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Fターム[4G169AA10]の内容

触媒 (289,788) | 技術主題 (25,839) | 触媒の再生、回収 (516)

Fターム[4G169AA10]に分類される特許

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炭化水素の触媒脱水素反応のための少なくとも一つの反応器と、「迅速上昇管」型の少なくとも一つの触媒再生器とを具備する反応器−再生器装置において、前記再生器−上昇管は、固相に密接に接触した気相を含む化学反応のための実質的に管状の装置であり、該気相及び固体粒子は並流で上方に移動する。 (もっと読む)


本発明は、水蒸気の存在下、少なくとも1種のアルケンを含有する原料を気相で酸化物触媒と接触させて反応を行うことによって、該アルケンに対応するアルコール及び/又はケトンを製造する方法であって、(a)前記酸化物触媒がモリブデン及び/又はスズの酸化物を含有すること;(b)前記反応を、分子状酸素を供給しない条件下で流動床反応器と再生器間で該触媒を循環させる方式で行うこと;及び(c)前記再生器から前記反応器までの間に、ストリッパー部を設けることの諸要件を満たす方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】不飽和モノニトリルにシアン化水素を付加することによりジニトリルを得る反応の反応流出物からニッケル(0)錯体と遊離配位子を抽出除去する際に、不飽和モノニトリルの低い転化率しか達成されない場合でも不飽和モノニトリルの予備蒸発又はジニトリルの添加を行わなくて良い方法を提供する。
【解決手段】反応流出物を炭化水素で抽出し、温度Tで炭化水素と反応流出物とを二相に相分離することにより、反応流出物からリン配位子を有するニッケル(0)錯体及び/又は遊離リン配位子を抽出により除去する方法であって、反応流出物におけるリン配位子を有するニッケル(0)錯体及び/又は遊離リン配位子の含有量は、その最大値が温度Tに関わりなく60質量%であり、その最少値がy質量%であり、このyの値が温度Tに依存して変化し、式y=0.5T+20(Tは無単位の数値として使用される)により与えられる値である。 (もっと読む)


第1炭素濃度を有する使用済み水素化処理触媒に対する触媒活性回復方法。使用済み水素化処理触媒上の炭素濃度は、第1炭素濃度よりも少ない第2炭素濃度を有する炭素減少触媒を用意するために減少される。炭素減少触媒は、回復した触媒活性を用意するのに十分な熟成時間、キレート剤および溶媒を含む溶液に暴露され、それによって、キレート剤および溶媒を導入した熟成触媒となる。熟成触媒は、熟成触媒から、キレート剤のかなりの部分を除去することなく、溶媒の一部分を熟成触媒から除去する乾燥温度を含む条件に暴露され、乾燥熟成触媒となる。乾燥熟成触媒は、次いで、硫黄処理されて、回復した触媒を与える。回復した触媒およびこの処理方法により作製された触媒は、水素化処理条件下で、回復した触媒と炭化水素供給原料とを接触させることを含む水素化処理方法において使用することができる。 (もっと読む)


使用されたために、または炭素が堆積したために、使用済みとなった水素化処理触媒の触媒活性を回復させる方法が開示される。この方法は、炭素が、具体的に定義された濃度範囲内に収まるように、調節されたやり方で使用済み水素化処理触媒から除去される炭素低減ステップを含む。炭素を除去するステップの後で、その結果得られた、低減された炭素濃度を有する触媒は、得られた炭素低減触媒がキレート剤と接触させられ、制御された炭素低減ステップからの恩恵を実現するために必要な時間熟成させられる、キレート処理を施される。好ましい実施形態においては、キレート処理から得られた触媒は、元素状硫黄を内部に取り入れることおよびオレフィンを触媒と接触させることを含む硫化処理にかける。 (もっと読む)


ディーゼルエンジン等の内燃機関から排出される排気ガス中のパティキュレートを捕捉するためのフィルタとして、あるいはこの排気ガスの浄化を行なうための触媒担体として使われるハニカム構造体を用いた排気ガス浄化装置は、ハニカム構造体として、セラミック粒子と結晶質シ
リコンとからなる複合材を用いて形成される。ハニカム構造体にて捕捉されたパティキュレート等は、250〜800℃の温度範囲で燃焼され、除去されるので、比較的低温の温度分布が生じたり、長期間の冷熱サイクルが繰り返された場合であっても、熱応力の蓄積が抑制され、クラックの発生が防止され、耐熱衝撃性が向上する。 (もっと読む)


補助塩基により反応性混合物から酸を分離するための方法であって、その際、この補助塩基は、b)酸との塩を形成し、この塩は、価値のある生成物が液体塩の分離中にあまり分解されない温度で液状であり、およびc)前記補助塩基と価値のある生成物との塩または適当な溶剤中での価値のある生成物の溶液は、2つの不混和性の液相を形成する、補助塩基により反応性混合物から酸を分離するための方法において、補助塩基としてアルキルイミダゾールを使用し、このアルキルイミダゾールは、25℃で30質量%の塩化ナトリウム溶液中での溶解度10質量%またはそれ以下を有し、前記のアルキルイミダゾールの塩酸塩は、55℃未満の融点を有することを特徴とする、補助塩基により反応性混合物から酸を分離するための方法。 (もっと読む)


