本発明は、四級窒素含有セルロースエーテルを含んでなる布地手入れ用品、並びに布地を保護するための、毛羽低減、毛玉低減、しわ低減、しわ伸ばし、柔らかな肌触りの向上、及び平らな布地シート材料の易アイロンがけのための、該製品の使用に関する。 （もっと読む）

クリーニング組成物、パーソナルケア製品、家庭用ケア製品又は布地処理組成物からの、芳香物質、日焼け防止剤、ビタミン、薬物、殺生剤、有害生物駆除剤、触媒及び清涼剤のような活性材料の放出を制御するための、上記活性材料及びワックス状シリコーン材料のブレンドを含む組成物。本発明は、上記活性材料及びワックス状シリコーン材料のブレンドが、第四アンモニウム分子中に少なくとも１つのエステル結合基を含有するエステルクアット第四アンモニウム材料である陽イオン性界面活性剤、又はそれぞれが少なくとも炭素数１２を有する少なくとも２つのアルキル鎖を含有する第四アンモニウム材料である陽イオン性界面活性剤を含む水中油型エマルジョンの分散相として存在することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、腐食抑制剤システム、特にアルカリ条件（特に食品および製薬の産業における）下におけるアルミニウムまたは着色金属およびその合金の表面用洗浄・腐食抑制組成物に関するものである。前記表面用洗浄・腐食抑制組成物は、腐食抑制剤として少なくとも１種の一般式（Ｉ）［式中、Ｚは−Ｏ−Ｍまたは−Ｏ−（ＡＯ）ｎ^２−アルキルのいずれかであり、ここで、Ｍはアンモニウム、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンであり、アルキルは、Ｃ_５〜Ｃ_２２アルキルまたはアルキルアリール基であり、ＡＯは、Ｃ_２〜Ｃ_４アルキレンオキシド単位であり、ｎ^１、ｎ^２およびｎ^３は、それぞれ２〜１０の整数である］を有するアルキレンオキシアルキルホスフェートジエステルまたはトリエステルを含む。
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少なくとも１つの親水性置換基を有するオルガノポリシロキサン、水混和性の揮発性溶媒、及び水の混合に基づくベシクル組成物の調製方法を開示する。前記方法によって製造されるベシクル組成物は各種のパーソナルケア、ハウスホールドケア、及びヘルスケアに対する適用に有用である。 （もっと読む）

本発明は、ドライエマルションに関する。特に本発明は、疎水性液相及び水溶性又は水分散性ポリマーマトリックスを含み且つ疎水性相含有率が高いドライエマルションに関する。本発明はまた、ドライエマルションの製造方法及び該エマルションの使用にも関する。用いられる水溶性マトリックスは、ブロックコポリマーを含有する。 （もっと読む）

本発明は、漂白剤と、水溶性物質で封入された粒子状ペルオキシカルボン酸とを含有する、無水で液状の洗剤または洗浄剤に関する。 （もっと読む）

本発明は、漂白剤、少量の水および粒状ペルオキシカルボン酸を含有し、水の導入なしにラメラ液晶相を形成する液体の洗浄または浄化剤に関する。また本発明は、本発明に従って組成した製剤を含有する水溶性分配物に関する。 （もっと読む）

満足できる洗浄および乾燥速度を提供しつつ、ゼロないし低揮発性を有するガラス用及び一般用洗浄組成物が記載されている。この洗浄組成物は、少なくとも１種の低揮発性非ＶＯＣ蒸発性有機溶媒、少なくとも１種の界面活性剤、水性担体および必要によりひとつ以上の共溶媒を含有する。組成物は、約４重量％未満の揮発性有機溶媒化合物（ＶＯＣ）含量を有する。 （もっと読む）

ポリマービグアニドまたはビス（ビグアニド）化合物、キレート剤、および緩衝剤を含む局所洗浄組成物、ならびに皮膚または耳組織感染を予防または治療するためにそれらの組成物を使用する方法が提供される。 （もっと読む）

水溶性である高分子に由来する高分子骨格とこの骨格に結合した１種または複数の誘導体化基とを含む高分子フィルムによりカプセル化された活性剤を含むデリバリーシステムであって、（複数種の）誘導体化基は０．５から６のＣｌｏｇＰを有する親物質から誘導され、前記デリバリーシステムは高分子フィルムの外側に界面活性剤もまた含む。 （もっと読む）

