【課題】 本発明は、その中で大気圧プラズマを生成させる絶縁管を冷却するシステムを提供する。
【解決手段】 半導体プロセス機器の排出口から再生ラインに使用済みプロセス流体を通流させ、前記半導体プロセス機器の排出口から前記使用済みプロセス流体を再生し、 前記再生ラインに接続された流体センサで前記使用済みプロセス流体の状態を測定し、前記流体センサから制御器へ前記プロセス流体の状態を表わす信号を送るとともに、該信号が所定範囲内にあることを設定し、前記信号が前記所定範囲内に入る場合は前記半導体プロセス機器に前記使用済みプロセス流体を回収し、また前記信号が前記所定範囲から外れる場合は前記使用済みプロセス流体の少なくとも一部をシステムドレインに流す。 （もっと読む）

【課題】万が一シャワープレートが割れても、毒性ガスが装置外部に放出するのを防止することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】チャンバー１とスペーサ１ｂとアッパープレート１ａとから構成される処理容器の上部開口を閉鎖するようにシャワープレート７を配置し、シャワープレート７の開口部９からチャンバー１内にプラズマ励起用ガスを放射する。シャワープレート７の外側に配置されたスロットアンテナ１２にマイクロ波を供給してプラズマを発生し、スペーサ１ｂの内壁と、シャワープレート７の外周面との間の第１の隙間１６、スロットアンテナ１２の放射面と誘電体カバープレート６との間の第２の隙間１９の大気をガス排気口１８，２２からガス吸引装置２８により吸引し、ガス除害装置２９により毒性ガスを除害することにより、シャワープレート７が割れても有毒な毒性ガスがプラズマ処理装置５０の周辺に放出されることがない。 （もっと読む）

【課題】真空装置中の全圧を制御しつつ気体供給路を短時間で変更できる調圧機能付高速ガス切替装置とする。
【解決手段】第１流量制御バルブを介して第１供給ガスを真空装置に供給する第１管路と、第２流量制御バルブを介して第２供給ガスを供給する第２管路とを第１三方向バルブで連結して、第１供給ガスと第２供給ガスのいずれかのガスを第１三方向バルブから第３流量制御バルブを介して真空装置に供給可能とする。また、第２管路の第２流量制御バルブと第１三方向バルブとの間の管路と、第４流量制御バルブを介して排気する排気管路とを第２三方向バルブで連結するとともに、排気管路の第４流量制御バルブと第２三方向バルブとの間の管路に前記第１管路から分岐した管路を連結して、第１供給ガスと第２供給ガスのいずれかのガスを第４流量制御バルブを介して排気可能とする。 （もっと読む）

物質又は物質混合物をプラズマ反応器中に導入し、この物質又は物質混合物を高エネルギー相に変換させ、かつ生成物を気体の形でプラズマ反応器から取り出す、物質及び物質混合物の相転移方法に関する。この方法は、金属塩、金属硝酸塩及び／又は金属アルコキシド及び他の気化可能な金属有機化合物の昇華のために使用することができる。
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【課題】長時間に渡って付着物が真空容器の内壁面に付着することを防止でき、しかも成膜された無機膜の機能（例えばガスバリヤー膜としての機能）を損ねることがない。
【解決手段】排気系統２０を備えた真空容器２２内に原料ガスを導入すると共に、真空容器２２内に発生させたプラズマによる気相反応によってフィルム１２（基板）上に無機膜を成膜するプラズマＣＶＤ工程を備えた成膜方法において、プラズマＣＶＤ工程では、真空容器１２内の内壁面温度を、無機膜が成膜されるフィルム１２の基板温度よりも５０℃以上、２００℃以下の範囲で高い温度に維持した状態で成膜する。 （もっと読む）

【解決課題】様々な放電形式の適用や放電場への触媒の充填などを必要とすることなく、プラズマを化学反応に応用することができる方法を提供する。
【解決手段】反応空間に放電プラズマの領域を形成し、前記反応空間に原料である化学物質を供給し、前記反応空間に音源から音波を供給して、前記放電プラズマの領域で前記化学物質に及ぼす反応を促進させる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高い濃度で銀を担持させることを可能にする、プラスチックへの銀担持方法を提供する。
【解決手段】プラスチックに対して、銀を含有するプラズマを照射するプラズマ照射工程を行って、プラズマ照射工程で照射したプラズマの銀をプラスチックに担持させる。 （もっと読む）

