【課題】医農薬原料、液晶材料及び光学分割剤として有用な、高純度なマンデル酸類を製造する方法および高純度マンデル酸類結晶を提供する。
【解決手段】マンデロニトリル類を鉱酸で加水分解し、マンデル酸類を製造する方法において、未反応マンデロニトリル類が存在する状態で且つ生成したマンデル酸類の一部を析出させた状態で反応熟成させることを特徴とするマンデル酸類の製造方法。
マンデロニトリル類を鉱酸で加水分解し、マンデル酸類を製造する方法において、未反応マンデロニトリル類が存在する状態で且つ生成したマンデル酸類の５０〜９９．９重量％を加水分解反応液から析出させた状態で反応熟成させることを特徴とするマンデル酸類の製造方法。 （もっと読む）

【課題】主鎖が線状の第１級ジアミンを提供する一工程の方法を提供すること
【解決手段】主鎖が線状の第１級ジアミンの製造方法であって、相応するジオールから、均一系のルテニウム触媒の存在で、液相又は超臨界相中でアンモニア及び／又はアンモニアを放出する化合物又はそれらの混合物と反応させることによる、主鎖が線状の第１級ジアミンの製造方法 （もっと読む）

【課題】ナフトール型カリックス（４）アレーン化合物を選択的に且つ高収率で製造する方法を提供すること。
【解決手段】α−ナフトール化合物とホルムアルデヒドとを、両者のモル比（α−ナフトール化合物／ホルムアルデヒド）が１．０以下となる割合で、かつ、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物を前記α−ナフトール化合物１モルに対して０．０２モル以上となる割合で反応触媒として用い、反応させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
気泡を含まず、分解速度が遅い高品質なガスハイドレートを製造することができるガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法を提供する。
【解決手段】
ガスハイドレート製造装置１において、ガスハイドレート製造装置１が、原料水ｗ中に原料ガスｇを溶解させ溶解水ｗｇを生成する溶解槽２と、溶解水ｗｇを冷却し、ガスハイドレートＧＨを生成する生成槽３を有しており、溶解槽２が、原料ガスｇを供給して原料ガス雰囲気とした筐体１０と、筐体１０内の液体を下部から取り出して上方から再供給して循環する溶解水循環路４と、筐体１０内の温度をガスハイドレートが生成する温度よりも高い温度条件に制御する温度制御装置を有しており、溶解槽２で生成した溶解水ｗｇを、生成槽３でガスハイドレート生成条件である温度まで冷却する制御を行う。 （もっと読む）

【課題】工業的に安定して高選択率、高収率にて１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンを製造することができる方法を提供する。
【解決手段】本発明によれば、フェノールと３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンを酸触媒の存在下に反応させて、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンを製造する方法において、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンのフェノールアダクト結晶と含水フェノールよりなるスラリー中で酸触媒の存在下にフェノールと３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンとの反応を開始させ、引続き、反応をスラリー中で行わせることを特徴とする１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンの製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】フルオロアミン類の有用な製造方法を提供する。
【解決手段】アミノアルコール類のアミノ基をニトロベンゼンスルホニル基で保護することにより（アミノ基保護工程）、アミノアルコール類保護体に変換し、該アミノアルコール類保護体を有機塩基の存在下にスルフリルフルオリド（ＳＯ_２Ｆ_２）と反応させることにより（脱ヒドロキシフッ素化工程）、フルオロアミン類保護体に変換し、該フルオロアミン類保護体のアミノ基の保護基を脱保護することにより（脱保護工程）、フルオロアミン類を製造することができる。ニトロベンゼンスルホニル基は、本発明のアミノ基の保護基としての要件を高度に満たしており、目的とするフルオロアミン類を高い純度で収率良く得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 一段階の反応で合成することができ、かつステンレス製やガラス製の反応器を用いることが可能なビス（フルオロスルホニル）アミド塩、及びペルフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）アルカンスルホニルアミド塩の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 化学式：Ｘ^１ＳＯ_２ＮＣＯ（式中、Ｘは、塩素、フッ素または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のペルフルオロアルキル基である）で示される化合物と、三酸化硫黄と、ＭＦ（式中、Ｍは、１価の陽イオンである）で示される化合物塩とを、反応させる、（ＦＳＯ_２）（Ｘ^２ＳＯ_２）ＮＭ（式中、Ｘ^２は、フッ素または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のペルフルオロアルキル基である）で示される化合物塩の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】原料ガスの組成に対応するガスハイドレートの冷却温度を設定する。
【解決手段】原料ガスｇを水ｗと反応させてガスハイドレートｎを生成するガスハイドレート生成工程１、該ガスハイドレート生成工程で生成されたガスハイドレートを冷却する冷却工程２、該冷却工程で冷却されたガスハイドレートを大気圧まで減圧する脱圧工程３から成るガスハイドレートの製造方法において、前記冷却工程におけるガスハイドレート冷却温度Ｔを、ガスハイドレートの平衡温度ｔ₁ に補正温度ｔ₂ を加算した値とする。 （もっと読む）

