【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】一方向に配列された複数の誘電体（３）と、該各誘電体（３）の内部に設けられた電極（６）とを有し、電極（６）間に電圧を印加することにより誘電体（３）間にプラズマを発生可能な誘電性構造体（１）であって、誘電体（３）の少なくとも１つにおいて、他の誘電体（３）に対向する表面および該表面と電極（６）との間の少なくとも一方に電極に沿って導電体（７）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】誘電体基板２と、誘電体基板２の第１表面Ｓ１に設けられた第１電極４ａと、誘電体基板２の内部若しくは誘電体基板２の第１表Ｓ１面に対向する第２表面Ｓ２に設けられた第２電極４ｂとを備える。この誘電性構造体１は、第１電極４ａと第２電極４ｂとの間に電圧が生じると、第１電極４ａの周囲にプラズマを発生可能である。そして、第１電極４ａは、外周に沿って、第１表面に平行な方向に突出した複数の突出部Ｐを有する。 （もっと読む）

【課題】流体中に取り込まれた粒子を誘導するための装置を提案する。
【解決手段】流体中に取り込まれた粒子を誘導するための装置は、周波数νを有する音波を生成する手段を含む第１の壁と、音波を反射することが可能な第２の対向壁とを有するチャンバを備え、第１および第２の壁は、流体通過用導管を定め、第２の壁の厚さは、第２の壁における定常波の経路長が、第２の壁中の音波の波長λ_ｒのほぼ１／２の倍数になるような厚さである。 （もっと読む）

【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】誘電性構造体（１）は、一方向に配列された複数の誘電体（３）と、該各誘電体（３）の内部に設けられた複数の導体層（７）からなる電極（６）とを有する。そして、電極（６）間に電圧を印加することにより誘電体（３）間にプラズマを発生可能である。誘電体（３）の少なくとも１つにおいて、電極（６）は、貫通孔および欠け部の少なくとも一方（９）を有する第１導体層（７ａ）と、貫通孔および欠け部（９）の少なくとも一方に対応する位置に設けられ、第１導体層（７ａ）に電気的に接続される第２導体層（７ｂ）とからなる。 （もっと読む）

【課題】微小なエマルジョンを生成可能なエマルジョン形成用マイクロチップおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】エマルジョン形成用マイクロチップ１０は、第１ガラス基材１１と、第２ガラス基材１２と、シリコン基材２０とを備えている。シリコン基材２０に、第１流体Ｆ₁が流れる第１流体用流路２１と、第１流体Ｆ₁に混ざり合わない第２流体Ｆ₂が流れる第２流体用流路２２とが形成されている。第１流体用流路２１は、合流部３０で合流する一対の分岐流路２８ａ、２８ｂを有し、第２流体用流路２２は、前記合流部３０に連通する。合流部３０のうち第２流体用流路２２の端部３２に対向して形成されたエマルジョン形成流路２３において、第１流体用流路２１からの第１流体Ｆ₁により第２流体用流路２２からの第２流体Ｆ₂を囲んでなるエマルジョンＥが形成される。 （もっと読む）

【課題】高電圧プラズマ発生装置において、プラズマの生成領域を拡大して、供給されたガスを効率よく処理する。
【解決手段】高電圧プラズマ発生装置は、高周波信号の給電により共振を発生させ、この共振により高電圧を発生させる長尺状の電極であって、交流信号の給電点が長尺状の中間部分に設けられる第１の電極と、第１の電極の周りを覆い、第1の電極の少なくとも一方の端から、第1の電極の延長上の離間した位置に、ガス流の供給口が設けられた金属製の筐体と、第１の電極の一方の端の近傍に、一方の端から離間して設けられ、筐体と接続された、アースされた第２の電極と、第１の電極が電磁波を放射する際の共振周波数と同じ周波数の信号を給電する電力供給装置と、を有する。第１の電極と第２の電極間の領域で、ガスを用いたプラズマを生成する。 （もっと読む）

