炭化水素の不均一系触媒による部分脱水素化方法であって、脱水素化される炭化水素を含む反応ガス混合物の流入流をシャフトに配置された固定触媒床を通して流し、反応ガス混合物の流入流をシャフト内の流入ガス流Ｉに酸素分子含有流入ガスＩＩを計量することにより得、この流入ガス流Ｉは、シャフトの固定触媒床へ流動し、水素分子および固定触媒床の上流に脱水素化される炭化水素を含む方法。 （もっと読む）

【課題】II型のガスハードレートを生成する低圧ガスハイドレート生成条件下でメタンガスを濃縮して大量に貯蔵することができるメタンガス貯蔵方法および該方法を用いて得られるメタンガス貯蔵物を提供する。
【解決手段】II型のガスハイドレートを作り且つメタンガスを吸収する性状の有機化合物を水に、該水が前記II型のガスハードレートを生成するに必要な量以上の過剰に加えて成る複合溶媒６中に、II型のガスハイドレートが生成する圧力下及び温度下でメタンガスを含む燃料ガスを注入することを特徴とするメタンガス貯蔵方法。 （もっと読む）

本発明は、下記スキーム（式Ｉ，II）［式中、Ｘは、−Ｃ（Ｒ）（Ｒ’）−、−Ｎ（Ｒ”）−、−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）_ｏ−、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ”）、−Ｎ（Ｒ”）Ｃ（Ｏ）−又は−Ｃ（Ｏ）−であり；Ｒ及びＲ’は、互いに独立して、水素、Ｃ_１−７−アルキル、Ｃ_１−７−アルキル（ハロゲン、Ｃ_１−７−アルコキシ、ヒドロキシ又は−（ＣＨ_２）_ｐ−Ａｒで置換されている）であり；Ｒ”は、水素、Ｃ_１−７−アルキル、ハロゲンで置換されているＣ_１−７−アルキル、−Ｓ（Ｏ）_ｏ−Ｃ_１−７−アルキル、−Ｓ（Ｏ）_ｏ−Ａｒ、−Ｓ（Ｏ）_ｏ−ＮＲＲ’、−（ＣＨ_２）_ｐ−Ａｒ、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ_１−７−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ａｒ、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲＲ’又は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｃ_１−７−アルキルであり；Ａｒは、アリール^１又はヘテロアリール^１であり；ｎは、０、１、２又は３であり；ｍは、０、１、２又は３であり；ｏは、０、１又は２であり；ｐは、０、１又は２である］に従うエナンチオ選択的水素化による高いジアステレオ選択性及び高いエナンチオ選択性のシス置換環式β−アリール又はヘテロアリールカルボン酸誘導体ならびにそれらの対応する塩を調製する方法に関する。
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【課題】一般的に又は容易に入手できる反応体を使用して高い収量を有し、よって工業的な経済要件を満たす1,1,1,3,3-ペンタフルオロプロパンの製造方法を提供する。
【解決手段】1,1,1,3,3-ペンタクロロプロパン又は1,1,1,3,3-ペンタクロロプロパンの部分的フッ素化の生成物をヒドロフルオロ化触媒の存在下でフッ化水素と反応させることによる、1,1,1,3,3-ペンタフルオロプロパンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】水加ヒドラジンをＰ，Ｐ’−オキシビス（ベンゼンスルホニルクロライド）スラリーに滴下して反応した場合、Ｐ，Ｐ’−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）まで反応が完結するのに時間がかかり、時間を短縮するためには過剰の水加ヒドラジンが必要となる。また得られたＰ，Ｐ’−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）の粒子の大きさも小さいものしか得られない。
【解決の手段】Ｐ，Ｐ’−オキシビス（ベンゼンスルホニルクロライド）を水加ヒドラジン中に滴下し反応速度を速めることにより大きい粒子が形成され、後の工程で粒度の調節を行いやすい大きさのＰ，Ｐ’−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）を短時間で得られる。 （もっと読む）

【課題】混合ガスと原料水とを反応させて混合ガスハイドレートを製造する際、混合ガスハイドレートの粒径を大径化する。
【解決手段】混合ガスｇと原料水ｗとを反応させて混合ガスハイドレートを製造する方法である。ハイドレート生成器１内の温度及び圧力のうち、前記温度Ｔ₂ を、平衡温度Ｔ₁ との差ΔＴ（＝Ｔ₁ −Ｔ₂ ）が０〜５℃以内となる条件で混合ガスハイドレートを製造する。 （もっと読む）

本発明は、プロパンからプロペンを製造する方法であって、以下の工程：
Ａ）プロパンを含む供給ガス流ａを供給する工程；
Ｂ）プロパンを含む供給ガス流ａ、所望により水蒸気、及び所望により酸素を含むガス流を、脱水素化領域に供給し、そしてプロパンをプロペンに脱水素化して、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、水素、所望により一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気及び酸素を含むガス流ｂを得る工程、
Ｃ）生成ガス流ｂを冷却し、所望により圧縮し、そして凝縮により水蒸気を除去し、これにより水蒸気が除去された生成ガス流ｃを得る工程；
Ｄ）生成ガス流Ｃを、選択された吸着条件下に、プロペンを選択的に吸着する選択性吸着剤と接触させ、プロペン含有吸着剤、及びプロパン、メタン、エタン、エテン及び水素、所望により二酸化炭素及び一酸化炭素を含むプロペン除去ガス流ｄ２を得る工程；
Ｅ）減圧及び／又は吸着剤を加熱することにより、プロパン含有吸着剤から、プロペン含有ガス流ｅ１を放出させる工程、
を含むことを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