【課題】汚染された水などの液体を浄化するにあたり、オゾンやＯＨラジカルを用いてより一層効率良く行える浄化装置を提供することを課題とする。
【解決手段】浄化原料ガスを導入し、浄化原料ガスが対向する電極に発生するプラズマによりオゾンおよびＯＨラジカルを生成させる第１の領域と、汚染液体を流し、汚染液体が流れる流路中に少なくとも一部が光触媒処理された部材を有する第２の領域と、を有し、生成されたオゾンおよびＯＨラジカルを前記第２の領域に導入し、光触媒処理された部材に、プラズマの発光に起因する光が照射されることを特徴とする浄化装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】処理された材料の質量損失が減少され、反応器の動力技術特性値が反応器に当達する粒子の寸法に依存する材料の選択的プラズマ処理によって改良され得る方法と装置を提案させること。
【解決手段】プラズマ内で分散材を処理する方法において、プラズマ形成ガスが反応室へ導入されてイオン化され、分散材が反応室へ導入され、プラズマの領域においてプラズマの作用の下で処理され、続いてプラズマの領域から取り出され、プラズマ形成ガスの導入と分散材の導入が互いに独立して且つ異なる方向から実行されることを提案される。
プラズマ内で分散材を処理する装置において、プラズマ発生器を有する反応室から成り、反応室がプラズマ形成ガス用の第一入口と分散材用の第二入口とを有し、第二入口が第一入口に関して空間的に分離されて位置されるので、分散材が外側からプラズマへ案内されることを提案される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ反応器だけのシンプルな構成で、高い粒子状物質の除去率を持ち、かつ圧力損失を抑え、更に、製作の容易さも兼ね備えたディーゼル排気ガス中の粒子状物質除去装置。
【解決手段】多数の孔９を有する金属製の放電電極１０の下面に誘電体１１を積層して平板状の複合放電板７を形成し、該複合放電板７を多段に配してその間に処理ガス流路を兼ねるプラズマ放電空間８を設け、前記放電電極１０の孔９に転動体１２を充填させたプラズマ反応器５を形成し、かつ、該プラズマ反応器５を処理ガスが通過する函体２内に設ける。 （もっと読む）

【課題】低電圧でプラズマを放電空間に発生させることが可能な誘電性構造体を提供する。
【解決手段】誘電性構造体は、互いに対向する表面を備えた２つの誘電体３と、各誘電体の内部にそれぞれ設けられた導電体４と、表面同士の間の空間Ｓに設けられた複数の誘電性粒子５とを備える。誘電性粒子５は、対向方向における空間の中央部と２つの誘電体３のうち少なくとも一方との間に設けられ、中央部から誘電体３に向かうにつれて、粒径が小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】処理を行う流体の条件によって、各放電空間内のプラズマ密度をり最適化し、消費電力を低減することが可能なプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】一方向に配列された複数の誘電体と、該各誘電体の内部に配設された導電体とを有し、導電体間に電圧を印加することにより誘電体間にプラズマを発生可能なプラズマ発生体であって、誘電体は、３つ以上であり、導電体は、所定の間隔で配置されており、互いに隣接する少なくとも１組の誘電体対における誘電体間の距離が、他の組の誘電体対における誘電体間の距離と異なる。 （もっと読む）

【課題】本発明のプラズマスクラバーは、電力消耗を減らしながら、反応炉内に高い温度雰囲気を形成して、難分解性気体を効果的に分解除去する。
【解決手段】本発明のプラズマスクラバーは、難分解性気体が供給される第１反応炉１０、前記第１反応炉１０内に設置され、前記難分解性気体の流れ方向に突出形成され、前記第１反応炉１０との放電によって前記第１反応炉１０との間に供給される前記難分解性気体にプラズマを発生させる電極４０、前記第１反応炉１０に連結装着され、前記プラズマが前記電極４０に付着して（anchoring）連続的なアークジェットを形成する第２反応炉２０、及び前記第２反応炉２０に連結装着され、前記第２反応炉２０で電子及び反応性の高い化学種を含む高温の反応部を形成して、滞留時間増加及び反応性を高め、前記難分解性気体を分解する第３反応炉３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】通流する流体を濾過するフィルタをプラズマにより洗浄又は滅菌するフィルタ処理装置を提供する。
【解決手段】通流する流体を濾過するフィルタに隣接してフィルタ処理装置１を配設し、このフィルタ処理装置１で発生したプラズマでフィルタを洗浄及び／又は滅菌するようにしているので、空気調和機、滅菌装置等の本体装置からフィルタを取外すことなく機器内部設置した状態でフィルタ自体を確実に洗浄及び／又は滅菌できる。 （もっと読む）

