【課題】少数層グラフェンを触媒金属基板一面の大面積で容易に形成できるようにする。
【解決手段】まず、銅とニッケルを主成分とする合金からなる触媒金属構造体を用意し、この触媒金属構造体を、触媒作用によりグラフェンの合成が進行する所定の温度まで加熱する（Ｓ１０１）。次に、触媒金属構造体へ炭素原料ガスを供給し、触媒金属構造体の表面にグラフェンを合成する（Ｓ１０２）。炭素原料ガスからの炭素が触媒金属により反応し、触媒金属構造体の表面に少数層グラフェンが形成される。 （もっと読む）

【課題】所望のパターンに沿ってカーボンナノウォールを配向させることが可能なカーボンナノウォール配列体を提供する。
【解決手段】カーボンナノウォール配列体１０は、基板１と、カーボンナノウォール２〜９とを備える。基板１は、シリコンからなる。そして、基板１は、凸部１１と凹部１２とを含む。凸部１１および凹部１２は、方向ＤＲ１に沿って基板１の一方の表面に形成される。凸部１１および凹部１２は、方向ＤＲ１に垂直な方向ＤＲ２において、交互に形成される。凸部１１は、方向ＤＲ２において、０．１〜０．５μｍの長さを有し、凹部１２は、方向ＤＲ２において、０．６〜１．５μｍの長さを有する。また、凸部１１の高さは、０．３〜０．６μｍである。カーボンナノウォール２〜９の各々は、基板１の凸部１１の長さ方向（＝方向ＤＲ１）に沿って凸部１１上に形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記課題を解決し、軽量且つ機械的強度が優れており、さらに熱伝導率にも優れたグラファイト複合材料を提供することを課題としている。
【解決手段】グラファイトフィルムの少なくとも片面に強化繊維層が形成されていることを特徴とするグラファイト複合フィルム。前記グラファイト複合フィルムにおいて、ａ）グラファイトフィルムの厚みが３μｍ以上５００μｍ以下であり、ｂ）前記強化繊維層の厚みが１０μｍ以上３００μｍ以下であり、ｃ）前記強化繊維層の厚みＴ_Fと前記グラファイトフィルムの厚みＴ_Gの比Ｔ_F／Ｔ_Gが０．１以上２０以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】量産に適したグラフェンの製造方法及びグラフェン製造装置を提供すること
【解決手段】、本技術のグラフェンの製造方法は、導電性を有するフレキシブルな成膜対象物の表面に炭素源物質を接触させる。グラフェンは、成膜対象物に電流を印加して成膜対象物をグラフェンの生成温度以上に加熱することによって成膜対象物の表面において前記炭素源物質から生成される。 （もっと読む）

【課題】カーボン薄膜を選択的なエッジ形状にて微細加工する方法を提供する。
【解決手段】本発明のカーボン薄膜の加工方法は、カーボン薄膜とカーボン薄膜上に配したルテニウムナノ粒子とに対して、少なくとも水素を含む雰囲気中での熱処理工程を経ることにより、カーボン薄膜を選択的なエッジ形状を有するように加工することを特徴とする。本発明のカーボン薄膜の加工方法により、選択的なエッジ加工を実現でき、スピンエレクトロニクスデバイスの製造に好適である。 （もっと読む）

【課題】大面積のグラフェンを低コストで生産可能なグラフェン製造用銅箔及びそれを用いたグラフェンの製造方法を提供する。
【解決手段】１０００℃で１時間加熱前の走査電子顕微鏡による表面の元素分析を行って測定される直径が０．５μｍ以上の酸化物及び硫化物の合計個数が１５個/ｍｍ^２以下であるグラフェン製造用銅箔である。所定の室内１００に、加熱したグラフェン製造用銅箔１０を配置すると共に炭素含有ガスＧを供給し、グラフェン製造用銅箔の表面にグラフェン２０を形成するグラフェン形成工程と、グラフェンの表面に転写シート３０を積層し、グラフェンを転写シート上に転写しながら、グラフェン製造用銅箔をエッチング除去するグラフェン転写工程と、を有するグラフェンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】凹凸を有する物体にグラフェンを実質的に均一な厚さで形成する。
【解決手段】酸化グラフェン溶液１０２中に、物体１０３を浸漬した後、引き上げ乾燥させる、あるいは、物体と電極１０４を浸漬し、前記物体を陽極として前記電極間に電圧を加える。酸化グラフェンは負に帯電するので、陽極に引き寄せられ、物体の表面に実質的に均一な厚さで付着する。その後、物体を真空中あるいは還元性雰囲気中で加熱することで、酸化グラフェンを還元し、グラフェンとする。以上により、凹凸のある物体の表面にも実質的に均一な厚さのグラフェンの層を形成できる。例えば、ウィスカ状のシリコン表面にもグラフェンの層を形成でき、リチウムイオン二次電池等の蓄電装置にも利用できる。 （もっと読む）

