【課題】経時保存後においても良好な洗浄力を有すると共に、拭き跡残りも低減された拭き取り用洗浄剤組成物、及び当該拭き取り用洗浄剤組成物を用いる洗浄方法の提供。
【解決手段】過酸化水素（Ａ）と、両性界面活性剤（Ｂ）と、ｐＨ５〜８の溶液において緩衝機能を有する化合物（Ｃ）０．３〜１．５質量％とを含有し、当該両性界面活性剤（Ｂ）と当該化合物（Ｃ）との混合割合［（Ｂ）／（Ｃ）］が質量比で２〜１５であり、かつ、ｐＨが８以下であることを特徴とする拭き取り用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗濯物の再汚染防止効果に優れ、白濁等が生じず外観安定性にも優れており、かつ容器中の酸素が吸収されて該容器が凹むことを抑制できる液体洗浄剤組成物の提供を目的とする。
【解決手段】（Ａ）成分：特定のアルキレンオキサイド付加体と、（Ｂ）成分：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸と、（Ｃ）成分：アルカノールアミンと、（Ｄ）成分：過酸化水素とを含有し、前記（Ａ）成分の含有量が５０〜７０質量％であることを特徴とする液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニクスデバイスまたはナノエレクトロニクスデバイスを洗浄するための洗浄組成物であって、組成物中の唯一の酸および唯一のフッ化物化合物としてのＨＦと、スルホンおよびセレノンからなる群から選択された少なくとも１種の第一の溶媒と、金属イオン錯化または結合部位を有する、ポリヒドロキシルアルキルアルコールまたはポリヒドロキシルアリールアルコールの少なくとも１種の共溶媒と、水と、任意選択で少なくとも１種のホスホン酸腐食防止剤化合物とを含み、アミン、塩基、およびその他の塩を含まない洗浄組成物。 （もっと読む）

本発明は、ストリッピング組成物と、注入フォトレジストを洗浄する方法でのそのようなストリッピング／洗浄組成物の使用とに関し、この組成物は、シリコン、チタン、窒化チタン、タンタル、およびタングステンに適合可能なものである。半導体デバイスの表面から高ドーズ量イオン注入フォトレジストを除去するための組成物であって、６５℃を超える引火点を有する少なくとも１種の溶媒、ニトロニウムイオンを提供する少なくとも１種の成分、および少なくとも１種のホスホン酸腐食防止剤化合物を有する組成物と、半導体デバイスの表面から高ドーズ量イオン注入フォトレジストを除去するための、そのような組成物の使用が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた洗浄性、および耐泡立ち性を呈し、さらにＣＯＤの少ないＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いたＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＮｉ−Ｐ含有層を有するＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、重量平均分子量が１,０００〜１０,０００であるポリアクリル酸アルカリ金属塩（成分(a)）と、ｐ−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩（成分(b)）と、水溶性アミン化合物（成分(c)）と、キレート剤（成分(d)）と、水（成分(e)）とを含有し、実質的に非イオン性界面活性剤は含まず、成分(a)、成分(b)、成分(c)、および成分(d)の総量中、成分(a)を５〜３５重量％、成分(b)を１５〜５０重量％、成分(c)を１５〜５０重量％、成分(d)を５〜２５重量％含有し、かつ成分(c)と成分(d)の重量比｛成分(c)/成分(d)｝が０．８〜５である。 （もっと読む）

様々な表面上の汚物を防除するための洗浄剤組成物は、析出防止製剤、苛性物及び界面活性製剤を含む。該析出防止製剤は、スルホネート／アクリレートコポリマー、アクリレートホモポリマー及びホスホノアルカンカルボン酸を含み、約２：１〜約１：２のスルホネート／アクリレートコポリマー：アクリレートホモポリマーの質量比を有する。該洗浄剤組成物のｐＨは約１０〜約１３である。 （もっと読む）

水溶性フィルムから製造され、かつ少なくとも２つの区画を有する洗濯用多区画パウチ。本発明のパウチは、固体成分及び液体成分を含有する組成物を含み、この固体成分は、過酸化物源及び特定のポリマーの混合物を含有する。
（もっと読む）

【課題】
高屈折率化を可能とする硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を使用した光学材料用組成物用の洗浄剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄剤であって、ラクタムを有する化合物と酸性化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物の洗浄剤および該洗浄剤で硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄方法であり、さらには洗浄後の廃液の安定性が高く、一般的な廃液処理が可能となった。 （もっと読む）

【課題】製鉄所の操業を停止することなく、その操業中に循環冷却水系内に設置された濾過器及び／又は冷却塔のマンガン汚れ又はマンガン析出物を溶解除去することができる循環冷却水系用洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】鉄鋼製造工程における循環冷却水系に設置された濾過器及び／又は冷却塔のマンガン汚れ又はマンガン析出物を溶解する洗浄剤であって、ホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる鉄鋼製造工程における循環冷却水系用洗浄剤。濾過器及び／又は冷却塔にホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる洗浄剤を接触させて、マンガンによる汚れ又はマンガン析出物を溶解する鉄鋼製造工程における循環冷却水系の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】 微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れると共に基板上の金属汚染が低減でき、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 スルファミン酸（Ａ）、分子内に少なくとも１個のスルホン酸基又はその塩基を有するアニオン性界面活性剤（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）及び水を含有してなる電子材料用洗浄剤であり、２５℃でのｐＨが３以下であることが好ましい。 （もっと読む）