摩滅耐性および/または脱集合耐性を示す改変触媒担体が提供される。担体スラリーを一ケイ酸の溶液で処理することを含む、改変触媒担体を作製するためのプロセスが提供される。Fischer−Tropsch合成における改変触媒単位対を含む触媒を使用するためのプロセスが提供される。1つの実施形態において、触媒組成物であって、以下:担体表面積1nm当たり約0.1個〜約10.6個のSiが上に堆積された担体材料であって、ここで、Si原子が酸素原子を介して担体材料に結合されている、担体、を含む、触媒組成物が提供される。
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本発明は、ガス流からの硫化水素除去及びその硫黄への変換に有用な触媒、かかる触媒の調製方法、及び前記触媒を使用した硫化水素の除去方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、改質触媒の再生法に関する。触媒は、一般的に、少なくとも1種の貴金属、好ましくは、元素周期律分類第VIII族からの金属、場合による少なくとも1種の追加金属、少なくとも1種のハロゲンおよび少なくとも1種の多孔性媒体を含む。本発明の方法は、少なくとも1回の使用済み触媒の燃焼期および少なくとも1回のオキシハロゲン化段階を包含し、これらの段階は、単一の再生領域において行われ、該領域には、再生されるべき触媒が流動床の形態で置かれる。 (もっと読む)


(a)ルテニウムまたはオスミウム、および(b)有機ホスフィンを含む触媒の存在下で、ジカルボン酸および/またはその誘導体をアミンと共に水素化する均一系の方法であって、水素化が水の存在下で実施される方法。 (もっと読む)


接触分解工程、好適には流動式接触分解工程中に発生するNOを減少させる組成物を開示する。この組成物は流動式接触分解用触媒組成物、好適にはY型ゼオライト含有触媒組成物およびフェリエライトゼオライト粒子含有粒状NO減少用組成物を含んで成る。前記NO減少用組成物に含有させるフェリエライトゼオライト粒子を好適には無機結合剤と結合させておく。別法として、前記フェリエライトゼオライト粒子を分解用触媒の中に前記触媒の一体化成分として取り込ませる。本発明に従うNO減少用組成物はFCC工程条件下で稼働している流動式接触分解装置の再生装置から排出されるNO排気を変換率も分解生成物収率も実質的に変えることなく減少させるに非常に有効である。また、本組成物の使用方法も開示する。 (もっと読む)


芳香族アルキル化反応(4)の過程で失活したゼオライトベータ触媒、例えば失活希土類促進ゼオライトベータ触媒を再生するための方法。コークスの堆積により失活したゼオライトベータ転換触媒が酸素を含まない不活性環境(38)中で300℃を超える高い温度まで加熱される。酸化性再生ガスがこの触媒床に供給され、比較的多孔質のコークス成分の一部分を酸化し、そしてこの触媒床(4)の中を移動する発熱を生じさせる。このガスの温度と酸素含量の少なくとも一つを漸次増大させて、このコークスの多孔質の成分を酸化する。増加された酸素含量または上昇された温度の少なくとも一つを有する再生ガスを供給して、このコークスの低多孔質の耐火性成分を酸化する。不活性ガスを低下させた温度でこの触媒床(4)に通すことにより、再生工程(38および38a)が完結される。
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本発明は、第VIB族金属酸化物および第VIII族金属酸化物を含む水素化処理触媒を活性化する方法において、該方法が、該触媒を酸並びに80〜500℃の範囲の沸点およびリットル当たり少なくとも5グラムの水中溶解度(20℃、大気圧)を持つ有機添加剤と接触させ、任意的に引き続いて少なくとも50%の添加剤が触媒中に保持されるような条件下に乾燥することを含む、上記方法に関する。水素化処理触媒は、新品の水素化処理触媒または使用されて再生されている水素化処理触媒であることができる。 (もっと読む)


小さい炭化水素から炭化水素を合成する方法であって、炭素−炭素のカップリングを容易にさせるために使用される金属−酸素触媒反応体を使用する炭化水素のハロゲン化、同時的なオリゴマー化及びハロゲン化水素の中和、そして生成物の回収の工程を包含する。空気又は酸素による処理でハロゲンが遊離され、触媒反応体が再生される。 (もっと読む)


不活性担体上のRu、Rh、Pd、Os、Ir及びPtからなる群から選択される少なくとも1種の触媒金属を含む使用ずみの水素化触媒を再生する方法であって、前記再生方法は本質的に、酸素の存在下で300〜700℃の温度における熱処理からなる。 (もっと読む)


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