【課題】オゾンよりも短い所定の寿命を有する活性粒子の発生密度および発生効率を向上させることができる活性粒子発生装置を提供する。
【解決手段】接地電極１と、空隙を介して接地電極１と対向し、空隙側の表面が誘電体４で覆われた高圧電極２との間に、高電圧を印加して誘電体バリア放電を生じさせるとともに、空隙に原料ガス８を供給して、誘電体バリア放電により活性粒子を発生させる活性粒子発生装置であって、活性粒子の寿命を、原料ガス８が空隙に滞在する平均時間で除した値が０．１以上１０以下であり、接地電極１および高圧電極２の単位面積に供給される放電電力が、原料ガス流の上流側から下流側に向けて増加されるものである。 （もっと読む）

【課題】物質を加工するか、化学反応を促進するかのいずれかの目的のために、複数の電磁源を物質に結合する方法及び装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波周波数における共振空洞が、導電性金属螺旋１００によって形成され、螺旋の内径は、円筒形共振器４の適切なマイクロ波モードをサポートするように選択される。多重マイクロ波発信源１１、および多重ＲＦ発信源１２が共振構造体に電力を搬送する。処理する材料もしくは反応させる材料７は、円筒形共振器４を通じて共振構造体へ注入され、処理生成物もしくは反応生成物が排出部８で共振構造体から排出される。 （もっと読む）

【課題】種々の分野で利用可能とするべく、大気圧条件下で、新たなガスの供給を行うことなく、低温で、安定的にプラズマを発生させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物をプラズマで処理するプラズマ処理装置１００であって、電源に接続された第１電極１０と、被処理物を設置可能なように、第１電極１０から離間させた状態で対向配置された第２電極２０と、第１電極１０と第２電極２０との間に設けられた第３電極３０と、を備え、第１電極１０と第３電極３０との間にプラズマを発生させるための、パルス発生手段８０を設け、発生した前記プラズマを引き出す引出電圧が、第２電極２０と第３電極３０との間に印加されている。 （もっと読む）

【課題】マスフローコントローラが設置された配管にガス流量計を設けなくてもマスフローコントローラの異常を検出することができるようにする。
【解決手段】ガス導入配管２０は、処理室３にプラズマ生成用のプロセスガスを導入する。圧力調整バルブ５０は、排気管５に設けられている。マスフローコントローラ２は、ガス導入配管２０に設けられており、プロセスガスの流量を調整する。圧力計４は、処理室３内の圧力を検出する。制御部６は、圧力計４の検出値に基づいて圧力調整バルブ５０の開度を制御することにより、処理室３内の圧力を制御する。また制御部６は、マスフローコントローラ２からプロセスガスの流量を示す流量データを受信し、流量データと、電極に高周波が入力されたときの圧力計４の検出値の変動量に基づいて、マスフローコントローラ２の異常の有無を判断する。 （もっと読む）

【課題】イオン種等の荷電粒子の影響を回避し得る反応種生成方法、および反応種生成装置、並びに反応種による処理方法、および反応種による処理装置を提供する。
【解決手段】希ガス１を励起種に励起させるための第１の反応容器１１と、第１の反応容器１１内でプラズマを生成させるための電源１２及び電極１３と、第１の反応容器１１にて希ガス１を励起させるときに生成された荷電粒子が、第１の反応容器１１外に漏れるのを抑制する接地されたメッシュ１４と、第１の反応容器１１にて励起された希ガス１を移送させる流路と、励起された希ガス１とプロセスガス３とが混合される第２の反応容器１６と、プロセスガス３をプロセス領域４に導入するプロセスガス供給流路１５とを備える。プロセス領域４にて、励起された希ガス１によってプロセスガス３から励起された希ガス１に比べて短寿命である反応種を生成する。 （もっと読む）

【課題】エネルギの消費量を著しく増大させたり、処理の絶対量を低下させることなく、簡易な方法及び構造で、プラズマによって行う排ガスの処理効率を向上することができるようにした排ガス処理装置における磁場によるプラズマの制御方法及びそれを用いた排ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】反応管１内に導入した排ガスを、反応管１内に発生させたプラズマにより分解し処理する排ガス処理装置において、反応管１内に磁場を発生させることにより、反応管１内に発生したプラズマの状態を制御する。 （もっと読む）

【課題】大気中に浮遊している繊維状アスベストを、比較的小さなエネルギーをもって溶融塊合或いは球状化するものであり、大気中の浮遊量を低減し、例え人体の中に取り入れられることがあっても、これが肺に突き刺さってしまうことがないように処理する方法を提供する。
【解決手段】アスベスト浮遊物のプラズマによる処理法であって、マイクロ波プラズマにあっては、マイクロ波発信器と、導波管と、を備えたマイクロ波発生装置に対し、導波管の先端の共振器内に放電管を配置してマイクロ波プラズマを発生させ、当該放電管内にアスベスト浮遊物として含む大気を導入して、マイクロ波プラズマからの熱及び発生する活性種によって、前記アスベスト浮遊物を変性（非針状化、無害化）する。 （もっと読む）

