【課題】低濃度かつ短時間の作用で、従来の消毒薬が無効であったノロウイルス等の非エンベロープ型ウイルスに対しても優れた不活化効果を有し、安全性が高く、低刺激性であり、さらに経済性にも優れるウイルス不活化組成物を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるポリアルキレンビグアナイドおよびその塩よりなる群から選択される１種または２種以上と、式（２）で示される第４級アンモニウム塩の１種または２種以上とを含有させて、ウイルス不活化組成物とする。


［式中、Ｒ^ａはアルキレン基、ｎは２〜１８の整数を示す。］


［式中、Ｒ^１およびＲ^２は、炭素数８〜１８のアルキル基、Ｒ^３およびＲ^４は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ａ⁻は無機または有機の陰イオンを示す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、安全性が高く、かつ、貯蔵安定性の優れた過酢酸製剤を使用して、被洗物に付着した耐熱性菌を、高い信頼性で洗濯殺菌できるのみならず、洗濯中の作業環境を損なわず、かつ、廃液処理が容易な洗濯方法を提供する。
【解決手段】アルカリ洗剤と過酢酸製剤とを使用する被洗物の洗濯方法において、被洗物を予洗し、該予洗に使用した水を抜き取り、次いで、アルカリ洗剤と過酢酸製剤とを含む水であって、該水中の過酢酸濃度が１０〜５００質量ｐｐｍである水により、上記の予洗した被洗物を、更に本洗することを特徴とする洗濯方法。 （もっと読む）

【課題】起泡性界面活性剤と共に使用することにより泡立ち速度に優れる増泡剤及びそれらを含む洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式（１）の構造を有する３級アミン化合物からなる増泡剤および増泡剤と起泡性界面活性剤を含有する洗浄剤組成物。


［但し式中Ｒ^１は炭素数５〜９のアルキル基を示し、Ｘは連結基であり−ＮＲ^４−，−（ＯＲ^５）pＯ−（ただし、式中Ｒ^５は分枝してよい炭素数１〜３のアルキレン基、ｐは０〜３の数、Ｒ^４は水素原子、ヒドロキシ基を含んで良い炭素数１〜３のアルキル基を示す。）を示し、ｍは０又は１の数を示し、ｎは１〜３の数を示す。Ｒ^２、Ｒ^３は互いに独立に水酸基を含んで良い炭素数１〜３のアルキル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】低温でも製剤化が可能な、アルキル硫酸塩を含有する界面活性剤組成物を提供すること、該界面活性剤組成物を粉体原料に含浸させて担持させることにより、低温溶解性及び低温分散性に優れる洗剤組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）：アルキル硫酸塩を５〜５０質量％、（ｂ）：アルキルエーテル硫酸エステル塩を０〜５０質量％、（ｃ）：非イオン性界面活性剤を４０〜７０質量％、及び（ｄ）：水を含有してなる界面活性剤組成物であって、成分（ｄ）の量は、該界面活性剤組成物が６０℃にて構造体を形成しない量であり、６０℃における粘度が０．８Ｐａ・ｓ以下である界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】３，５−ジヒドロキシ−２−メンテニルスチルベン、それを含む植物抽出物と殺菌抗菌剤を有効成分とする抗微生物剤及びこれを配合した口腔用組成物等の応用を提供する。
【解決手段】３，５−ジヒドロキシ−２−メンテニルスチルベン（Ａ）、３，５−ジヒドロキシ−２−メンテニルスチルベン（Ａ）及び３，５−ジヒドロキシスチルベン（Ｂ）、又は３，５−ジヒドロキシ−２−メンテニルスチルベン（Ａ）を固形分の１質量％以上及び／又は３，５−ジヒドロキシスチルベン（Ｂ）を固形分の１質量％以上含有するクロモジ又はその亜種からの抽出物と、殺菌抗菌剤とからなる抗微生物剤。
上記（Ａ）成分、（Ａ）及び（Ｂ）成分、又は上記抽出物と殺菌抗菌剤とを含有する口腔用組成物等の応用。 （もっと読む）