【課題】極めて低い平均引裂荷重を示すグラファイトフィルムを加工工程での不具合を生じにくくして、加工する方法を提供する。
【解決手段】ロールに巻きつけたグラファイトフィルム（１１１）を巻き出して、他のロールで巻取るまでの間に、該グラファイトフィルムをラミネートする工程を含み、グラファイトフィルムが第一ロール（１１２）と接触開始する点と第一ロールの中点と第一ロール／第二ロールの接点のなす角度（１１３）ｂが５度以上であるグラファイト複合フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＣＮＴ分散性に優れた高分岐ポリマーを分散剤として用いたＣＮＴ含有組成物から調製されるＣＮＴ分散材料、すなわち、導電性複合体の導電性を向上させる手法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブおよびガラス転移点を有する高分岐ポリマーを含むカーボンナノチューブ分散材料を、例えば、上記高分岐ポリマーのガラス転移点の−３０℃〜＋１５０℃の範囲の温度で加熱することを特徴とするカーボンナノチューブ分散材料の導電性向上方法。 （もっと読む）

【課題】相対的に高い発光効率を示す新規な窒素含有グラフェン構造体及びこれを用いた蛍光体分散液を提供すること。
【解決手段】単層又は多層のグラフェンナノシートからなり、シートの端部にアームチェア型端面部を含むシート部と、前記アームチェア型端面部と１辺のみを共有して結合している末端６員環と、前記末端６員環を構成する炭素原子の内、前記アームチェア型端面部と結合していない炭素原子、及び、前記シート部を構成する炭素原子から選ばれるいずれか１以上の炭素原子に結合している窒素含有官能基とを備えた窒素含有グラフェン構造体、及び、これを溶媒に分散させた蛍光体分散液。 （もっと読む）

【課題】良好な再現性を有し、カーボンナノチューブを安定して紡績することのできるカーボンナノチューブ膜の製造方法の提供。
【解決手段】平板状の基板の表面に金属触媒を堆積させ、続いて、その基板の雰囲気を図１に示すように変化させて、当該基板の表面にカーボンナノチューブ膜を製造した。すなわち、基板の雰囲気を水素ガスで置換し、基板及びその雰囲気を金属触媒活性化温度としての５００℃まで昇温させて３分間その温度に保持した。続いて、基板及びその雰囲気を２００〜５００℃まで降温し、基板の雰囲気に炭化水素ガスを導入した。そして、基板及びその雰囲気を０〜３分間その温度に保持した後、ＣＮＴ合成温度としての７００℃まで基板及びその雰囲気を昇温した。基板及びその雰囲気を炭化水素ガスを導入しながら７００℃に１０分間保持してカーボンナノチューブ膜を形成した。 （もっと読む）

【課題】流体に含有する物質の熱抵抗及び含有物質間の熱抵抗を低減して熱伝導率の向上を図る熱輸送流体を提供する。
【解決手段】熱輸送流体１は、水または有機物からなる溶媒２と、溶媒２中に分散される複数のカーボンナノチューブ３と、カーボンナノチューブ３に接触してカーボンナノチューブ３を溶媒２中に分散させる分散剤４と、を含んで構成される。分散剤４は、少なくともグラフェンまたは酸化グラフェンを有している。 （もっと読む）

