特定の実施形態では、ガスストリームから汚染物質を除去する際に使用するための装置が提供される。該装置は、複数の積層多孔性セラミックリングから形成された熱反応ユニットを含む。該多孔性セラミックリングの第１は第１の熱膨張係数（ＣＴＥ）を有しており、該多孔性セラミックリングの第２は第２のＣＴＥを有している。他の態様も提供される。 （もっと読む）

【課題】線状に連続する被処理物の表面を効率良く連続的にプラズマ処理することができる、プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】実質的に細長い開口１１を有するプラズマ処理ヘッド１０を備える。プラズマ処理ヘッド１０の開口１１は、連続する被処理物４が真っ直ぐに延在する部分において、被処理物４の表面５に沿って被処理物４の延在方向と略平行かつ被処理物４の表面５との間に隙間を設けて延在するように、配置される。被処理物４が被処理物４の延在方向にプラズマ処理ヘッド１０の開口１１に対して相対的に移動するとき、プラズマ処理ヘッド１０は、開口１１から、プラズマ化した処理ガスを被処理物４の表面５に吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】マイクロビーズ生成後にソーティング操作を行なわなくても、単一工程で粒径の均一なマイクロビーズを簡便に製造することができ、少量を手軽に作製することが可能なマイクロビーズの製造方法を提供すること。
【解決手段】マイクロビーズの製造方法は、固体形成性Ａ液と、該固体形成性Ａ液と接触すると固体を生成する固体形成性Ｂ液とを混合してマイクロビーズを製造する方法であって、前記固体形成性Ａ液の液滴を、インクジェット法により、前記固体形成性Ｂ液の外部から前記固体形成性Ｂ液に噴射することによりマイクロビーズを生成させることを含む。 （もっと読む）

本発明は、カラム反応器を頂部反応区画および底部区画に分割する噴霧板を有するカラム反応器を備えた気泡塔反応器において、フラッシング媒質を導入し廃棄するための入口ラインおよび出口ラインが底部区画（４）に連結されていることを特徴とする気泡塔反応器、およびその動作方法に関する。
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【課題】オゾンやラジカル酸素等、高濃度の紫外線照射済ガスを生成するガス用紫外線照射装置と、該装置を用いたドライ表面処理装置。
【解決手段】ランプハウス２と、上方からガスを供給する供給部５と、供給ガスに紫外線を照射する複数本のＵＶランプ４と、下方から紫外線照射済ガスを排出する排出部６とを有し、複数本の紫外線放射部３を間隔をあけ平行してランプハウス内の全体にほぼ均一に前後は上下に段違いに上から見て前後の間隙がないよう配し、前後の壁面８と紫外線放射部３の間隔がＵＶランプ４で通過ガスを変質できる有効照射距離以内であるガス用紫外線照射装置１。この装置を用いて生成排出した高濃度のラジカル酸素（Ｏ）を被処理体１１に接触させて処理するドライ表面処理装置。酸素（Ｏ_２）またはオゾン（Ｏ_３）を供給し、１８５ｎｍや２５４ｎｍの紫外線を照射し、ラジカル酸素（Ｏ）を生成排出し、高精細な表面処理をすることが可能である。 （もっと読む）

【課題】Ｆ₂ガスとＮＨ₃ガスとを反応させて、ＮＦ₃を直接フッ素化法により、工業的に
安全かつ収率よく連続的に製造することができる方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る三フッ化窒素の製造方法は、フッ素ガスとアンモニアガスとを管状反応器に供給して、希釈ガスの存在下、気相中、無触媒条件で反応させて、主として三フッ化窒素からなるガス生成物と主としてフッ化アンモニウムおよび／または酸性フッ化アンモニウムからなる固形生成物とを生成させる三フッ化窒素の製造方法であって、前記管状反応器を２つ以上使用し、かつ、これら２つ以上の管状反応器を切り替えながら上記反応を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも２種類の反応剤および、それらを空間的に分離する少なくとも1種類の分離液が注入されるチャンネルと、高速化された実質的に層状の流動層となった、反応剤及び分離液流体を取り出すためにチャンネルに連続する拡張ゾーンと、反応剤の乱流微細混合を生成するための乱流発生装置を有する、拡張流動層分離反応装置に関する。
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【課題】化学物質等の除去機能、熱交換機能をより効率的に発揮させ、しかも構成を簡素化し、耐食性にも十分に配慮することができる、排熱回収技術を提供すること。
【解決手段】第１循環水２の循環系Ａ内に設けられ、排気空気１の熱を熱移動及び／又は物質移動によりそのエンタルピーを第１循環水２に移動させる熱回収手段５と、第２循環水４の循環系Ｂ内に設けられ、第２循環水４の熱を熱移動及び／又は物質移動によりそのエンタルピーを取り入れ外気３に移動させる熱移動手段６と、第１循環水と第２循環水との間で伝熱面を通して熱交換する熱交換手段７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】正確な同芯流を形成できると共に、低コストで製作できる流体デバイスを提供する。
【解決手段】２重管構造の外側の大径円管３０と内側の小径円管３２との間の円環状隙間３４に、複数本の芯出し円管３６を密に配置して、流体デバイス１２を構成する。そして、小径円管３２内に流体Ｌ１を供給し、円環状隙間３４又は複数本の芯出し円管３６内に流体Ｌ２を供給する。これにより、正確な２層同芯流が形成される。 （もっと読む）

