【課題】液体の前進および停止を任意のタイミングで制御することが可能な、コンパクトな流路チップ１００を提供する。
【解決手段】流路チップ１００は、第１開放路１１２、第２開放路１１３、第１導入路１０２、第１合流路１０３、及び、第１交差位置と第２交差位置との間、あるいは、第２交差位置に配設され、第１導入路１０２および第１合流路１０３から流路１１４へ導入される液体の流れを制御するバルブ１４１を備える。 （もっと読む）

【課題】異なる種類の溶液、微粒子または気体を精度良く噴霧することができ、厚さが均一な交互吸着膜を成膜できる噴霧装置を提供する。
【解決手段】噴霧部１では、同様の構成をした３つのノズル（アニオン溶液を噴霧するアニオン用ノズル１３、カチオン溶液を噴霧するカチオン用ノズル１１、リンス溶液を噴霧するリンス用ノズル１２）が同一の水平方向に向いてノズル配置部１４に配置されている。これらのノズル間の間隔に関する間隔情報に従って各ノズル夫々に応じて補正された経路でノズル配置部１４を移動させながら、各ノズルが対応する溶液を噴霧する。 （もっと読む）

【課題】ＮＯ_２ガスを生成するプラズマ発生ノズルにおいて、電極交換を容易にする。
【解決手段】同心状に配置される内側電極３５および外側電極３６を有し、導波管６２を介して伝搬されるマイクロ波を内側電極３５で受信することで電極３５，３６間にグロー放電を発生させ、電極３５，３６間に供給される空気をプラズマ処理してＮＯ_２ガスを生成するプラズマ発生ノズル３１において、損耗する内側電極３５を交換可能にするために、該内側電極３５を、絶縁性を有する材料から成り、円筒状に形成される保持部材３７によって保持する。そして、保持部材３７の外周面と外側電極３６の内周面との間を、処理されたガスが漏れないようにＯリングなどの無端環状のシール部材３７３でシールするにあたって、そのシール部材３７３を保持部材３７側の周方向に形成した凹溝３７１１に嵌め込むようにする。したがって、保持部材３７ごとシール部材３７３を取り外せる。 （もっと読む）

【課題】処理対象のガス成分を含むガスに対して電圧を与えて大気圧中でプラズマ発生させるとき、ガスを効率よく処理するプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置は、電力が給電される棒状電極と、内部空間を備え、前記棒状電極が前記内部空間内に設けられる金属製の筒状筐体と、を有する。前記棒状電極の第１の端部には、前記筒状筐体の一方の端部の第１の端面に対向し、前記第１の端部を保護するように電極側誘電体バリア層が設けられ、前記筒状筐体の前記第１の端面には前記ガスを供給する供給口が設けられ、前記筒状筐体の前記第１の端面には前記供給口の周りを覆うように筐体側誘電体バリア層が設けられる。前記棒状電極の前記第１の端部における周上エッジ部分を、前記筒状筐体の前記第１の端面上に前記長手方向に平行に投影したとき、前記周上エッジ部分は前記筐体側誘電体バリア層上あるいは前記供給口上の領域に投影される。 （もっと読む）

【課題】
比較的、長寿命、省エネルギーおよびオゾン発生の抑制が可能であり、かつ、被処理物に対して適切に紫外線照射を行うことができる光照射装置、光照射モジュール、および印刷装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の相対的に移動する対象物に光を照射するための光照射装置によれば、複数の発光素子を配列してなる発光手段と、前記対象物の有無を検出するための検出手段と、該検出手段の検出結果に応じて前記発光素子の発光を制御する制御手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】粒径が小さく、粒径のばらつきが小さい微粒子を製造することができる製造装置および微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】微粒子の製造装置は、微粒子製造用の原料を熱プラズマ炎中に間歇的に供給する原料供給手段と、内部に熱プラズマ炎が発生されるものであり、原料供給手段により間歇的に供給される原料を熱プラズマ炎で蒸発させて気相状態の混合物とするプラズマトーチと、プラズマトーチの内部に熱プラズマ炎を発生させるプラズマ発生手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】ＴＣＰ窓を過度に腐食させることなく導電性の反応生成物の堆積を防止する。
【解決手段】誘電結合型プラズマエッチング装置は、チャンバと、チャンバ頂部の開口部を封止するための窓とを備える。窓は、チャンバの内部領域に露出した内面を有する。ファラデーシールドとして機能する金属板は、窓の上方に窓から離れて設置される。コイルは、窓の内面がスパッタリングされるのを最適に低減し、それと実質同時に、窓の内面上にエッチング副産物が堆積されるの防ぐような、ピークトゥピーク電圧を生成するように構成された接続位置において、金属板に導電結合される。別の実施形態において、この装置は、金属板に外部からピークトゥピーク電圧を印加するためのコントローラを備える。コントローラは、発振回路と、整合回路と、ＲＦ電源と、印加されたピークピーク電圧をモニタリングするためのフィードバック制御とを備える。 （もっと読む）