【課題】オレフィン系不飽和ケトンの水素化による飽和脂肪族ケトンの製造方法において、触媒の寿命、空時収量、触媒の操作性、および選択性が改善された方法を提供する。
【解決手段】無溶媒下で、ＺｒＯ_２，ＴｉＯ_２，活性カーボン，ＳｉＯ_２，およびＡｌ_２Ｏ_３から選択される担体上に付着した貴金属を含有する触媒の存在下で、連続固定床方式でオレフィン系不飽和ケトンを水素化する工程を含み、貴金属量が０．１〜５％（ｗｔ．／ｗｔ．)であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】メタクリル酸を高選択率で製造できるメタクリル酸製造用触媒、その製造方法、および該メタクリル酸製造用触媒を用いたメタクリル酸の製造方法の提供。
【解決手段】メタクロレインを分子状酸素により気相接触酸化してメタクリル酸を製造する際に用いられ、粉状の触媒前駆体を機械装置で成形する成形工程を含む製造方法により製造されるメタクリル酸製造用触媒であって、表面に、前記成形工程で前記機械装置に接触した部分と接触していない部分とが併存しているメタクリル酸製造用触媒。 （もっと読む）

【課題】抽出可能で毒性を呈し得る成分含量がとりわけ低い利用可能なポリマー、特に超吸収剤を提供すること。
【解決手段】アクリル酸を製造する方法は、ａ．アクロレインを含有する脱水生成物へとグリセリンを脱水する工程と、ｂ．前記脱水生成物を気相酸化して、アクリル酸を含有するモノマーガスを得る工程と、ｃ．前記モノマーガスをクエンチ手段に接触させて、アクリル酸を含有するクエンチ相を得る工程と、ｄ．前記クエンチ相を加工して、アクリル酸を含有するモノマー相を得る工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】酢酸からの直接的且つ選択的な酢酸エチルの製造方法を提供する。
【解決手段】酢酸及び水素を含む供給流を、２００℃〜３００℃の昇温温度において、５〜３０絶対気圧の運転圧力で、シリカ、Ｈ−ＺＳＭ−５等の触媒担体上のニッケル、白金、及びパラジウムからなる群から選択される少なくとも１種類の金属、並びに銅、及びコバルトから選択される少なくとも１種類の金属から実質的になる水素化触媒と接触させる、酢酸エチルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】低級脂肪族カルボン酸を含む溶媒中、重金属化合物及び臭素化合物からなる触媒の存在下、分子状酸素含有ガスを用いてアルキル基含有芳香族炭化水素を液相酸化して芳香族カルボン酸（テレフタル酸を除く）を製造する方法において、液相酸化反応系における触媒成分の変動を低減し、安定な品質の芳香族カルボン酸を得る方法を提供する。
【解決手段】液相酸化して得られた酸化反応スラリーを冷却して芳香族カルボン酸結晶と酸化反応母液とに分離し、酸化反応母液の２５〜９５％をリサイクル母液として液相酸化反応系に循環使用し、残りの酸化反応母液をパージ母液として系外にパージして触媒成分を回収する際に、複数のピリジン環含有キレート樹脂塔を用い、溶離工程からの回収触媒液を回収触媒液槽に１．５〜６時間で滞留させた後、液相酸化反応系に導入する （もっと読む）