【課題】正確な同芯流を形成できると共に、特殊な加工技術を必要とせず機械加工で製作できるので、製作が容易であり製作コストが安価な流体デバイスの製作方法を提供することができる。
【解決手段】流体デバイス１２を構成する同芯整流部は、同芯整流部２４の最終的に必要な径よりも大径に製作する原形体製作工程と、製作した原形体９０を長手方向に伸長して最終的に必要な径寸法になるように原形体９０の断面積を縮小する伸長工程と、伸長した原形体９０‘を同芯整流部２４の必要長さに切断する切断する切断工程とにより製作される。 （もっと読む）

【課題】クロロシランを水素化する方法および装置を提供する。
【解決手段】クロロシランと接触する表面を有する反応室と、流れが直接通過することにより加熱され、クロロシランと接触する表面を有する加熱素子とを有し、その際、反応室および加熱素子はグラファイトからなる反応器中でクロロシランを水素化する方法において、第一工程で、反応室の表面および加熱素子の表面上に現場でＳｉＣ被覆が形成されるように、Ｓｉ含有化合物ならびに水素を反応室の表面および加熱素子の表面と接触させ、かつ第二工程で、加熱素子を用いた反応室中でのクロロシラン／水素混合物の加熱によりクロロシランの水素化を行い、その際、第一工程を、第二工程における反応温度よりも高い反応温度で実施する。 （もっと読む）

本発明は微小反応室（１２）において反応を実施するための方法に関する。本発明によれば、反応を実施するため、微小反応室内において有利に目的に合致した反応を受け得るナノ粒子（２４ａ、２４ｂ及び２４ｃ）が用いられる。好ましくはナノ粒子の形でも存在する生じた反応生成物（２５）は、微小反応室（１２）から取り出され得る。微小反応室（１２）を使用することによって、進行する反応が有利に目的に合致するように影響を及ぼされるようにすることが可能であり、その際反応室内への又は反応室からの配量されたエネルギー供給によって、吸熱反応並びに発熱反応を精密に予言可能な結果をもって実施することができる。
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【課題】 熱分解法により超高温で安定して粉体を生成できる粉体製造装置を提供する。
【解決手段】 筒状の粉体生成塔２に、粉体生成塔２内部に原料溶液を噴霧する噴霧手段６と、粉体生成塔２内で、噴霧された原料水溶液の液滴を加熱乾燥して粉体にする加熱手段７と、粉体生成塔２内で、加熱手段７により生成した粉体を、プラズマ放電によって熱変成するプラズマ放電手段８とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 火炎式噴霧熱分解法によって粉体を生成する際に、反応温度を適正に保ち、不純物を生じさせない粉体製造装置を提供する。
【解決手段】 内部に原料水溶液を噴霧する噴霧手段７と、内部に向かって火炎を噴射する複数の火炎噴射ノズル８とを備える直立筒状の粉体生成塔５を有する粉体製造装置１において、複数の火炎噴射ノズル８は、粉体生成塔５の径方向に対して水平に一定の角度を有し、高さをずらして、螺旋状に配置する。 （もっと読む）

【課題】 火炎式噴霧熱分解法による、粉体生成塔内部の圧力上下変動の小さい粉体製造装置を提供する。
【解決手段】 密閉した筒状の粉体生成塔２と、粉体生成塔２の内部に原料水溶液を噴霧する噴霧手段３と、粉体生成塔２の内部に噴霧手段３の周囲から搬送ガスを供給する搬送ガス流路５と、粉体生成塔２の内部に火炎を噴射する火炎噴射ノズル７と、粉体生成塔２から、粉体生成塔２内の気体を排出する排気装置１１とを有する粉体製造装置１において、搬送ガス流路５の定常状態において外部に対して負圧となる負圧部１６に外部に開放された外気流路１８を設けた。 （もっと読む）