【課題】反応ガスの消費量を最小限に抑制する。
【解決手段】反応空間１１を有する反応容器１０と、反応空間に反応基質を含む液体材料を供給する液体材料供給装置２０と、反応空間に反応気体を供給する気体供給装置３０と、反応空間につながり反応基質と反応気体とが反応して生成された生成液を溜める液溜空間４５を有する液溜部４１とを有する。反応空間及び液溜空間を密封状態にしつつ、液溜部の生成液を排出する排出装置４０を有する。 （もっと読む）

【課題】ケーシングを水冷手段により高温雰囲気から保護するとともにガス中の腐食成分による露点腐食を防止し、ケーシングの寿命を向上させることができる水冷ケーシングの腐食防止構造を提供する。
【解決手段】高温腐食性ガスが通流若しくは滞留する空間２を形成するケーシング本体３を備え、前記ケーシング本体３内の熱源からの輻射熱と対面する側に水冷ジャケット４が配設された水冷ケーシング１の腐食防止構造において、前記水冷ジャケット４が配設されたケーシング内面に対して、微小隙間１１を介して金属製の結露防止板５が配設され、該結露防止板５は水冷ジャケット４から外れた位置でケーシング本体３に支持されるように構成した。 （もっと読む）

本発明は硫黄および水素から硫化水素を製造するための反応容器に関し、その際、該反応容器は、部分的または完全に、その化合物もしくは元素の反応混合物に対して耐久性のある材料からなり、高い温度でも耐久性を維持する。
（もっと読む）

【課題】マイクロリアクタのメンテナンスに費やす作業コスト及び時間コストが少なくて済み、以って生産性を向上させることのできるマイクロ流路の閉塞防止装置及び閉塞防止方法を提供すること。
【解決手段】被反応流体（Ｌ３）の反応を進行させるためのマイクロ流路（Ｒ）を形成する流路形成体（１１）と、流路形成体（１１）に超音波振動を付与する超音波振動付与手段（１３）とを備える。超音波振動付与手段（１３）が発した超音波振動は、流路形成体（１１）を介してマイクロ流路（Ｒ）内を流れる被反応流体（Ｌ３）に伝わる。この振動特性は、マイクロ流路（Ｒ）内の被反応流体（Ｌ３）の分子が微少振動を発生して、分子間の結合を阻止する振動数及び振幅に設定される。これにより反応進行中に生じ得る高粘性流体または顆粒や結晶の析出の蓄積が回避され、その結果、マイクロ流路（Ｒ）の閉塞が防止される。 （もっと読む）

【課題】製造が容易、且つ反応や分析の工程数や量を制限しないマイクロ流体システム用支持ユニットを提供する。
【解決手段】有機材料の板又は金属製の板である第一の支持体２と、この第一の支持体２の表面に設けられた第一の接着剤層１ａと、この第一の接着剤層１ａの表面に任意の形状に敷設されたマイクロ流体システムの流路層として機能する中空フィラメント５０１〜５０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 反応や分析のステップ数や量の制限が緩く、製造が容易であるマイクロ流体システム用支持ユニット、さらに、複雑な流体回路を高密度に実装できるマイクロ流体システム用支持ユニットを提供する。
【解決手段】 第一の支持体と、マイクロ流体システムの流路を構成する、少なくとも一本の中空フィラメントとを備え、該中空フィラメントが前記第一の支持体に任意の形状に敷設され、かつ前記中空フィラメントの内側の所定箇所が機能性を有するマイクロ流体システム用支持ユニットに関する。 （もっと読む）

【課題】ソリューションプラズマ放電において放電電極間の距離あたりの電圧を低く抑え、安定したプラズマ状態を維持することができるプラズマ放電装置を提供する。
【解決手段】本発明のソリューションプラズマ放電装置１０１は、放電電極１の上部に位置する基板２に、液体１２中のプラズマにより発生した気泡を蓄える凹部３を備え、凹部３に溜まった気泡中でプラズマ放電をさせることにより、放電電極間の距離を長くまたは放電電極間の印加電圧を低くできるので、放電電極間の距離あたりの電圧を低く抑え、安定したプラズマ状態を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】窓枠部の耐蝕性の向上を図ることができる電子線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】照射室の照射雰囲気に晒される窓枠部３４の部分、具体的には、例えば窓枠部の、第一のオーリング３８と照射雰囲気を封じることができるような接触している部分及び第二のオーリング３９と照射雰囲気を封じることができるような接触している部分の外側に位置する外周部分には、図４に示すように、溶射法により溶射膜４０が形成されている。オーリング３８，３９と照射雰囲気を封じることができるような接触している部分の内側は照射雰囲気が入り込めないので、この内側に位置する窓枠部の部分が照射雰囲気によって腐食されることはない。したがって、この内側に位置する窓枠部の部分には溶射膜を形成していない。 （もっと読む）