【課題】処理塔システムの床圧の動的変化を補償するシステムを提供する。
【解決手段】処理塔システム１０は、入口と、出口と、ピストンヘッド１６と、制御された床圧力をピストンヘッドに、ひいては塔内に配置されている基材床３６に提供するためのピストン圧力室２６と、を含んでいる。追跡調整器５０が、加圧された水圧流体の供給源及びピストン圧力室並びに塔の入口と流体連通している。追跡調整器は、処理塔１２に流入する処理流体流れの圧力を受信する。追跡調整器は、加圧された水圧流体の供給源と流体連通している水圧流体排流口６３を有している。追跡調整器は、処理流体流れの圧力の降下を検出すると、ピストン圧力室からの水圧流体を、加圧された水圧流体の供給源へ向かわせ、処理流体流れの圧力の上昇を検出すると、加圧された水圧流体の供給源からの追加の水圧流体をピストン圧力室に向かわせることにより、基材床の圧力を調節する。 （もっと読む）

【課題】熱伝達媒体と反応器内の媒体との間で熱交換を生じさせることで反応器内の温度を制御する化学プロセスにおいて、熱伝熱媒体の温度および流量に制約がある場合であっても、反応器内の温度を適切に制御することのできる制御方法、システムおよびプログラムを提供する。
【解決手段】熱媒体供給温度予測ロジック７０ａにより算出された熱媒体供給温度の予測値がいずれかの管理区間を逸脱するか否かを判断し、逸脱したタイミングで、温度コントローラ３２に対して設定する原料供給温度目標値を変更する。この際、原料供給温度目標値算出ロジック７０ｂは、原料供給量実績値、反応器温度についての制御偏差、逸脱が予測された管理区間の管理値、および、各管理区間の中央値を用いて、反応器における熱バランスに基づいて、新たな原料供給温度目標値を算出する。 （もっと読む）

【課題】熱伝達媒体と反応器内の媒体との間で熱交換を生じさせることで反応器内の温度を制御する化学プロセスにおいて、熱伝熱媒体の温度および流量に制約がある場合であっても、反応器内の温度を適切に制御することのできる制御方法、システムおよびプログラムを提供する。
【解決手段】設定コントローラ７０は、飽和蒸気圧実績値が所定の操作可能範囲を逸脱したか否かを判断し、逸脱したタイミングで、温度コントローラ３２に対して設定する原料供給温度目標値を変更する。この際、設定コントローラ７０は、原料供給量実績値、反応器温度についての制御偏差、および、飽和蒸気圧実績値（熱媒体供給温度実績値）を用いて、反応器２における熱バランスに基づいて、新たな原料供給温度目標値を算出する。 （もっと読む）

【課題】１つ以上の態様において、工業廃液、例えば、半導体及び液晶表示装置の製造プロセスで生成される廃液を処理するのに用いる熱反応器装置を提供する。
【解決手段】コントローラと、コントローラにより制御されるように用いられる反応チャンバ３２と、反応チャンバへの管と、反応チャンバ内の管の第１の端部に配置されたパイロット１６と、反応チャンバ外の管の第２の端部に配置され、コントローラに結合され、コントローラにパイロットが点灯したかどうかの指示を与えるように用いられるセンサと、管の開閉のために操作可能なアクチュエータとを含むシステムを有する。本発明の数多くのその他の態様が開示されている。 （もっと読む）

【課題】マイクロ化学プラント中に発生する気液混合体のプラグフローは、収率の低下につながるので、気液分離が必要である。しかし、従来の知られている分岐管の内壁の濡性を変えたり、気液分離タンクを用いる方法では、気体のプラグフローを精度よく分離し排出することはできなかった。また、導電性の液体ばかりでなく、非導電性の液体でも気液分離が必要であった。
【解決手段】流路中の気体の存在を電気抵抗、静電容量（誘電率）の測定からいずれか１つでも変化した場合は気体が流れていると判断し、分岐路に配置された排気バルブを開く。 （もっと読む）