基材の少なくとも一部の表面を処理するための装置及び方法がここに記載される。一の実施態様において、該装置は、内部容積部、該基材、及び排気マニホールドを含むプロセスチャンバー；一以上のエネルギー源によって一以上の反応性ガス及び随意的に追加的なガスを含むプロセスガスが活性化されて、活性化反応性ガスを提供する活性化反応性ガス供給源；及び該供給源及び該内部容積部と流体で連通している分配導管を有し：該分配導管は該活性化反応性ガスを該内部容積部及び直接的に該基材に導く複数の開口部を含み、ここで該活性化反応性ガスは該表面と接触し、使用済みの活性化反応性ガス及び／又は揮発性生成物をもたらし、これらは該排気マニホールドを通じて該内部容積部から引き出される装置である。 （もっと読む）

【課題】混合される流体間の比表面積が大きく、効率の良い拡散が行なわれ、流体および生成物のマイクロ流路内での滞留がなく、大量製造にも対応できる流体処理装置を提供する。
【解決手段】２種類の流体を搬送しながら接触させ、両者を混合および反応させる流体処理装置であって、第１の流体を供給する第１の供給口に接続され、第１の流体を第１の方向へ搬送する第１の搬送路と、第２の流体を供給する第２の供給口に接続され、第２の流体を搬送する第２の搬送路とを有し、第２の搬送路は第１の搬送路内に前記第１の方向に伸びて複数配され、各第２の搬送路の周囲を第１の流体が取り囲み、第２の搬送路の流体排出口より排出される第２の流体が第１の搬送路中で第１の流体と接触する流体処理装置。 （もっと読む）

【課題】 ＳＴＦＲ方式の反応装置において、装置構成が簡素で且つ単分散性の良好な微粒子を量産できるものを提供する。
【解決手段】 反応装置１は、原料Ａ1，Ａ2を混合して反応液Ｂを生成する混合部１０、混合部１０で生成された反応液Ｂを分流する分岐チャンバー２０、分岐チャンバー２０で分流された反応液Ｂを流通させながら反応を進めて生成物Ｃを生成する反応管ユニット３０、反応管ユニット３０を流通する反応液Ｂをセグメントに分割するための分割剤Ｄを分岐チャンバー２０に間欠的に導入する分割剤導入機構４０を備える。反応管ユニット３０には、各分岐路２１〜２５に接続された複数の反応管３１〜３５が並設されている。分割剤導入機構４０から１回に導入する分割剤Ｄの量は、分岐チャンバー２０のバッファ空間２７の容積より大きく設定する。 （もっと読む）

【課題】 装置を大型化することなしに、低コストで電子線によるワークの処理を容易かつ良好に行うことができる電子線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 真空チャンバー３と、真空チャンバー３内に電子線を発生させる電子線発生装置と、真空チャンバー３の内外を接続して電子線発生装置が発する電子線ＥＢを真空チャンバー３外に通過させる電子線射出口８と、真空チャンバー３外で電子線射出口８の周囲を囲むとともに電子線射出口８に対向する部位に開口部２２ａを有するノズル２２と、ノズル２２内に不活性ガスを供給する第一プロセスガス供給装置１１と、ノズル２２内に乾燥空気を供給する第二プロセスガス供給装置１２とを設ける。ノズル２２に、第一プロセスガス供給装置１１が供給する不活性ガスと第二プロセスガス供給装置１２が供給する乾燥空気とが供給されてこれらが混合される拡径部２２ｃ（混合器）を設ける。 （もっと読む）

【課題】 流路の幅を制御でき、内部の洗浄が容易で、流体の種類や条件によらず最適な条件で混合を行うことができる微小混合装置および流体混合方法を提供する。
【解決手段】 流体供給口から複数の流体を導入する複数の流体導入部１２１と、該流体導入部を通過した複数の流体を混合する流体混合部１４５を有する微小混合装置であって、前記流体混合部１４５が、少なくとも一部の位置に傾斜した外側壁１０４を有する外筒１０１と、該外筒の内側に間隙を設けて配置され、少なくとも一部の位置に傾斜した内側壁１０６を有する内筒１０５と、該外筒と内筒を相対的に変位させ、前記外側壁と内側壁の間隙で前記複数の流体を混合する混合手段を有する微小混合装置。 （もっと読む）