【課題】欠陥のないエピタキシャル構造体を結晶成長させることができるエピタキシャルベース及びエピタキシャル構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１００と、カーボンナノチューブ層１０２とを含み、エピタキシャル層の成長に用いられるエピタキシャルベース１０であって、前記基板１００は、少なくとも一つのパターン化エピタキシャル成長面１０１を有し、前記パターン化エピタキシャル成長面１０１は、複数の溝１０３を含み、前記カーボンナノチューブ層１０２は、前記基板１００のパターン化エピタキシャル成長面１０１に配置され、前記複数の溝１０３に対応する位置では懸架される。前記基板１００のパターン化成長表面１０１にエピタキシャル層を成長させる （もっと読む）

【課題】微細加工技術を用いることなく任意の幅のグラフェンリボンを形成しうるグラフェンリボンの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に触媒金属材料を堆積し、基板上に堆積した触媒金属材料を熱処理し、表面にストライプ状の双晶領域を有する触媒金属膜を形成し、触媒金属膜の双晶領域上に、触媒金属膜を触媒としてグラフェンを選択的に成長する。 （もっと読む）

【課題】大面積のグラフェンを低コストで生産可能なグラフェン製造用銅箔及びそれを用いたグラフェンの製造方法を提供する。
【解決手段】銅箔基材の表面に、厚み５μｍ未満の銅めっき層を設けてなり、水素を２０体積％以上含有し残部アルゴンの雰囲気中で、１０００℃で１時間加熱後の前記銅めっき層表面の圧延平行方向及び圧延直角方向の６０度光沢度が共に３００％以上である。 （もっと読む）

【課題】 グラフェンを用いる導電性薄膜の導電性を高める。
【解決手段】 本発明のある態様においては、１原子層以上の炭素原子のシートからなる第１のグラフェン膜１０Ａと、１原子層以上の炭素原子のシートからなる第２のグラフェン膜１０Ｂと、第１および第２のグラフェン膜の間に挟まれている挿入膜１２とを含む超格子構造１００を備える導電性薄膜１０００が提供される。また、同様の構成の透明導電膜も提供される。 （もっと読む）

【課題】グラフェンを長時間安定して分散させることができる低コストのグラフェンインク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】反応容器１内に少なくとも水とこの水に導電性を付与する導電性付与剤とを含む溶液Ｓを収容し、この溶液Ｓに疎水性のグラフェンを添加する。次に、グラフェンを添加した溶液Ｓ中に浸漬させた一対の電極２にパルス電圧を印加して電極Ｓ近傍の溶液Ｓを気化し、気化により生じた気泡内でグロー放電を起こしてプラズマＰを発生させ、プラズマＰ中の活性種によりグラフェンを親水化する。 （もっと読む）

【課題】大面積のグラフェンを低コストで生産可能なグラフェン製造用銅箔及びそれを用いたグラフェンの製造方法を提供する。
【解決手段】純度が99.95質量％以上のＣｕからなるグラフェン製造用銅箔である。 （もっと読む）

【課題】 マクロ細孔とメソ細孔とを有するバイモーダルな多孔性炭素膜、その製造方法、および、それを用いた用途を提供すること。
【解決手段】 本発明による多孔性炭素膜は、炭素からなるフレーム構造によって形成されており、フレーム構造は、マクロ細孔と、マクロ細孔の細孔径よりも小さな細孔径を有するメソ細孔とを有し、マクロ細孔は、多孔性炭素膜の表面方向に規則的に配列しており、マクロ細孔は、多孔性炭素膜の表面に開口を有する。 （もっと読む）

【課題】高品質なグラフェンを、低コストで大面積に形成できるようにする。
【解決手段】金属層１０３の上に有機化合物からなる有機薄膜１０４を形成する。この工程において、本実施の形態では、有機薄膜１０４の膜厚を制御することで、後述する金属層１０３の表面に成長する炭素薄膜１０４におけるグラフェンの層数を制御するところに特徴がある。次に、不活性な雰囲気で金属層１０３を加熱して有機化合物を構成する炭素を金属層１０３に固溶させ、酸化シリコン膜１０２の上に炭素が固溶した金属層が形成された状態とする。次に、不活性な雰囲気で金属層を冷却して金属層に固溶していた炭素を金属層の表面に析出させることで、金属層１０３の表面にグラフェンからなる炭素薄膜１０４を成長させる。 （もっと読む）