【課題】ガラスやシリコン基板上に結晶化したＹ_２Ｏ_３を含む薄膜形成を可能にし、性能が高い蛍光体薄膜材料の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板上に形成されたY、Dy, Sm, Gd, Ho, Eu, Tm, Tb, Er, Ce Pr, Yb, La, Nd, Luからなる群れより選ばれる少なくとも一種類の希土類金属元素を含む有機金属薄膜または金属酸化物膜を、250〜600℃の温度に保持し、波長200nm以下の紫外光を照射しつつ、結晶化を行うことを特徴とする結晶化金属酸化物薄膜の製造方法。 （もっと読む）

本発明の対象は、無機表面変性された超微粒子、それらの製造方法及びそれらの使用である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属酸化物膜の結晶性や結晶構造等の膜質を調整可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、同一の金属元素および異なる非金属部を有する２種類以上の金属源を含有し、かつ、上記２種類以上の金属源の少なくとも一つが単独で金属酸化物膜を形成可能な単独膜形成可能金属源である金属酸化物膜形成用溶液を用い、上記金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材とを接触させることにより上記基材上に金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】サイズが２５ｎｍ以下の酸化イットリウム粒子を含む酸化イットリウム組成物、その製造方法及びそれを利用した酸化イットリウム層の形成方法を提供する。
【解決手段】イットリウム塩溶液を準備するために、前記イットリウム塩溶液に塩基性化合物を添加してｐＨを３．７乃至７に調節して、酸化イットリウム組成物を製造する。該酸化イットリウム組成物は、粒子サイズが２５ｎｍ以下で均一な粒子分布を有していて、向上した特性を有する酸化イットリウム層を形成することができる。 （もっと読む）

本発明はナノ構造化材料の金属表面の保護コーティングとしての使用に関し、そのナノ構造化材料は官能化ナノビルディングブロックおよびポリマーまたは有機／無機複合のマトリクスを含む。
本発明は、マトリクスが少なくとも３種類のケイ素アルコキシドから調製される特定のナノ構造化材料にも関する。 （もっと読む）

【課題】 光学素子に適した金属とセラミックの複合体の提供。
【解決手段】 SiO₂, B₂O₃, Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, Na₂O, CaO,及びSrOの中から選ばれる１つの成分を含む酸化物第１相１、酸化物第１相の粒界に形成された、Au, Ag, Cu, Pt, Pb,及びPdの中から選ばれる１つの金属を含む金属粒子（２）、及び、酸化物第１相（１）の粒界に形成された、ZnO, In₂O₃, または酸化物第１相（１）とは異なるSiO₂, B₂O₃, Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, Na₂O, CaO, 及びSrOの中から選ばれる１つと、金属粒子（２）と同種の金属とを含む酸化物第２相（３）を備えた金属とセラミックの複合体等。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ソフト溶液プロセスにより膜欠陥部の少ない金属酸化物膜を成膜できる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、スプレー装置により、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を液滴化した後、上記金属酸化物膜形成用溶液の液滴を金属酸化物膜形成温度以上に加熱した基材に接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、上記基材はアースされ、かつ、上記金属酸化物膜よりも導電性が高いものであり、さらに上記液滴を帯電させた状態で上記基材に接触させることを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】 籠状に結合した化合物をデバイスに応用する際に必要となる籠状構造を基本単位とした複合構造体とそれを用いた熱電変換素子を提供する。
【解決手段】 籠状構造化合物を常温衝撃固化現象を用いたエアロゾルデポジション法により、基材上に複合構造体として形成する。この複合構造体を用いて、熱電変換素子１０を構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基材の形態に関わらず、透明性、緻密性、密着性等に優れた金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、スプレー装置により、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を霧化し、霧化された上記金属酸化物膜形成用溶液と金属酸化物膜形成温度以上の温度以上に加熱した基材とを接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、上記基材を上記金属酸化物膜が形成される成膜面側から加熱することを特徴とする、金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】セラミック微粒子から成る薄くて微細な多孔質層を多孔質支持体の最表層部に備え、圧力損失を大幅に低減することができる水素分離膜と、このような水素分離膜の製造方法を提供する。
【解決手段】細孔内に水を含浸させた状態の多孔質支持体を金属アルコキシドを溶解させた所定温度の有機溶媒中に浸漬し、有機溶媒中の金属アルコキシドを多孔質支持体の最表層部において細孔内の水と接触させて加水分解させ、多孔質支持体の最表層部表面にのみセラミック微粒子から成る多孔質層を形成し、最表層のセラミック粒子間に形成される開口部を封止する。 （もっと読む）

