【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物に含まれる新規化合物を提供する。
【解決手段】例えば式（Ｉ-１）で表される化合物と式（ＩＩ-２）で表される化合物とを反応させて得られる式（ＩＩＩ-２）で表される化合物。
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【課題】高感度、高解像度であり、耐熱性や溶媒への溶解性も高いフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表される環状化合物。


［式中、Ｒは置換アルコキシカルボニルフェニル基等を表し、同一芳香環上の２つのＲ^１のうち一方は水素原子等を表し、他方は鎖状若しくは分岐状構造でありかつＯ−Ｒ^１が２．２〜５．５オングストロームの大きさを有する基を表し、Ｒ^２は水素原子等を表す。］ （もっと読む）

【課題】液晶配向膜など多様な光反応に応用可能であり、多様な有機化合物または重合体の前駆体として好適に使用可能である、光反応基を有する新規な環状オレフィン化合物および光反応性重合体を提供する。
【解決手段】下記の化学式１で表される光反応基を有する環状オレフィン化合物：
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【課題】紫外線領域の吸収を調整しつつ充分な着色があり、紫外線及びレーザー露光において高感度でさらに乾燥塗膜の指触乾燥性が良好な組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボン酸含有樹脂、（Ｂ）アミノアントラキノン骨格を有する化合物からなる着色剤、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含有している希アルカリ溶液により現像可能な光硬化性樹脂組成物であって、アミノアントラキノン骨格を有する化合物からなる着色剤を用いることにより紫外線領域の吸収を調整しつつ充分な着色があり、紫外線及びレーザー露光において高感度でさらに乾燥塗膜の指触乾燥性が良好な組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）（Ａ）酸の作用により、極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（Ｃ）レジスト組成物の固形分を基準として３質量％以上の、酸の作用により分解して揮発性が向上する化合物とを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、
を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物の調製に好適な新規化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）（式中、Ｒ₁はアダマンタン骨格を有する炭素数２０以下の脂肪族環式基（但し、カルボニル基を有する基を除く。）であり、ｎは０または１〜５の整数を表し、Ｒ₂は水素原子、フッ素原子又は炭素数２０以下の低級アルキル基を表す。）で示される化合物。
［化１］
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【課題】 ＣＯＭＴ阻害作用を有する新規な化合物を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）：
【化１】


〔式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ水素、低級アシル、低級アルコキシカルボニル等であり；Ｒ^３は低級アルコキシカルボニル、−Ａ^１−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１３Ｒ^１４、
−Ｃ（Ｏ）−Ａ^２−ＮＲ^１５Ｒ^１６等であり；Ｒ^４はハロゲン、ハロ低級アルキル等である〕で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩、それを含有する医薬組成物およびそれらの用途を提供する。本発明の化合物は優れたＣＯＭＴ阻害作用を有するので、パーキンソン病等の治療または予防剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された共重合体と光学素子、およびそれらを得るための新規な化合物を提供する。
【解決手段】
新規なビニルエーテル化合物は下式で表される。
CH₂=CH-O-(CH₂)_m-R-(CH₂)_n-O-w¹-(E¹)_h-w²-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R¹………（１）
式中、Ｒはアルキレン基、ポリフルオロアルキレン基等、Ｒ^１はアルキル基、シアノ基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、
ｗ^１，ｗ^２はカルボニル基または単結合を示す。 （もっと読む）

【課題】新規α−置換プロピオン酸誘導体及び、該α−置換プロピオン酸誘導体ＰＰＡＲγに選択的なアゴニストとして機能するα−置換プロピオン酸誘導体。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されるα−置換プロピオン酸誘導体。


［式中、Ｒ_１はアダマンチル基、無置換又は置換基を有していても良いフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペリジン基、アゼピル基若しくはピペラジニル基（置換基は、ハロゲン原子）等、Ｒ_２及びＲ_４は同一又は相異なって水素原子又はハロゲン原子、Ｒ_３は炭素数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基、Ｒ_５は置換基を有していても良いフェニル基又はシクロヘキシル基、ｎは０から１０の整数を表す］ （もっと読む）

