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Fターム[4G146BA12]の内容

炭素・炭素化合物 (72,636) | 製造−炭素原料、炭素前駆体 (7,083) | 有機化合物(ハロゲン化炭化水素等) (2,653) | 炭化水素(炭素と水素のみからなる) (1,334)

Fターム[4G146BA12]に分類される特許

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【課題】均一で大面積のグラフェン膜を形成する製造技術を提供することにある。
【解決手段】所定の基材2上において、基材上に形成された炭素含有層3と、前記炭素含有層上に形成された炭素化合物層4を有する基板1に対してアニーリングを実施することによりグラフェン膜5を製造する。 (もっと読む)


【課題】単層カーボンナノチューブを合成するための方法を提供する。
【解決手段】担体上の少なくとも一つの触媒を用意し、この触媒の粒径を決定し、決定した前記粒径に基づく温度で不活性ガスを含む炭素前駆体ガスをこの触媒と接触させて、SWNTの直径の平均値の25%内の直径を有するSWNTを形成させる。前記温度は、相図に基づく前記触媒の金属−炭素相が炭素誘発液化によって液化する最低温度よりも5℃から150℃高くする。前記炭素前駆体ガスは、メタンであり、前記触媒は、鉄、モリブデン又はこれらの組み合わせであり、担体は、粉末状酸化物であり、粉末状酸化物は、Al2O3、SiO2、MgO及びゼオライトからなるグループから選択され、触媒は、1nmから10nmの間の粒径を有する。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノ構造物の連続合成過程で原料ガスの拡散を防止して原料ガスの初期濃度を高濃度に維持でき、高品質のカーボンナノ構造物の量産を行うことのできる原料ガス拡散抑制型カーボンナノ構造物製造装置を提供することである。
【解決手段】触媒層31を表面に形成した搬送ベルト19により反応炉1内に搬入して昇温領域3及び反応領域2を順に搬送し、昇温領域3を通過した触媒層を反応領域2に移送して原料ガスにより触媒層上にCNTを成長させる。拡散抑制体6、7により、搬送ベルト19が通過可能な間隙8を残して炉内断面を縮減して昇温領域3及び反応領域2の境界領域を仕切り、反応領域2に供給された原料ガスの、昇温領域3側への拡散を抑制する。 (もっと読む)


【課題】触媒層上に秀麗な配向CNTを合成でき、CNTを分離回収した後、基板層の再利用を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のCNT製造用の四層型触媒基体1は、基板層2の上に耐熱性樹脂層4を形成し、前記耐熱性樹脂層4の上にAl層6を形成し、前記Al層6の上にCNT合成用の触媒層8を形成している。また、前記基板層2がベルト状に形成された基板ベルトであり、前記基板ベルトの上に前記耐熱性樹脂層4、前記Al層6及び前記触媒層8を積層して四層型触媒基体ベルトも提供できる。400℃以上、好適には500℃以上の耐熱温度を有した耐熱性樹脂層4を形成して、CNT合成時に耐熱性樹脂層4が基板層2と樹脂層8との反応を防ぎ、触媒層8上に配向CNTを合成でき、CNTを分離回収しても基板層2の表面は合成前の状態であり、基板ベルトを含む基板層2の再利用を実現できる。 (もっと読む)


【課題】高品質のグラフェンオキシドナノプレートを得る方法を提供すること。
【解決手段】この方法は2つの段階からなり、第1の段階は、カーボンナノフィラメントからなる中間物質を得るものであり、この場合、カーボンナノフィラメントは、少数の層のグラフェン層を有するグラファイト物質のリボンが、その主軸に沿ってその周りに螺旋状に巻かれている構造を有する。第2の段階は、前記カーボンナノフィラメントを熱処理して、それを清浄にし、その結晶性を高め、次いで、酸化による化学的エッチングにより細分化し、劈開を開始させて、グラフェンオキシドナノプレートを得るものである。 (もっと読む)


【課題】単位質量当たりに導入可能な官能基の量に優れたナノカーボンを提供すること。
【解決手段】触媒支援化学的気相成長法において、マグネシウム、カルシウム及びアルミニウムからなる第1の金属群から選ばれる少なくとも1種以上の金属の酸化物と、ニッケル、鉄及びコバルトからなる第2の金属群から選ばれる少なくとも1種以上の金属の酸化物とを、特定の割合で含有する多孔質複合金属酸化物を触媒として用いる。 (もっと読む)