粒子捕集装置が開示される。該装置は、入口ポート、捕集ポート、前記入口ポートおよび前記捕集ポート間に構成されたバグハウス、および前記バグハウスに連結された真空ポートを備えるバグハウスハウジングを含む。前記装置はまた、前記捕集ポートに連結された捕集機構と、前記バグハウスに連結された圧縮機構と、を含む。
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【課題】異常放電の発生を抑えつつ、処理対象ガスの処理を継続し、未処理のガスが残らないようにする。
【解決手段】高電圧印加部２０を設ける。ハニカム構造体４の第１の電極８を高電圧印加部２０の正電圧供給端子Ｔ１に接続する。ハニカム構造体４の第２の電極９を高電圧印加部２０の負電圧供給端子Ｔ２に接続する。制御部ＣＮＴよりスイッチング用集積回路ＩＣ１，ＩＣ２に対して駆動パルスＰＳ１，ＰＳ２を出力し、第１の電極８に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧＋Ｖ１を、第２の電極９に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−Ｖ２を、交互に切り換えて印加する。異常放電検知部２１を設け、第１の電極８と第２の電極９との間の異常放電の発生を検知した場合、その異常放電の発生量に応じて、第１の電極８と第２の電極９への高電圧の休止期間を自動調整する。 （もっと読む）

【課題】大容量の高電圧電源を用いることなく、高いガス処理能力を得る。
【解決手段】高電圧印加手段２０を設ける。ハニカム構造体４の第１の電極８を高電圧印加手段２０の正電圧供給端子Ｔ１に接続する。ハニカム構造体４の第２の電極９を高電圧印加手段２０の負電圧供給端子Ｔ２に接続する。制御部ＣＮＴよりスイッチング用集積回路ＩＣ１，ＩＣ２に対して駆動パルスＰＳ１，ＰＳ２を出力し、第１の電極８に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧＋Ｖ１を、第２の電極９に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−Ｖ２を、交互に切り換えて印加する。この際、駆動パルスＰＳ１のオンタイミングに対して駆動パルスＰＳ２のオンタイミングをＴＣ時間遅延させることにより、この遅延時間ＴＣの間、第１の電極８と第２の電極９との間に、正電圧＋Ｖ１と負電圧−Ｖ２との差電圧Ｖ１＋Ｖ２（高電圧）を印加させる。 （もっと読む）

【課題】排ガスの浄化システムに利用した場合に、その浄化システムをできるだけ小型化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】 本発明の放電装置は、第１誘電性部材と、空間を介して第１誘電性部材に対向する第２誘電性部材と、第１誘電性部材の内部又は表面に設けられ、交流電位に応じて空間にプラズマを発生させ、直流電位に応じて空間に電界を生じさせる第１電極群と、第２誘電性部材の内部又は表面に設けられ、交流電位に応じて空間にプラズマを発生させ、直流電位に応じて空間に電界を生じさせる第２電極群と、第１電極群および第２電極群の一方に交流電位を供給し、第１電極群および第２電極群の他方に直流電位を供給し、第１電極群と第２電極群との間で交流電位と直流電位とを切り換える切換部とを有する。 （もっと読む）

【課題】現場に設置する際、現場の設備の上流／下流の方向を意識する必要をなくす。
【解決手段】風向センサ１３を設け、この風向センサ１３が検出する処理対象ガスＧＳの流れ方向を示す信号Ｓ１を制御部１２へ送る。制御部１２は、風向センサ１３によって検出される処理対象ガスＧＳの流れ方向に基づいて、上流側に位置するハニカム構造体群２Ａよりも下流側に位置するハニカム構造体群２Ｂに印加される高電圧の値を高くするように、高電圧源１１からの高電圧Ｖ１，Ｖ２の出力状況を制御する。 （もっと読む）

【課題】高電圧の休止期間を設けて、省エネルギーを図る。
【解決手段】高電圧印加部２０を設ける。ハニカム構造体４の第１の電極８を高電圧印加部２０の正電圧供給端子Ｔ１に接続する。ハニカム構造体４の第２の電極９を高電圧印加部２０の負電圧供給端子Ｔ２に接続する。制御部ＣＮＴよりスイッチング用集積回路ＩＣ１，ＩＣ２に対して駆動パルスＰＳ１，ＰＳ２を出力し、第１の電極８に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧＋Ｖ１を、第２の電極９に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−Ｖ２を、交互に切り換えて印加する。この際、駆動パルスＰＳ１のオンタイミングに対して駆動パルスＰＳ２のオンタイミングをＴＣ時間進ませることにより、第１の電極８への正電圧＋Ｖ１が接地電位に立ち下がった状態と第２の電極９への負電圧−Ｖ２が接地電位に立ち上がった状態とが重なる期間（高電圧の休止期間）を設け、第１の電極８と第２の電極９との間に電圧が印加されないようにする。 （もっと読む）