水性液体媒質中に、塩化セチルピリジニウムおよび非イオン性界面活性剤を含んでなる、高い抗微生物活性を有する多目的コンタクトレンズケア溶液。本発明の一実施態様において、該非イオン性界面活性剤は、ポリ(オキシプロピレン)-ポリ(オキシエチレン)ブロックコポリマーである。該溶液は、必要に応じて、さらなる抗微生物成分、緩衝剤成分、粘度誘発成分、界面活性剤、タウリン、プロピレングリコールおよび／または張度成分を含有し得る。さらに、この溶液は、コンタクトレンズ装用中の眼組織膜の完全性の損失を防ぐ。 （もっと読む）

本発明は少なくとも一種のシラン化合物、コロイドシリカ粒子、及び洗剤を混合してシラン処理されたコロイドシリカ粒子を含む水性洗剤分散液を生成することを特徴とする水性洗剤分散液の調製方法に関する。また、本発明はその方法により得られる分散液及びその使用に関する。 （もっと読む）

例えば前述の銀合金である金属を処理する際に使用するために開示したものは、アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、前記処理剤を可溶化する上で有用な濃度の、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを含む水性組成物である。好ましくは、本組成物が、少なくとも非イオン性であり比較的疎水性である界面活性剤（例えばココアミドDEA）を含む。本組成物は、 Ag-Cu-Ge 合金の処理に際して特に適している。 （もっと読む）

アニオンＮ−置換フッ素化スルホンアミド界面活性剤ならびにクリーニング溶液および酸エッチング溶液中での該界面活性剤の使用が記載されている。クリーニング溶液およびエッチング溶液は、例えば、酸化シリコン含有基材のクリーニングおよびエッチングにおいて多様な基材と合わせて用いられる。 （もっと読む）

家庭用、施設用、工業用及び／又は商業用の表面を処理する方法であって、水溶性のスルホン化／カルボキシル化ポリマーを含有する表面処理組成物に表面を接触させる工程を含む方法が提供される。 （もっと読む）

水溶性のスルホン化／カルボキシル化ポリマーを含有する、家庭用、施設用、工業用及び／又は商業用の表面処理組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】殺菌洗剤組成物の提供。
【解決手段】硬質表面及び織物繊維材料の殺菌処理のための、式（１）


（式中、Ｒ₁は、水素原子又は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）で表わされる化合物の使用を開示する。式（１）で表わされる化合物は、洗浄された織物材料に抗菌性を付与する。着ている間に織物材料上に付着した細菌を破壊する。所望によりハロゲン化されたヒドロキシ−ジフェニルエーテル殺生剤と組み合わせた、式（１）で表わされる化合物を含む洗剤組成物も開示する。 （もっと読む）

本発明は、ホスホリパーゼ活性（例えばホスホリパーゼA、B、C及びD活性、パタチン活性、ホスファチジン酸ホスファターゼ（PAP）及び/又は脂質アシルヒドロラーゼ（LAH）活性を含む）を有する新規なポリペプチド、前記ポリペプチドをコードする核酸、前記ポリペプチドと結合する抗体を提供する。これらホスホリパーゼの使用を含む工業的方法（例えば油の脱ガム）及び製品もまた提供される。
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【課題】この開示は、半導体装置を製造する間に、半導体ウェハの化学機械平坦化（ＣＭＰ）後のウェハの洗浄を扱う。
【解決手段】金属、特に銅、相互接続、を含むウェハの後ＣＭＰ洗浄用アルカリ化学薬品が開示される。残留スラリーパーティクル、特に銅および他の金属パーティクルは十分に金属をエッチングしたり、表面に堆積物を放置したりまたは金属を酸化および腐食から保護する間、ウェハに対して十分な汚染物を被ったりせずにウェハ表面から除去される。また、少なくとも１つの強キレート剤は溶液中の金属イオンと錯体を形成するための存在し、誘電体から金属の除去を促進し、かつウェハ上への再堆積を防ぐ。 （もっと読む）

その上にフォトレジスト及び／又は犠牲反射防止膜（ＳＡＲＣ）材料を有する基板からかかる材料を除去するための組成物及びプロセスを開示する。この組成物は、アルカリ又はアルカリ土類金属塩基との組み合わせの第四級アンモニウム塩基などの塩基成分、あるいは酸化剤との組み合わせの強塩基を含む。例えば、キレート剤、界面活性剤、及び／又は共溶媒種と一緒に水性媒体中でこの組成物を利用して、集積回路製造において基板上の銅、アルミニウム及び／又はコバルト合金などの金属種に悪影響のない状態で、かつ、半導体構築において利用されるＳｉＯＣをベースとする誘電材料に損傷のない状態でフォトレジスト及び／又はＳＡＲＣ材料の非常に効率的な除去を達成することができる。 （もっと読む）