【課題】機械強度に優れた微細パターンを有するナノインプリント用スタンパ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のナノインプリント用スタンパは,金属および筒状炭素分子を含む突起部を有し,前記金属を含む基体である。ナノインプリント用スタンパの製造方法では,基板上への金属から成る触媒層の形成工程,及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て,ナノインプリント用スタンパが製造される。 (もっと読む)


【課題】熱CVDによるグラフェン膜成膜の高温プロセス、かつプロセス時間が長いという問題を解決すべく、より低温で短時間にグラフェン膜による結晶性炭素膜を用いた透明導電性炭素膜を形成する手法を提供する。
【解決手段】基材温度を500℃以下、圧力を50Pa以下に設定し、かつ含炭素ガスと不活性ガスからなる混合ガスに基材表面の酸化を抑制するための酸化抑制剤を添加ガスとして加えたガス雰囲気中で、マイクロ波表面波プラズマCVD法により、銅又はアルミの薄膜の基材表面上に透明導電性炭素膜を堆積させる。 (もっと読む)


【課題】グラフェンの電子構造を変化させずに、触媒金属表面上に形成したグラフェンを容易に剥離させること。
【解決手段】銅基板3上に形成したグラフェン1の端部をフッ素原子2で終端することで、グラフェン1の基板3からの剥離を容易にすることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】切削工具、耐磨工具等の機械的用途、及び半導体材料、電子部品、光学部品等の機能品用途に適したダイヤモンド単結晶及びその製造方法の提供。
【解決手段】結晶全体にわたり、波数1332cm−1(波長7.5μm)のピーク吸収係数が0.05cm−1以上10cm−1以下である化学気相合成法により得られたダイヤモンド単結晶であり、この単結晶は化学気相合成時の気相における元素の組成比率を、水素原子に対する炭素原子濃度が2%以上10%以下かつ、炭素原子に対する窒素原子濃度が0.1%以上6%以下かつ、炭素原子に対する酸素原子濃度が0.1%以上5%以下とすることによって得られる。 (もっと読む)


【課題】高いせん断接着力と高い熱伝導率を有する繊維状柱状構造体集合体を提供する。さらに、このような繊維状柱状構造体集合体を用いた放熱部材を提供する。
【解決手段】本発明の繊維状柱状構造体集合体は、複数の繊維状柱状構造体を備える繊維状柱状構造体集合体であって、該繊維状柱状構造体の表面に、熱伝導率が20W/mK以上である熱伝導材料から形成される表面コート層を有し、該表面コート層の厚みが2nm以上である。 (もっと読む)


【課題】本発明によれば、カーボンナノチューブの分散性を維持しつつ高い導電性を示す導電性複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】分子内にスルホン酸基を有する分散剤(A)とカーボンナノチューブを含有する組成物(B)を基材上へ製膜する第一の工程、および組成物(B)が製膜された面にオーバーコート剤を積層する第二の工程を含む導電性複合体の製造方法であって、第一の工程における導電層の表面抵抗値Rと第二の工程を経た後の導電層の表面抵抗値Rとの関係がR>Rとなることを特徴とする導電性複合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】耐熱安定性、耐湿熱安定性に優れ、高導電性の導電性体、またその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブ[A]と、カルボキシメチルセルロース[B]とが、[A]に対する[B]の質量比([B]の含有量/[A]の含有量)が0.5〜9で含まれる、水[C]を分散媒とした分散液を、基材上に[A]を1〜40mg/mの範囲となるよう塗布し乾燥した塗布面に、酸触媒[D]とアルコール[E]とを、[E]に対する[D]の質量比([D]の含有量/[E]の含有量)が0.005〜0.1である処理液を25℃〜100℃、5秒〜20分の条件で接触させた後、乾燥させることを特徴とする導電体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】非晶質炭素被膜が形成された摺動部材において、これまでに比べてより低い摩擦係数を確保することができる摺動部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の摺動面に、珪素及び窒素を含有した非晶質炭素被膜が形成された摺動部材である。摺動部材の非晶質炭素被膜は、珪素原子の含有量/炭素原子の含有量の原子比が、0.1以上であり、窒素原子の含有量/炭素原子の含有量の原子比(N/C比)が、0.1〜0.25の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】分子が分極を有しない原料ガスであっても、十分に加熱してから基板に供給することで、安定して基板上に蒸着膜を形成することができる熱CVD装置および蒸着膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ガス加熱装置9で加熱された原料ガスGを加熱室13内に導入し、熱化学気相成長法により加熱室13内の基板Kに蒸着させる熱CVD装置であって、上記ガス加熱装置9が、上記加熱室13内に導入する原料ガスGに交番磁界を与え得る交番磁界発生用コイル33と、上記交番磁界が与えられた原料ガスGに電磁波を照射する電磁波発生用コイル31とを備えるとともに、電磁波発生用コイル31の軸心に、原料ガスGを加熱室13内に導入するガス導入管5を設け、このガス導入管5を通過する原料ガスGに上記電磁波の電磁エネルギーを吸収させることで当該原料ガスGを加熱する。 (もっと読む)