【課題】カビ胞子を殺す効果と洗浄効果を有するカビ防除洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）カチオン界面活性剤、（ｂ）両性界面活性剤、（ｃ）非イオン界面活性剤、（ｄ）グリコールエーテル系溶剤、並びに水を含有することを特徴とする液状カビ防除洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属の混入や露光などの過酷な条件下においても過酸化水素を安定に配合でき、ガス発生レベルで過酸化水素分解を抑制すると共に、長期保存後も液の黄変化や分離など、品質劣化を起こさない、過酸化水素と高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）過酸化水素、（Ｂ）特定の非イオン界面活性剤、（Ｃ）有機ポリホスホン酸又はその塩、（Ｄ）特定のヒドロキシフェニル化合物、（Ｅ）（Ｅ１）炭素数８〜２２の脂肪酸又はその塩及び（Ｅ２）カルボキシ基を有する構成単位を有する高分子重合体から選ばれる１種以上のカルボン酸系化合物、並びに水を含有し、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３．０〜６．０である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】皮膚に油っぽい感触が残ることなくすっきりと洗い流せる、皮膚のかさつきが生じない、など使用感に優れた油性ゲル状クレンジング用組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】
（Ａ）ジ脂肪酸アシルグルタミン酸リシン塩
（Ｂ）ＨＬＢが１５以上の多価アルコール脂肪酸エステルと水酸化レシチンから選択される１種以上
（Ｃ）油性成分、
（Ｄ）多価アルコール
を、含有することを特徴とする油性ゲル状クレンジング用組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】噴霧乾燥を使用しない方法にて、陰イオン界面活性剤を含有する、中低嵩密度の洗剤粒子群を収率良く製造する方法を提供すること。
【解決手段】洗剤用粉体原料を容器回転型混合機を用いて造粒する工程を有する洗剤粒子群の製造方法であって、陰イオン界面活性剤組成物の発泡体を、多流体ノズルを用いて該容器回転型混合機内に噴霧して該洗剤用粉体原料の造粒を行う、洗剤粒子群の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ゼオライト由来の溶け残りによる染みを低減でき、再汚染防止性に優れた粉末洗剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）陰イオン界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤、（Ｃ）平均粒径が３〜５０μｍのゼオライト５〜６０質量％、（Ｄ）重量平均分子量２０万〜２００万、かつ、エーテル化度０．１８〜０．６５のカルボキシメチルセルロース又はその塩０．１〜１０質量％を含有し、（Ａ）と（Ｂ）の含有量の合計が５〜６０質量％であり、（Ａ）／（Ｂ）質量比が４／６〜６／４であり、平均粒径が１００〜１０００μｍである、粉末洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】噴霧乾燥を含まない方法にて、陰イオン性界面活性剤を含有する、低温の水への溶解性が良好な洗剤粒子群を製造する方法を提供すること。
【解決手段】粉末洗剤原料に、a)陰イオン性界面活性剤、c)アルキルグリセリルエーテル及びb)水を含有する界面活性剤ペーストを多流体ノズルを用いて添加し、容器回転型造粒機によって混合する、界面活性剤ペースト混合工程を含む洗剤粒子群の製造方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄成分をより高濃度化することができるため搬送性等に優れ、使用時には、所望の濃度の希釈液体洗剤を容易に得ることができる濃縮液体洗剤を提供すること。
【解決手段】
水で希釈して使用する濃縮液体洗剤であって、第一の相と第二の相とを含み、上記第一の相と上記第二の相とは非相溶性であり、水で所定の倍率に希釈すると、上記第一の相と上記第二の相とは相溶性を示して、均一に分散された一相の液体となることを特徴とする濃縮液体洗剤。 （もっと読む）