【課題】アルミナの持つ本来の特性を持ち、各種絶縁膜やガスバリア膜などに使用可能な、透明性、絶縁性に優れたアルミナ膜を提供すると共に、該アルミナ膜を特殊な装置を用いることなく、簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】アミノアラン類およびイミノアラン類からなる群から選ばれる骨格にＡｌ−Ｎ結合を持つ化合物を、酸素含有ガスを含む雰囲気中で５０℃〜１０００℃で加熱することにより酸化させてなる窒素を０．１〜２０質量％含み、屈折率が１．６５〜２．０であることを特徴とするアルミナ膜。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置のプラズマエッチィングチャンバー、液晶デバイスなどのプラズマ処理装置などに求められる高い耐プラズマ腐食性を有する部材を提供する。
【解決手段】体積平均粒径が１０ｎｍ〜３００ｎｍであるＹ₂Ｏ₃粒子の凝集体からなるＹ₂Ｏ₃皮膜。分散時の体積平均粒径が１０ｎｍ〜３００ｎｍであるＹ₂Ｏ₃スラリーを乾燥、熱処理して得られてなるＹ₂Ｏ₃皮膜。Ｙ₂Ｏ₃スラリーの分散媒が多価アルコール誘導体である。Ｙ₂Ｏ₃スラリーが分散剤としてβ−ジケトンを含む。Ｙ₂Ｏ₃スラリーがバインダーとしてβ−ジケトン金属錯体を含む。Ｙ₂Ｏ₃スラリーが、体積平均粒径の異なる分散粒径を有する２種類以上のスラリーの混合スラリーである。分散時の体積平均粒径が１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、Ｙ₂Ｏ₃濃度が０．１質量％〜４０質量％であるＹ₂Ｏ₃スラリーを、基材上に、一回の皮膜形成厚さが１０ｎｍ〜５μｍとなるように塗布し、皮膜形成後の熱処理を１００℃〜３００℃で、１０分〜５時間で行う皮膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ピンホール等の欠陥が少なく信頼性が高いとともに、高いプロトン導電性も有する酸化物プロトン導電性膜、その酸化物プロトン導電性膜を用いて形成された水素透過構造体、及びその水素透過構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式Ａ_ａＬ_{ｂ(１−ｘ)}Ｍ_ｂｘＯ_３（Ａは、Ｂａ、Ｍｇ、Ｃａ及びＳｒから選ばれる元素を表わし、Ｌは、Ｃｅ、Ｚｒ、Ｔｉ及びＨｆから選ばれる元素を表わし、Ｍは、３族及び１３族の元素から選ばれる元素を表わし、かつ０．５＜ａ＜２．０及び０．５＜ａ／ｂ＜２．０である。）で表されるペロブスカイト構造酸化物からなり、厚みが２０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であり、大気中の電気抵抗が１００ＫΩ以上であることを特徴とする酸化物プロトン導電性膜、及びこの酸化物プロトン導電性膜を水素透過性基材上に形成した水素透過構造体。 （もっと読む）

【課題】中間層として無機アニオンを有するＬＤＨを容易に剥離する方法、および、それによって得られた複水酸化物ナノシートの提供。
【解決手段】層状複水酸化物を剥離する方法は、層状複水酸化物を非プロトン性極性有機溶媒と混合する工程を包含する。層状複水酸化物は、［Ｍ²⁺_1-xＭ³⁺_x（ＯＨ）₂］^x+［Ａ^n-_x/n・ｍＨ₂Ｏ］^x-…（１）、［Ｌｉ⁺_1-xＭ³⁺_x（ＯＨ）₂］^(2x-1)+［Ａ^n-_(2x-1)/n・ｍＨ₂Ｏ］^(2x-1)-…（２）、［Ｍ²⁺_1-xＴｉ⁴⁺_x（ＯＨ）₂］^2x+［Ａ^n-_2x/n・ｍＨ₂Ｏ］^2x-…（３）のいずれかで表される。
ここで、式（１）〜式（３）において、Ｍ²⁺は２価金属イオンであり、Ｍ³⁺は３価金属イオンであり、Ａ^n-は、ＮＯ₃^-、Ｃ１^-、Ｃ１Ｏ₃^-、Ｃ１Ｏ₄^-、Ｆ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-、ＣＯ₃^2-、ＳＯ₄^2-、および、これらの混合物からなる群から選択される無機アニオンであり、ｎは、前記無機アニオンの価数であり、ｍは、０より大きい実数であり、ｘは、０＜ｘ＜０．５である。 （もっと読む）