【課題】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、ドライエッチング耐性に非常に優れ、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、少なくとも、（Ａ）フラーレン骨格を有する物質と電子吸引基含有１，３−ジエン化合物誘導体との反応生成物であるフラーレン誘導体、（Ｂ）有機溶剤とを含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】優れた相溶性及び溶解度を有するアダマンチルジ(メタ)アクリレートの製造方法を提供する。
【解決手段】アダマンタンジオールと(メタ)アクリル酸類を反応させてアダマンチルジ(メタ)アクリレートを製造する方法であって、前記反応を、Ｈａｍｍｅｔｔの酸度関数Ｈ_０が−１０．３以下である酸を触媒として含む溶媒中で行うアダマンチルジ(メタ)アクリレートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された光学異方性材料、光学素子およびこれらを得るための新規な液晶化合物を提供する。
【解決手段】新規な含フッ素ジエン化合物は下式で表される。この化合物を含有する重合性液晶組成物が調製され、この化合物を重合することにより光学異方性材料、光学素子が得られる。
CF₂=CFCXYCH(CZ-O-W¹-(CH₂)_m-R¹-(CH₂)_n-(O)_i-W²-(E¹)_h-W³-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R²)CH₂CH=CH₂
式中、Ｒ^１は単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基等、Ｒ^２は炭素数１〜８のアルキル基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２，Ｅ^３，Ｅ^４は各々独立に、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、ＣＺはメチレン基等を示す。 （もっと読む）

【課題】特定のヒドロキシカルボン酸を高収率かつ高純度で結晶として取得する。
【解決手段】下記化合物（１）の水混和性富溶媒溶液と水を混合する化合物（１）の結晶化方法であって、予め該化合物（１）の油状化及びスケーリングを抑制するために必要な懸濁量のスラリーを調製した後、該スラリーの存在下に本晶析を行うことを特徴とする化合物（１）の結晶化法。好ましくは、必要な懸濁量は、本晶析終了時における化合物（１）の全量に対して３０重量％以下である結晶化法。
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【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、液晶組成物の融点の上昇と硬化物の透過率損失とを抑制した光学異方性材料、光学素子及びこれらを作成するための新規な液晶組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される重合性化合物。


・・・（１）
但し、式中、Ｊ_１、Ｊ_２：それぞれ独立にアクリル基、メタクリル基、エポキシ基、オキセタニル基、又はこれらの重合基。ｋ、ｌ：それぞれ独立に０又は１。ただし、ｋ、ｌが共に０の場合を除く。 （もっと読む）

【課題】有害生物防除活性あるいは除草活性の優れた化合物を提供する。
【解決手段】下式の新規なＣ₂フェニル−置換環状ケト−エノール。


該Ｃ₂フェニル−置換環状ケト−エノールの製造法ならびに有害生物防除剤及び除草剤としてのそれらの使用。化合物の例示として各種の３−アリールピロリジン−２，４−ジオン誘導体などがある。他の既知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、鳥類忌避剤、植物栄養及び土壌構造を改良する薬剤との混合物も可能である。活性化合物はそのままで、調剤の形態で、又はさらに希釈することによりそれらから調製される使用形態、例えば調製済み溶液、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び顆粒剤において用いられる。 （もっと読む）

【課題】高い収率でフォトレジスト樹脂用のモノマーを製造するために用いられる中間体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌ^１は、^＊１−ＣＯ−Ｘ^１−Ａ^１−^＊２、^＊１−ＣＯ−Ｘ^２−Ａ^２−ＣＯ−Ｘ^３−Ａ^３−^＊２又はフェニレン基を表す。Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立に、−Ｏ−、又は−Ｎ（Ｒ^３）−を表し、Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレン基、炭素数６〜１２の２価の飽和環状炭化水素基又はフェニレン基を表す。＊１は−Ｃ（Ｒ^１）＝ＣＨ_２との結合手を表し、＊２は−ＣＯ−との結合手を表す。］
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【課題】フルオレン骨格（９，９−ビス（アリール）フルオレン骨格）と糖由来の骨格とを有し、樹脂原料などとして有用な新規化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。


（式中、Ａは、水素原子、糖鎖、糖から誘導された基、リグニンモノマー鎖、又はリグニンモノマーから誘導された基を示し、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^１は置換基を示し、Ｒ^２はアルキレン基を示し、Ｒ^３は置換基を示し、ｋは０〜４の整数、ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数、ｐは０以上の整数、ａは０又は１である。） （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性など光学特性、耐熱性、機械物性に優れた優れた硬化物を与えるアダマンタン誘導体、その製造方法、当該誘導体を含む樹脂組成物及び当該誘導体を使用する硬化物を提供する。
【解決手段】下式で示されるアダマンタン誘導体。


[式中、Ｒ1はアルキル基等を表し、ｋは０〜４の整数を表し、Ｘはアルキレン基等を表し、Ｙはオキシラニルメチル基、オキセタニルメチル基等を表し、ｊは１〜４の整数を表す。] （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有し、特に、フォトレジストリソグラフィー分野における感光性樹脂等のモノマー等として有用な化合物を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体。


（例えば、３−｛［４−（２−ヒドロキシエチル）シクロヘキシル］メトキシ｝−１−アダマンチルメタクリレート） （もっと読む）