【課題】結晶欠陥及び触媒金属の含有量が少なく、所望の優れた特性を有するCNT集合体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】化学気相合成法によって、基板表面にCNT垂直配向膜を形成し、そのCNT垂直配向膜からCNT集合体を製造する方法において、基板上にCNT垂直配向膜を形成した後に、酸素プラズマエッチングによって、CNT垂直配向膜の上部を除去する。これにより、結晶欠陥を多く含むCNT部分や、CNT垂直配向膜の上部に付着した触媒金属を、効果的に除去できる。 (もっと読む)


【課題】導電性及び可撓性に優れたカーボンナノチューブ電極を形成することができるカーボンナノチューブ電極用構造体、カーボンナノチューブ電極及び色素増感太陽電池を提供すること。
【解決手段】金属基板3と、金属基板3に担持され、カーボンナノチューブ膜2を形成する際に触媒として作用する金属触媒4とを備えており、金属基板3が、第1主面5a及び第1主面5aと反対側の第2主面5bを有する本体部5と、本体部5の第1主面5a及び第2主面5bの少なくとも一方を被覆する金属被膜6a,6bとを有しており、本体部5が、鉄、クロム、コバルト、ニッケル及びチタンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含み、金属被膜6a,6bがアルミニウムを含むカーボンナノチューブ電極用構造体1。 (もっと読む)


【課題】比較的大きな電流を流すことができる柔軟なグラフェン配線構造を提供する。
【解決手段】グラフェン配線構造10は、絶縁樹脂層12,22,32,42とグラフェン層16,26,36とが繰り返し積層されている。グラフェン層16の上下には絶縁樹脂層12,22が存在し、グラフェン層26の上下には絶縁樹脂層22,32が存在し、グラフェン層36の上下には絶縁樹脂層32,42が存在する。また、絶縁樹脂層12とグラフェン層16との間には触媒金属層14が介在し、絶縁樹脂層22とグラフェン層26との間には触媒金属層24が介在し、絶縁樹脂層32とグラフェン層36との間には触媒金属層34が介在する。触媒金属層14,24,34は、グラフェン化を促進する機能を有する。各グラフェン層16,26,36は、いずれも奇数枚(ここでは3枚)のグラフェンシートを積層したものである。 (もっと読む)


【課題】剥離しにくい電極端子を有する所望形状のグラフェン素材を容易に作製する。
【解決手段】まず、基板本体12を用意し、その基板本体12の全面にNiの結晶層14を成膜する。続いて、リソグラフィ法により結晶層14をジグザグ状にパターニングし、触媒金属層16とする。次に、触媒金属層16に対してアセチレンとアルゴンとの混合ガスによりC原子を供給する。すると、グラフェンは触媒金属層16上に形成されるため、触媒金属層16と同じ形状つまりジグザグ状となる。次に、ジグザグ状のグラフェンの両末端に四角形の電極端子18,20を取り付ける。電極端子18,20は、下地をなすTi層とMo,Ni,Ta及びWからなる群より選ばれた金属を主成分とする保護層とをこの順で積層した構造を持つ。その後、触媒金属層16を酸性溶液で溶かし、グラフェンをグラフェン素材10として取り出す。 (もっと読む)


【課題】所望形状のグラフェン素材を容易に作製する。
【解決手段】まず、基板本体12を用意し、その基板本体12の全面にNiの結晶層14を成膜する。続いて、リソグラフィ法により結晶層14をジグザグ状にパターニングし、触媒金属層16とする。さらに、触媒金属層16の側面にTiを形成してこれをマスク材17とする。次に、触媒金属層16に対してアセチレンとアルゴンとの混合ガスによりC原子を供給する。すると、Ni表面は(111)面に再配列されると共に、供給されたC原子は六角格子を形成してグラフェンが成長していく。グラフェンは触媒金属層16上に形成されるため、触媒金属層16と同じ形状つまりジグザグ状となる。次に、ジグザグ状のグラフェンの両末端に四角形の電極18,20を取り付ける。その後、触媒金属層16を酸性溶液で溶かし、グラフェンをグラフェン素材10として取り出す。 (もっと読む)


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