【課題】極めて薄い金属酸化物薄膜を、厚み精度良く、且つ確実に形成し得る金属酸化物薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】水酸基を有する固体表面に、該固体の水酸基と縮合反応し且つ加水分解により水酸基を生成し得る基を有する金属化合物、例えば、金属アルコキシド類等を接触させることにより該金属化合物を化学吸着させ、次いで、過剰の金属化合物を洗浄等の手段により除去した後、上記固体表面に存在する金属化合物を加水分解する。 （もっと読む）

耐湿性に優れ、かつ樹脂への充填材として用いるとき、充填性及び流動性に優れた球状被覆酸化マグネシウム粉末として、複酸化物により被覆され、かつ、平均形状係数が１．２５以下であることを特徴とする球状被覆酸化マグネシウム粉末が提供される。 また、酸化マグネシウム粉末の表面に、複酸化物を形成する元素の化合物を存在させたのち、高温で溶融させることにより、前記マグネシウム粉末表面を複酸化物で被覆すると共に球状化する、球状被覆酸化マグネシウム粉末の製造方法が提供される。 さらに、この球状被覆酸化マグネシウム粉末を含む樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いた電子デバイスが提供される。 （もっと読む）

【課題】空気中の有害な化学物質又はカビの胞子等の酸化反応を促進して、該化学物質を効率的に酸化・除去するための材料及び処理方法を提供する。
【解決手段】１２ＣａＯ・７Ａｌ_２Ｏ_３の組成式で表され、負電荷酸素原子を１×１０^１９個／ｃｍ^３以上含有する結晶質カルシウムアルミネートを８５体積％以上含有し、しかも相対密度が５５〜８５％であることを特徴とする成形体、好ましくは、ハニカム構造、又は固体基材上に膜状に形成されている前記成形体であり、Ｃａ：Ａｌのモル比が０．７０：１〜１．４０：１である原料粉末を、相対密度が５０〜８０％になるように成形した後、酸素分圧４×１０^４Ｐａ以上の雰囲気下、１０００℃〜１２００℃に加熱することを特徴とする前記成形体の製造方法。並びに、前記成形体に、被酸化性物質を１体積％以上の酸素を含む雰囲気中、５〜３００℃の条件の下で接触させることを特徴とする酸化反応促進方法。 （もっと読む）

【課題】 二次電子放出係数のより高い金属酸化膜と、この金属酸化膜を用いて、消費電力の低減と高精細化とを実現しうるガス放電表示装置および生産性の高いこれらの製造方法と、これらの製造方法を最良に実現可能な製造装置とを提供する。
【解決手段】 放電ガスにＡｒガスとＮｅガスとを含ませてスパッタリング法により、膜中全体にわたってＮｅ原子を含有するＭｇＯを主成分とする金属酸化膜を生産性の高い方法で形成し、これをプラズマディスプレイパネルの保護膜として用いる。 （もっと読む）

【課題】マグネシウム合金の表面に酸化マグネシウムのスピネル構造又は非スピネル型構造を形成して、耐食性の材料を開発する。
【解決手段】マグネシウム合金の表面に、一般式ＭｇＯ・（Ａ_ｎＯ_ｍ）_ｘからなるスピネル構造又は非スピネル型構造を有し、平均孔径が５０ｎｍ〜２５μｍの微細孔を多数有する厚さ１〜８０μｍの多孔質陽極酸化皮膜を形成する。微細孔は二水準の層を形成しており、表面層の孔径は１００ｎｍ〜２５μｍで、この孔径は普通の火花放電型陽極酸化処理で形成されたものよりも小さい。一般式中のＡは、Ａｌ、Ｍｎ、Ｓｉ、Ｂ、Ｃａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｗ，Ｍｏ，Ｚｒ，Ｚｎなどの元素、ｎ、ｍ、ｘは各々各元素の酸化状態を示す数字を示す。この様な表面の材料を得るためには７０Ｈｚ以上の周波数の交流波、パルス電源又は極性反転波などを用いて、火花放電を伴った陽極酸化を施して行う。 （もっと読む）

【課題】 基材表面上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、基材が複雑な構造部を有する場合においても、簡便なプロセスで均一な金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】 本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が酸化剤を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）