過酸素漂白剤と、結晶性ヒドロキシル含有安定化剤と、香料マイクロカプセルと、総組成物の１０重量％以上の界面活性剤とを含み、化学的及び物理的に安定な液体組成物。香料マイクロカプセルは好ましくは、メラミンとホルムアルデヒドとの縮合から作製される高分子外殻を含む。布地を洗濯するための方法は、布地を上記漂白組成物と接触させる工程を含む。
（もっと読む）

過酸素漂白剤と、香料マイクロカプセルと、総組成物の１０重量％未満の界面活性剤とを含み、化学的及び物理的に安定な液体組成物。香料マイクロカプセルは好ましくは、メラミンとホルムアルデヒドとの縮合から作製される高分子外殻を含む。布地を洗濯するための方法は、布地を上記漂白組成物と接触させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】リンス時に発生しうる基板表面のスクラッチやナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用リンス剤組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ）の共重合体及び下記（ｂ）の両性界面活性剤の少なくとも一方と、酸化剤とを含有し、ｐＨが１〜６である磁気ディスク基板用リンス剤組成物。
（ａ）カルボン酸基を有する構成単位及びスチレン誘導体に由来する構成単位の少なくとも一方と、スルホン酸基を有する構成単位とを有する共重合体。
（ｂ）下記式（１）で表される両性界面活性剤。


［上記式（１）において、Ｒは炭素数８〜１６のアルキル基である。］ （もっと読む）

連続的水相、１５〜５０ｗｔ％を含む効果的な汚れ除去量のアルカリ源および２〜３０ｗｔ％の非イオン性界面活性剤、０．１〜１０ｗｔ％を含む効果的な水調整量または金属イオン封鎖量の水調整剤または金属イオン封鎖剤、０〜１０ｗｔ％を含む効果的な汚れ除去量およびエマルジョン安定化量のアルキルポリグルコシド界面活性剤、１〜２５ｗｔ％を含む効果的な増粘化量のポリカルボン酸、０．２５〜５ｗｔ％を含む効果的な増粘化量の脂肪酸を含む相安定性の増粘化されたエマルジョンを含む液体クリーナー濃縮組成物であって、分散相が、非イオン性界面活性剤の一部分を含み、そして該増粘されたエマルジョン濃縮物が製造および使用の間に吐出を可能にするずり減粘を示し、そして粘度が２０℃においてＢｏｈｌｉｎ ＣＶＯレオメーターを使用して、０．２／秒のずり速度の回転せん断モードで測定して、１００、０００ｃＰ超を含む、組成物。
（もっと読む）

【課題】高い洗浄効果及び漂白効果を有し、且つ、柔軟効果を繊維製品に付与できる液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）非イオン界面活性剤、（ｂ）（ｂ１）特定のエステル化反応物を４級化した反応生成物及び（ｂ２）一般式（ｂ２）で表される特定の化合物から選ばれる成分、（ｃ）過酸化物、及び（ｄ）水を含有し、（ａ）／（ｂ）質量比が特定の範囲にあり、２０℃におけるｐＨが１〜４である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 優れた泡保持性、洗浄性を有するとともに、被洗浄面に白化を生じることなくアルミニウム材質に対して腐食性のない飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供。
【解決手段】
下記の（Ａ）成分から（Ｆ）成分を、組成物全体に対し下記の割合で含有するとともに、（Ｇ）成分としての水を残質量％含有することを特徴とする飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物を用いる。（Ａ）アルカリ剤０．１〜５質量％、（Ｂ）アニオン界面活性剤０．５〜５質量％、（Ｃ）炭素原子数が１２〜１８のアルキル基またはアルキレン基を有するアルキルジメチルアミンオキサイド０．５〜５質量％、（Ｄ）芳香族スルホン酸塩０．５〜５質量％、（Ｅ）水溶性カルシウム化合物０．１〜５質量％、（Ｆ）金属イオン封鎖剤１〜１０質量％。 （もっと読む）

【課題】エネルギーコストをかけることなく安価に、高品質の自動食器洗浄機用固形洗浄剤を製造する方法と、それによって得られる自動食器洗浄機用固形洗浄剤を提供する。
【解決手段】非加熱、非冷却、非加圧下において、下記の（Ａ）〜（Ｅ）成分を配合して撹拌混合し、ついで下記の（Ｆ）成分を配合して撹拌混合した後、注型固化させる。
（Ａ）アルカリ剤５〜３０質量％。
（Ｂ）水 １５〜６０質量％。
（Ｃ）非イオン界面活性剤 ０．０１〜５質量％。
（Ｄ）水溶性キレート剤 ５〜５０質量％。
（Ｅ）高分子電解質重合体 ０．１〜１０質量％。
（Ｆ）無水水酸化アルカリ金属塩 １０〜５０質量％。 （もっと読む）

【課題】洗浄時において微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れ、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する
【解決手段】 炭素数２〜８の脂肪族第１級アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を含有してなり、前記（Ａ）の２級アミン価と３級アミン価の合計（Ｙ）に対する２級アミン価（Ｘ）の比率［（Ｘ）／（Ｙ）］が、０．５以下であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】水系条件下でも、フタールイミドパーカルボン酸を溶解した状態で長期に渡って安定に保存でき、使用時に高い漂白性能を発現する水系漂白洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）特定のフタールイミドパーカルボン酸、（ｂ）特定の硫酸エステル塩、及び水を含有する液体漂白洗浄剤組成物。 （もっと読む）