【課題】薬品等を劣化させることなく簡易な手法でもって反応チップ内の流路を容易に閉塞することができる反応チップ処理装置を提供する。
【解決手段】反応チップ１に処理を施し、流路７を閉塞することで複数の反応室６同士を独立させる反応チップ処理装置において、反応チップ１の下面から流路７を閉塞する箇所を押圧する押圧刃部１５と、反応チップ１の上面側から該上面全体に接触するとともに反応室７に対応する箇所に貫通孔２１ａを備えた接触板２１ａと、押圧刃部１５と接触板２１とを加熱する第一加熱部１６と第二加熱部２２とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ファージ・ライブラリを効率よくしかも安価にスクリーニングするために使用できる方法を提供する。
【解決手段】 チップと、チップ内に配置された流路であって、入口ポートおよび出口ポートと連絡しており、入口ポートから出口ポートへのライブラリの流れを可能にするように働く流路と、チップ上に配置された基板であって、流路のための上部壁として作用するように働く基板と、基板上に配置された受容体であって、ライブラリからのエレメントと相互作用するように働く受容体とを含むシステムが、開示される。 （もっと読む）

【課題】塩素化炭化水素及び水を含む雰囲気中、温度３８０〜５２０℃において用いられるニッケル含有金属装置材料であって、コーキング及び腐食の発生を抑制することができるという優れた効果を有する金属装置材料並びに該金属装置材料を用いた反応容器を提供する。
【解決手段】塩素化炭化水素及び水を含む雰囲気中、温度３８０〜５２０℃において用いられるニッケル含有金属装置材料であって、ニッケルの含有量（Ｘ重量％）が下記式（１）により表されるニッケル含有金属装置材料並びに該金属装置材料を用いた反応容器。
５．０≦Ｘ≦{６２．２＋０．２７×（５２０―Ｔ）} （１）
ここで、Ｔは材料を使用する温度（℃）である。 （もっと読む）

【課題】電源部の規模の大型化を抑制しつつ、ストリーマ状放電の先端数をより増加させることができる液体ストリーマ状放電発生装置を提供する。
【解決手段】液体３４中の放電を生成する一対の電極３１，３２と、これら電極３１，３２間に所定の周期で繰り返し高電圧パルスを印加して放電を行わせる電源部２０とを備え、電源部２０は、一対の電極３１，３２間に印加する高電圧パルスとして、立ち上がりが急峻な高電圧パルスを印加する。 （もっと読む）

【課題】 凝縮のための冷却能力を十分に確保できる加熱冷却装置を提供する。
【解決手段】 反応釜１の外周にジャケット部２を、内部に多管式熱交換器３を配置する。ジャケット部２と多管式熱交換器３に蒸気供給管１５並びに冷却水供給管１４を接続する。反応釜１の外部にコンデンサ２６を接続する。反応釜１内側端部に、下方に向かうにつれて高さが低くなる凸状の抵抗板５を取り付ける。反応釜１内の中心部に攪拌翼１６を取り付ける。攪拌翼１６は、下方の攪拌翼２２ほど大きくし、上方の攪拌翼２３ほど小さくする。
反応釜１内で発生した蒸発流体を、コンデンサ２６で潜熱冷却することにより、大きな冷却能力で凝縮させることができる。 （もっと読む）

【課題】反応装置から断熱容器への伝熱量を抑制しながら、反応装置本体の温度を適切に維持することができる。
【解決手段】反応装置本体１１１と、反応装置本体１１１を収容する断熱容器１２０とを備える反応装置１１０である。断熱容器１２０は反応装置本体１１１からの赤外領域の輻射を透過する輻射透過領域１２３及び透過した輻射が伝播する導波路１８０Ａを有する。 （もっと読む）