エネルギー且つ省スペースで、液体を改質することができるリアクタを提供する。
【解決手段】一方の端面から他方の端面まで延びる流体の流路となる複数のセル２を区画形成する隔壁３を有し、側面４に開口部５を有する液体供給穴６が形成された、内部に供給された液体を気化するとともに気化した液体を改質することができるハニカム構造の改質器１と、液体を改質器１内に供給するために液体供給穴６に挿入された液体供給管１１と、改質器１を加熱する加熱装置２１とを備えるリアクタ１００。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット物質の歩留りを向上させ、無駄なく簡単に薄膜を形成するためのターゲット物質含有液体の製造方法、ターゲット物質を含有する薄膜の形成方法、ターゲット物質含有液体を提供する。
【解決手段】 ターゲットを用いたプラズマスパッタリング法を用い、前記ターゲットが配置された処理室と同一の処理室内に配置された液体材料に向けてターゲット物質をスパッタリングすることにより、前記ターゲット物質を前記液体材料中に分散させることを特徴とするターゲット物質含有液体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】金属体とセラミック体との接合部分が、例えば、金属体の放電や排気ガスによって腐食するのを抑制することができ、しかも、金属体とセラミック体とを強固に接合することができるプラズマ発生電極、およびプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】セラミック体２と金属体３とを含む単位電極４を、金属体３が互いに対向するように、少なくとも二つ備え、単位電極４間に電圧を印加することによって当該単位電極４間にプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極１であって、金属体３の金属原子がセラミック体２へ拡散されていることにより、金属体３とセラミック体２とが接合されている。 （もっと読む）

【課題】特別な前処理や後処理を施さずに効率よく、親水性の薄膜をプラスチック基板に成膜することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板Ｓの表面に薄膜を形成する方法であって、真空容器１１の内部に形成された成膜プロセス領域２０Ａでチタンターゲット２２ａ，２２ｂのスパッタ物質を基板Ｓに付着させる工程（Ｓ４）と、真空容器１１の内部に成膜プロセス領域２０Ａとは離間して形成された反応プロセス領域６０Ａで酸素ガスを基板Ｓに接触させ、スパッタ物質の組成を変換させる工程（Ｓ５）とを有し、酸素ガスの導入流量と少なくとも同一流量のアルゴンガスを導入するとともに１ｋＷ以下のプラズマ処理電力を供給した状態で、酸素ガスを基板Ｓに接触させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノ粒子生成技術の内、アークプラズマを利用した技術をより一層改良することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、炉内に設置した両電極間に発生したアークプラズマにより、無機塊状物からナノ粒子を生成するナノ粒子作製装置であって、前記無機塊状物の設置個所にカーボンるつぼが配置され、当該カーボンるつぼに前記無機塊状物を保持させて、前記アークプラズマを発生させ得るようにしてあることを特徴とするナノ粒子作製装置を採用した。また、前記ナノ粒子作製装置を用いたナノ粒子作製方法であって、ナノ粒子生成中の前記炉内の雰囲気は、窒素単独若しくは窒素が５０ｖｏｌ％以上含有されている不活性ガスとしたことを特徴とする手段を用いた。 （もっと読む）

【課題】反応容器内を排気するのに要する時間を短縮でき、減圧条件下で行う処理を効率よく行うことができる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、反応容器１０１の上方に取り付けられた上部真空ポンプ取り付け室１３４と、反応容器１０１の下方に取り付けられた下部真空ポンプ取り付け室１３５とを有する。上部真空ポンプ取り付け室１３２は、反応容器１０１の天井部に設けられた一対の上部真空ポンプ取り付け壁１３４ａ、１３４ｂを有し、真空ポンプ取り付け壁１３４ａ、１３４ｂの少なくとも一方に真空ポンプ１３０、１３１が取り付けられ、下部真空ポンプ取り付け室１３５は、反応容器１０１の底部に縦置き状態で設けられた一対の下部真空ポンプ取り付け壁を１３５ａ、１３５ｂ有し、下部真空ポンプ取り付け壁１３５ａ、１３５ｂの少なくとも一方に真空ポンプ１３２が取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】真空装置等の複雑な装置を必要としない、稼働開始時から均一な品質の薄膜を形成可能な薄膜形成装置及び、薄膜形成方法の提供。
【解決手段】大気圧または大気圧近傍でプラズマを発生させ薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置において、
放電ガスを供給する放電ガス供給手段と、原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
１対の電極と、１対の電極間に高周波電界を発生させる高周波電源と、
前記放電ガス供給手段による放電ガスの供給開始と、前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給開始と、前記高周波電源による電極への高周波電圧の印加開始とを、同時に行なわせる制御手段とを、有することを特徴とする薄膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】成膜効率を向上させることができる薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】ターゲット２９ａ，２９ｂをスパッタして回転ドラム１３に保持され回転する基板Ｓに、目標膜厚よりも薄い膜厚の第１薄膜を形成した後、前記目標膜厚に対して不足する不足分膜厚の第２薄膜を前記第１薄膜に形成する薄膜形成方法であって、第１薄膜の膜厚を測定する光学測定工程と、前記膜厚に基づいて前記第１薄膜を形成した実際の成膜レートを算出する成膜レート算出工程と、前記実際の成膜レートに基づいて前記第２薄膜を形成するのに必要な残成膜時間を算出して成膜時間を調整する成膜時間調整工程とを、有する薄膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン含有ガスの処理装置において、高効率な処理とユーザニーズに沿った装置構造の実現を可能とするハロゲン含有ガスの処理装置を提供するものである。
【解決手段】ハロゲン系ガスを含有するハロゲン含有ガスを供給するハロゲン含有ガス供給手段から供給されるガス流に対して順次直列に接続された、ハロゲン含有ガスを分解したときに生成される副生成物を除去するための洗浄手段３１、ハロゲン含有ガスからハロゲン系ガス以外のガスを分離し、上記ハロゲン系ガスを濃縮するためのガス分離設備３２１、上記ハロゲン系ガスが濃縮されたガスを分解するガス分解器３６、およびガス分解器３６で処理され、排出された処理ガスを洗浄手段３１に戻す排気ガス循環手段３５２を備えたものである。 （もっと読む）