【課題】浴室等に発生したピンク色及び／又は紅色を呈する汚れを除去する手段を提供する。
【解決手段】（ａ）特定のカチオン界面活性剤、（ｂ）炭素数が８〜２２のアルキル基を有する両性界面活性剤、（ｃ）ベンジルアルコール等の特定の有機化合物を、それぞれ所定範囲の量で含有し、（ａ）／（ｂ）の質量比が０．３０〜８であり、（ａ）／（ｃ）の質量比が０．０５０〜３５である硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は製剤の安定性、洗浄性の向上のみならず、泡のきめ細かさ、泡立ちのよさ、泡の持続性、弾力性等の改良された製剤を得ることにある。
【解決手段】
以下の成分を含むｐＨ５．５〜７．０である液体洗浄剤が、本発明の目的を達成することがわかった。
Ａ） Ｎ−長鎖アシルアミノ酸塩より選ばれる１種以上
Ｂ） ポリエチレングリコールエーテル系増粘剤
Ｃ） 糖およびその誘導体
Ｄ） カチオン性高分子、高重合ポリエチレングリコールより選ばれる１種以上
Ｅ） 水 （もっと読む）

【課題】 良好な親水性を有するとともに、吸着能が高く、高硬度下においても格段に優れた分散性を発揮し、例えば、洗剤組成物用途に好適に使用することが可能な水溶性両性共重合体及びその用途、並びに、このような水溶性両性共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 カチオン性単量体（ａ）、アニオン性単量体（ｂ）及び不飽和ポリアルキレングリコール系単量体（ｃ）を必須とする単量体成分を共重合してなる水溶性両性共重合体であって、上記単量体（ｂ）は、カルボキシル基含有単量体及び／又はスルホン酸基含有単量体（ｄ）であり、上記単量体（ｂ）がカルボキシル基含有単量体のみからなる場合、上記単量体（ｂ）は、単量体（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の総量１００モル％に対して、５０モル％よりも多く、上記単量体（ｂ）がスルホン酸基含有単量体（ｄ）を含んでなる場合、上記単量体（ａ）、（ｄ）及び（ｃ）のうち少なくとも１種の単量体は、単量体（ａ）、（ｄ）及び（ｃ）の総量１００モル％に対して、３０モル％以下である水溶性両性共重合体である。 （もっと読む）

【課題】研磨材や研磨屑等の無機粒子に対する洗浄性が向上したガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）〜（４）を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。（１）ｐＨが１．０〜４．０である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ａに浸漬しながら、洗浄工程（３）に搬送する工程。（３）工程（２）で搬送された基板を、ｐＨ８．０〜１３．０のアルカリ性洗浄剤組成物Ｂを用いて浸漬洗浄する工程。（４）工程（３）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ｃを用いてスクラブ洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】研磨後の表面粗さの悪化を抑制し、かつ、洗浄性に優れる酸性洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】平均付加モル数が１０〜９０である炭素数２〜４のオキシアルキレン基と、アニオン性基（カルボン酸基を除く）又はその塩とを有する水溶性化合物、酸、及び水を含み、２５℃におけるｐＨが０．５を超え５．０未満である、シリカ研磨材及び／又はシリカ研磨屑が付着した電子材料基板を洗浄するための電子材料基板用酸性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】クーラント、砥粒、あるいはシリコン粉に対する優れた洗浄性能を有し、かつ、その後のエッチング工程において良好なテクスチャーを形成することができるウェハ表面を作り上げることができるシリコンウェハ用表面処理剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｄ）からなる；（ａ）エーテル型非イオン界面活性剤０．１〜４０重量％、Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ、Ｒ：炭素数８〜２４の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基、ＡＯ：炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎ：１〜１００（ｂ）アルキルポリグルコシド５〜４０重量％、Ｒ−Ｏ−（Ｇ）ｎ−Ｈ、Ｒ：炭素数１〜２２の直鎖又は分岐のアルキル基、Ｇ：炭素数５〜６の還元糖、ｎ：１〜５（ｃ）アルカリ剤１〜３０重量％（ｄ）水、前記成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）との合計量１００重量％中の残部。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板、電極または配線上に存在する有無機汚染物またはパーティクルを除去することが可能な平板表示装置用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の平板表示装置用洗浄剤組成物は、組成物の総重量に対して、第４級アンモニウム塩化合物０．０１〜１０重量％、グリコールエーテル化合物０．０１〜１０重量％、リン酸エステル化合物０．０１〜１０重量％、グリセリン化合物０．０１〜５重量％及び接触角低下剤０．０１〜１重量％を含有し、残部が水からなる。 （もっと読む）