ジオールからアルケニルアルコールを製造する方法を開示する。その方法は、担体に支持された酸化セリウムを含む触媒の存在下でジオールを脱水することを含む。その担体は０．１〜５０ｍ²／ｇの範囲の表面積を有する。その触媒は、支持されていない酸化セリウムより活性が高い。 （もっと読む）

１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法。１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを水素源と反応させることを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、置換スチルベンとその類似体の調製のための単一工程のマイクロ波誘導プロセスに関する。特に、2-或いは4-ヒドロキシ置換アリールアルデヒド及び/又はフェニル酢酸の形態のより安価な基質、コリジン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム、イミダゾール、メチルイミダゾール等のような塩基及び/又は蟻酸、酢酸、プロピオン酸等のような酸の形態の試薬を利用して、脱炭酸剤を使用せずに、使用する塩基及び/又は酸、溶媒及び基質次第で３７〜６６％で変化する収率で、マイクロ波若しくは通常加熱に依存して１分〜１６時間で変化する反応時間で、ワンポットで商業的に重要な2-或いは4-ヒドロキシ置換スチルベンを調製するための方法を提供する。アリールアルデヒド及び/又はアリール酢酸の2-或いは4-位のヒドロキシ置換基の存在が、一工程でのスチルベンの形成に向けての重要な必要条件であることに言及することが重要である。
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【課題】効率的に、かつ、高収率でジフェニルスルホンジイソシアネートを得ることができる、工業的製法に適したジフェニルスルホンジイソシアネートの製造方法を提供すること。
【解決手段】ジアミノジフェニルスルホンまたはその塩酸塩を不活性良溶媒中でホスゲンと反応させて得られた反応液をろ過した後、このろ液に、例えば、ｎ−ヘキサンなどの貧溶媒を加えてジフェニルスルホンジイソシアネートを析出させる。 （もっと読む）

ホウ酸および脂肪族またはアラリファティックアミンの存在下、極性の大きい非プロトン性溶媒中で、水を同時除去しながら、バニリンをアセチルアセトンと縮合させることによりクルクミンを調製する方法。 （もっと読む）

金属触媒の実質的な非存在下で１，１，１，３−テトラフルオロプロペンにフッ化水素を付加することを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法。他の実施形態は、アミンフッ化水素酸錯体および金属触媒の存在下で１，１，１，３−テトラフルオロプロペンにフッ化水素を付加することを含む、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造法を提供する。 （もっと読む）

抗菌性キノロン合成に有用な、環状中間体から非環状ジオール中間体を製造するための水素化物法。 （もっと読む）

【課題】 半導体封止材料として好適な低吸水性、難燃性、速硬化性に優れ、低溶融粘度であるエポキシ樹脂組成物を形成することが可能なフェノール系重合体硬化剤、その原料として好適な芳香族オリゴマー組成物及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 ４，４‘−ビスハロメチルビフェニルを加熱下に脱ハロゲン化水素して部分的にオリゴマー化し、この反応生成物とフェノール類を反応させてフェノール系重合体を得る。このフェノール系重合体をエポキシ樹脂硬化剤として用いる。 （もっと読む）

約１０〜約２１個の炭素原子を含有する脂肪酸を該酸を脱炭酸するために有効な条件下でハイドロタルサイト触媒と接触させることを含んでなる約２０〜約４０個の間の炭素数を有するケトンの製造方法。さらに特に、該脱炭酸条件は：約３００℃〜約４００℃の間の範囲の温度；約０．０１〜約５ｂａｒの間の範囲の圧力；および約０．１〜約１０ｈｒ^−１の重量毎時空間速度（ＷＨＳＶ）を含んでなる。 （もっと読む）

本発明は、２-又は４-トリフルオロメトキシアニリン又はこれらの化合物の混合物を原料とする、優秀な収率及び驚くべき選択率を提供する合成法を介する１-ブロモ-３-トリフルオロメトキシベンゼンの製法に関する。当該製法は、弱酸の存在下における、酸性溶媒中においてBr⁺イオンを放出する臭素化剤による２-又は４-トリフルオロメトキシアニリンの臭素化、続く脱アミノ化反応を含んでなる。 （もっと読む）

アルデヒドおよび／またはケトンと水素および第一級アミンおよび第二級アミンの群から選択された窒素化合物との、不均一系触媒の存在下での反応によるアミンの製造法であって、その際、触媒が、水素化金属としての元素の周期表の第ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属と、付加的に酸化物担体上の助触媒とを包含するシェル触媒であって、その際、元素の周期表の第ＶＩＩＩ族の金属の少なくとも８０％が、触媒の表面と、触媒の表面から計算された触媒の半径の最大８０％に相当する侵入深さとの間の層内に存在する。 （もっと読む）

【課題】過オキシ酸消毒薬を調製し使用する際の不快臭（オキシ酸臭）を緩和することができ、オンデマンド・オンサイトで、しかも高収率に過オキシ酸を製造することができる過オキシ酸の製造方法を提供し、この製法により得られた、そのまま使用しうる過オキシ酸含有殺菌用水性組成物および医療用殺菌剤を提供する。
【解決手段】流通式反応装置の流路中でアシル化剤と過酸化水素水とを塩基性条件下で反応させる過オキシ酸の製造方法。 （もっと読む）

塩基の存在下、並びに配位Ｐ及びＮ原子を有する二座リガンド、モノホスフィンリガンド及びアニオン性及び／又は非荷電リガンドを含有するルテニウム錯体の均一触媒としての存在下で、非荷電リガンドが存在する場合、電荷を１若しくは２個の一価酸アニオン又は二価酸アニオンにより平衡にさせて、Ｃ（Ｏ）基に対する位置でステレオジエン原子を有し、構造要素−（Ｏ）Ｃ−Ｃ−ＣＨ−を含有するラセミアルデヒド又はラセミケトンを、水素により反応させることによる立体選択的水素化の方法。 （もっと読む）