【課題】低圧蒸気放電灯の消灯時に冷却ベース部の温度及び発光管部の温度を適切に制御する。
【解決手段】発光管部（１０）の端部に発光管内の水銀蒸気圧を制御するための冷却ベース部（１５）を備えた低圧水銀蒸気放電灯（１７）、冷却ベース部を冷却する第一の冷却装置（３１）、発光管部を冷却する第二の冷却装置（３２）、点灯信号及び消灯信号を受けて低圧水銀蒸気放電灯の点灯及び消灯を行なう点灯装置（２０）、並びに第一の冷却装置、第二の冷却装置及び点灯装置を制御する制御部（４０）を備えた紫外線照射装置において、制御部が、消灯信号を受けると、放電灯を点灯させたまま冷却ベース部の温度と発光管部の温度の温度勾配が小さくなるように第一の冷却装置及び第二の冷却装置の動作状態を制御した後に、点灯装置に低圧水銀蒸気放電灯を消灯させるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】液体の温度を迅速に変化させるのに適した温度制御装置および温度制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の温度制御装置Ｘ１は、液受容体４０に当接してこれを保持可能であり且つ液受容体４０内の液体の温度を目標低温度に保つための第１温度を維持可能な保持手段１１と、目標低温度より高い目標高温度より高い第２温度を維持可能な、液受容体４０に当接して液体を昇温するための加熱ブロック１２と、目標低温度より低い第３温度を維持可能な、液受容体４０に当接して液体を降温するための冷却ブロック１３とを備える。本発明の方法は、例えば、保持手段１１に保持された液受容体４０に加熱ブロック１２を当接させて液体を昇温させる昇温工程と、保持手段１１に保持された液受容体４０に冷却ブロック１３を当接させて液体を降温させるための降温工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 暴走反応を抑制し、反応容器の運転停止と洗浄を不要とすると共に反応外異物の添加による容器内の汚染を回避することの可能な発熱反応の反応制御法を提供する。
【解決手段】 Ａ）反応容器内で発熱反応を実行する工程、Ｂ）反応容器内の温度／圧力を計測する工程、Ｃ）温度／圧力が閾値を超えたときに既に発熱反応で生成された不活性な反応生成物を貯留容器から反応容器内に導入する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】ロータリー式切替えバルブが組み込まれた流路基板を処理する装置において、基板とロータとの間に挟み込まれているシール板のずれを抑制してポートと流路の良好な接続を維持する。
【解決手段】ロータ６を回転駆動するためのロータ回転機構１８は制御部２６により制御されている。制御部２６は、ロータ６の回転による流路接続の切替えの全行程を通してロータ６が連続で一方向へ限界回転角度以上回転することなく流路接続の切替え動作を行なうようにロータ回転機構１８を制御する。 （もっと読む）

【課題】 装置の低コスト化及び小型化を実現するとともに、不純物の混入がない高品質の金属ナノ粒子及び金属担持物を生成でき、かつ、この生成を、高速で、短時間に、十分な量で得ることができる。
【解決手段】 溶液に所定の処理を行って金属ナノ粒子又は金属担持物を生成する液中プラズマ処理装置１であって、溶液が収められた容器３０と、マイクロ波を出力するマイクロ波発振器１０と、マイクロ波を溶液に与えて該溶液内にプラズマを励起させる電極４２とを備え、この電極４２が、プラズマの励起によりナノ粒子となる金属で形成された。 （もっと読む）

【課題】粒子径が小さく結晶性に優れた粉体を製造すること。
【解決手段】反応環境生成工程において、原料と、水単独の場合よりも低い圧力および温度で超臨界状態になる溶媒とを混合させて作製されたスラリーを加熱する。そして、少なくとも加熱することにより昇温および昇圧させたスラリーに水を含む反応加速剤を混合させて、亜臨界状態または超臨界状態の反応環境を生成する。粉体生成工程においては、生成された反応環境にスラリーを所定時間滞在させて粉体の粒子を生成するとともに、所定時間が経過した後、粉体粒子の成長を停止させる。 （もっと読む）

【課題】未溶解炭酸ガスを帯水層に安定的かつ長期的に貯留・隔離するとともに、溶媒の使用量を大幅に削減する。
【解決手段】帯水層内において、注入井の周囲に炭酸ガス溶解水とともに、未溶解炭酸ガスを貯留・隔離する第１貯留領域と、この第１貯留領域を取り囲むように略同心円状に炭酸ガス溶解水のみによる第２貯留領域とを夫々形成するように炭酸ガス溶解水と未溶解炭酸ガスとを貯留・隔離する条件の下で、炭酸ガス溶解水に混入する未溶解炭酸ガスの質量割合を下記(1)〜(3)の手順によって決定する。(1)帯水層の間隙体積に占める貯留可能な未溶解炭酸ガスの体積割合として定義付けられる炭酸ガスの体積飽和率を測定する。
(2)前記第１貯留領域の体積と、前記第２貯留領域の体積とを設定する。
(3)前記炭酸ガスの体積飽和率と前記第１貯留領域及び第２貯留領域の体積とに基づいて、炭酸ガス溶解水に混入する未溶解炭酸ガスの質量割合を決定する。 （もっと読む）

【課題】マスフローコントローラが設置された配管にガス流量計を設けなくてもマスフローコントローラの異常を検出することができるようにする。
【解決手段】ガス導入配管２０は、処理室３にプラズマ生成用のプロセスガスを導入する。圧力調整バルブ５０は、排気管５に設けられている。マスフローコントローラ２は、ガス導入配管２０に設けられており、プロセスガスの流量を調整する。圧力計４は、処理室３内の圧力を検出する。制御部６は、圧力計４の検出値に基づいて圧力調整バルブ５０の開度を制御することにより、処理室３内の圧力を制御する。また制御部６は、マスフローコントローラ２からプロセスガスの流量を示す流量データを受信し、流量データと、電極に高周波が入力されたときの圧力計４の検出値の変動量に基づいて、マスフローコントローラ２の異常の有無を判断する。 （もっと読む）