【課題】 誘電体に付着するＰＭ（粒子状物質）を効率よく除去し、優れた排気ガス浄化性能を長期にわたって実現することのできる排気ガス浄化装置を提供すること。
【解決手段】 排気ガス浄化装置１において、誘電体１２と、この誘電体１２を挟んで対向する１対の電極１３（浄化時高電圧極４３および浄化時接地極３３）とを備えるプラズマ反応器３と、プラズマ反応器３よりも排気ガスの流れ方向上流側に、清掃用電極２４を配置する。そして、電極１３と清掃用電極２４との間で放電させることによりプラズマを発生させ、このプラズマ中の活性種により誘電体１２の清掃処理を行なう。 （もっと読む）

【課題】 消費エネルギーやコストの上昇を抑制しつつ、排気ガスを良好に浄化することのできるプラズマ反応器を提供すること。
【解決手段】 誘電体１２と、この誘電体１２を挟んで対向する１対の電極１３（高電圧極４３および接地極３３）とを備えるプラズマ反応器３において、相対的に比誘電率が高い高誘電板１６と相対的に比誘電率が低い低誘電板１７とを、誘電体１２の電極１３との対向方向に沿って配置することにより、全体として誘電体１２を形成する。そして、高誘電板１６の配置される側が、排気ガスの流れ方向上流側になるように、プラズマ反応器３を設置する。 （もっと読む）

【課題】 現行のジーゼル排気のＰＭ除去プロセスの主流はフィルター方式である。この方式は白金や希土類元素よりなる酸化触媒の併用によってＰＭ除去効果を維持しているが、フィルター方式の持つ宿命的な目詰まりの発生を完全には避けられず、又希少金属の価格高騰と入手困難性がますます増加する国際資源情勢からフィルター方式からの脱却が目論まれている。
【解決の手段】 大気圧マイクロ波プラズマ発生装置の一つ又は複数個のハイブリッドモード型共振器の中心軸を通るセラミックス製反応管内を流れる排気を各共振器においてプラズマ化し、排気中のＰＭを燃焼除去する。プラズマの先端付近の反応管径を拡大して排気流速を減ずると共に乱流を発生させる物体を装着した燃焼室を配置してＰＭの着火遅れを防止し、燃焼を促進する。必要に応じてこのシステムを多段階に行えば排気ＰＭの燃焼除去は確実に遂行できる。 （もっと読む）

【課題】環境負荷が小さくかつ効率の良い窒化処理法（材料を窒化する方法）を提供する。
【解決手段】窒素を少なくとも含む原料ガス４０を用いて発生させた大気圧プラズマジェット２を材料（ＴｉＯ₂膜３２が表面に形成されたガラス基板３０）に照射する。大気圧プラズマジェット２内部では、高電圧パルス放電により、窒素分子が電離されるだけでなく効率よく解離されて、高濃度の窒素原子が生成される。窒素を少なくとも含む原料ガス（空気でも良い）４０を用いる大気圧プラズマジェット２を材料表面に照射させると、プラズマフレームに含まれている高密度の窒素原子が材料表面を短時間のうちに窒化する。 （もっと読む）

【課題】大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】一辺に刃部を設けた複数の板状のアノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6を、互いの主面を対向させて並列配置した分割型アノード電極と、アノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6のそれぞれの刃部に対向して配置されたカソードとを備える。アノード埋込ブレードのは、板状のアノード誘電体と、このアノード誘電体の内部に埋め込まれたアノードメタルからなる。複数のアノード埋込ブレードは、長手方向の両端部において、スペーサブロック７１₁〜７１₆，７３₁〜７３₆，７２₁〜７２₆，７４₁〜７４₆を挟む。 （もっと読む）

【課題】 ダイオキシンを含んだ被処理物質の浄化処理を簡便かつ安価に行なうことができる物質浄化処理方法と、それに用いる物質浄化装置とを提供する。
【解決手段】 プラズマ発生電極１，１にプラズマ発生用電圧を印加してプラズマＰを発生させ、そのプラズマＰ中にダイオキシンを含有した気体状の被処理物質Ｇを導入する。これにより、ダイオキシンを主にダイオキシン以外の有機物に転化して、被処理物質Ｇ中のダイオキシン含有量を減少させる。 （もっと読む）