【課題】表面側に位置する誘電体の表面に水滴が付着した場合においても、一様な電界強度分布を維持して、均一な速度分布を有する誘起気流を発生させることができる気流発生装置を提供する。
【解決手段】気流発生装置１０は、固体からなる誘電体２０と、誘電体２０の一方の表面に設けられた第１の電極３０と、誘電体２０の他方の表面近傍に、第１の電極３０に対設された第２の電極３１と、誘電体２０の一方の表面上に形成され、付着した水滴を均一な厚さの液層とする均一液層形成層４０とを備える。気流発生装置１０は、第１の電極３０と第２の電極３１との間に電圧が印加されることで、誘電体２０の一方の表面近傍の気体の一部をプラズマ化し気流を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 低い電圧でプラズマを発生させることができ、プラズマによる表面電極の侵食が抑制された沿面放電型のプラズマ発生体およびプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、セラミックスからなる絶縁基板１と、絶縁基板１の一方主面に設けられた第一電極２１と、絶縁基板１の内部または他方主面に設けられ、第一電極２１の少なくとも一部と対向している対向領域および絶縁基板１の一方主面に垂直な方向から見たときに第一電極２１の外側に延出している延出領域を有する第二電極２２とを備えた沿面放電型のプラズマ発生体であって、第二電極２２に対向する第一電極２１の周縁部が多数の孔４１を有するセラミック被膜４で覆われている。 （もっと読む）

【課題】 分散性が良好で成形体の高密度化が可能なセラミックス粉末を提供する。
【解決手段】 ラジカル種を生成可能な液体状の媒質中に、表面修飾剤によって予め修飾された原料セラミックス粉末を投入し、前記原料セラミックス粉末が投入された前記媒質を流動させた状態で、当該媒質中にて前記ラジカル種を生成する。 （もっと読む）

ナノ粉末の生成および材料処理のためのプロセスおよび装置が、本明細書で説明されている。プラズマを発生させるためにプラズマトーチを備えるトーチ本体と、プラズマ放電を受け取るためにトーチ本体と流体連結し、さらに急冷部と流体連結している反応炉部と、反応炉部と熱的に連結している少なくとも1つの加熱要素とを備え、その少なくとも1つの加熱要素が反応炉部内の温度を選択的に調節すること可能にするプラズマ反応炉が、本明細書で説明されている。
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【課題】改質反応の反応効率に優れ、大量の改質ガスを生成させることができることに加え、消費電力を低減でき、電極に対する負荷を軽減して電極の耐用時間を延長することも可能なリアクタを提供する。
【解決手段】被改質ガス２の導入口４及び改質ガス６の排出口８が形成された反応容器１０と、プラズマを発生させる一対の電極１２と、一対の電極１２に対して電圧を印加する電源１４と、改質反応を促進する触媒とを備え、一対の電極１２の一方が線状電極３２であるとともに、一対の電極１２の他方は導電性セラミックスからなるハニカム電極３４であり、触媒はハニカム電極３４の隔壁に担持されており、線状電極３２とハニカム電極３４との間に、ハニカム電極３４のガス導入端面側に突出された、プラズマ発生領域４２以外の領域を通過した被改質ガス２の流入を遮蔽する遮蔽部材３０Ａを更に備えたリアクタ１Ａ。 （もっと読む）

【課題】金属ロッドから成り、マイクロ波発生装置から導波管を介して伝搬されるマイクロ波を前記ロッドの一方側で受信し、他方端側では同心状に形成される接地側の電極との間で放電を行うことでプラズマを発生させるプラズマ電極において、長寿命化を図る。
【解決手段】ロッド状のプラズマ電極４０の上方側のアンテナ４１の部分が導波管２０の導波空間Ｈに配置されてマイクロ波を受信する一方、前記プラズマ電極４０の下方側が内側電極４２となり、それに外側電極３１が同心状に配置され、それらの間の内部空間３２にガス供給孔３５から供給される処理ガスを前記マイクロ波でプラズマ化するプラズマ発生ノズル３０において、前記内側電極４２の下方端４２１にセラミック溶射層４９を形成する。したがって、前記セラミック溶射層４９が前記下方端４２１に密着して該下方端４２１を安定して覆い、前記放電に対して、金属基材の蒸発や酸化を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】 非平衡プラズマによる難分解性廃液の分解処理に係り、有機塩素化合物の分解に好適な無害化処理装置を提供する
【解決手段】 非平衡プラズマを利用して有機塩素化合物を含有した難分解性廃液を分解処理する処理装置Ａにおいて、前記廃液を投入する廃液供給部３と、マイクロ波発生装置１によって生成されるマイクロ波を前記廃液に照射してプラズマと反応させるプラズマ反応部Ｘと、該プラズマ反応部Ｘに反応ガスを供給する反応ガス供給部４と、プラズマで分解された前記廃液を捕集する捕集部７を備えて構成した。 （もっと読む）