【課題】アセトアルデヒドを酢酸から高い選択率及び収率で製造する方法を提供する。
【解決手段】好適な触媒担体上に担持されている鉄、銅、金、白金、パラジウム、及びルテニウムからなる群から選択される少なくとも１種類の金属を含む水素化触媒上において、酢酸を水素の存在下で水素化することを含む、酢酸からアセトアルデヒドを選択的に生成する方法。一態様においては、シリカ上に担持されている白金及び鉄の上で酢酸と水素を反応させることによって、気相中約３００℃の温度においてアセトアルデヒドが選択的に製造される。 （もっと読む）

【課題】水素含有ガスの再利用を図ることにより、反応に用いる水素ガスの使用量を抑制することができる３級アミンの製造方法を提供する。
【解決手段】下記工程（１）及び（２）を含む３級アミンの製造方法である。
工程（１）：炭素数１〜３６のアルコールと下記一般式（Ｉ）で表される原料アミンとを第１反応槽に導入し、触媒及び水素の存在下で反応させ、反応生成水及び水素含有ガスを反応系外へ排出しつつ反応を継続する工程。
Ｒ¹Ｒ²ＮＨ （Ｉ）
（式中、Ｒ¹及びＲ²は、水素原子、又は炭素数１〜３６の炭化水素基を示す。）
工程（２）：第１反応槽より排出された水素含有ガスを第２反応槽に導入し、水素含有ガスに含まれる一酸化炭素の量を低減させた後、水素含有ガスの一部又は全部を第１反応槽へ導入する工程。 （もっと読む）

【課題】人工触媒を用いたエステルの不斉加水分解方法を提供する。
【解決手段】下式（Iａ）で表される四級アンモニウム塩を触媒として、常圧下、−６０℃〜５０℃で、塩基性水溶液または金属水酸化物の存在下に非水溶性溶媒中で加水分解するエステルの不斉加水分解方法。


（式中、Ｒ¹は水素原子等を表し、Ｒ²はアリール基等を表し、Ｒ³は水素原子等を表し、Ｒ⁴は水素原子等を表し、Ｒ⁵は低級アルキル基等を表し、Ｘ^-はハロゲン原子等を表し、ｋは１または２の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、多価アルコールからヒドロキシケトンを高い選択率で収率よく製造することができる製造方法を提供することである。
【解決手段】 隣接する水酸基を有する多価アルコールからヒドロキシケトンを製造する方法において、銀触媒を用いることで、課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】危険有害性の高い材料を用いることなく、２−エチルヘキサン酸を配位子とするアルカリ土類金属錯体を含むセラミックス膜形成用組成物を容易に製造することができるセラミックス膜形成用組成物の製造方法、圧電セラミックス膜及びアルカリ土類金属錯体の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ土類金属の酢酸塩と、２−エチルヘキサン酸と、を含む混合溶液を調製する工程と、前記混合溶液を酢酸の沸点以上の温度に加熱して、２−エチルヘキサン酸を配位子とするアルカリ土類金属錯体を含む錯体溶液を得る工程と、を具備し、前記錯体溶液を含むセラミックス膜形成用組成物を得る。 （もっと読む）

【課題】液状及びガス状の原料との反応により効率よく３級アミンを製造する方法の提供。
【解決手段】触媒層が充填された塔型反応器の底部から液状及びガス状の原料を供給して反応させ、塔頂部より排出させる３級アミンの製造方法であって、
前記塔型反応器として、触媒層として２段以上のハニカム状触媒層を有しており、前記２段以上のハニカム状触媒層間に空間部を有しており、該空間部において、気体及び液体の一部又は全部の逆流を防止する手段となる整流部がハニカム状触媒層に接触しない状態で設置されているものを使用する３級アミンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、多価アルコールからグリコールを高い選択率で収率よく製造することができる製造方法を提供することである。
【解決手段】隣接する水酸基を有する多価アルコールからヒドロキシケトンを合成する反応において銀触媒を用い、ヒドロキシケトンからグリコールを合成する反応において水素添加触媒を用いることで、課題を解決する。 （もっと読む）