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Fターム[4H006GP02]の内容

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Fターム[4H006GP02]に分類される特許

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【課題】含フッ素ポリマーの製造原料や、半導体製造時に用いられるドライエッチングガス、電子部品の洗浄剤等として有用な、環状ハイドロフルオロエーテル、及び環状ハイドロフルオロビニルエーテルを、簡便かつ効率よく、工業的に有利に製造する方法を提供する。
【解決手段】1)式(III)で示される環状ハイドロフルオロオレフィンを、アルコキシル化又はフルオロアルコキシル化することを特徴とする、式(I)で示される環状ハイドロフルオロビニルエーテルの製造方法、及び、2)式(I)で示される環状ハイドロフルオロビニルエーテルを、フッ素化することを特徴とする、環状ハイドロフルオロエーテルの製造方法。


(Rは、炭素数1〜5のアルキル基又はフルオロアルキル基、nは1〜3の整数。) (もっと読む)


【課題】
本発明は、3−メントキシプロパノールを含有してなる冷感剤組成物、及び3−メントキシ−1,2−エポキシプロパンを原料として用いて、高選択的及び高収率で3−メントキシプロパノールを製造する方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、コバルト触媒、ルテニウム触媒、又はニッケル触媒などの不均一系金属触媒の存在下で、3−メントキシ−1,2−エポキシプロパンの接触水素化を行うことにより高い選択性及び高収率で3−メントキシプロパノールを製造する方法、並びに、3−メントキシ−1−プロパノール及び1−メントキシ−2−プロパノールの混合物を含有してなる優れた冷感剤組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】
熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物、この組成物を含む液晶表示素子を提供する。
【解決手段】
式(1)で表される化合物である。


例えば、Rは炭素数1〜10のアルキルであり;環A、環Aおよび環Aは、1,4−シクロヘキシレン、1,4−フェニレンまたは少なくとも1つの水素がフッ素で置き換えられた1,4−フェニレンであり;Zは単結合であり、ZおよびZは、−CFO−または−OCF−であり;Xはフッ素であり;LおよびLはフッ素である。 (もっと読む)


【課題】調製及び取り扱いが容易で比較的安価に調達できるルテニウム錯体を触媒として用い、水素雰囲気下でメントキシ酢酸エステルから2−メントキシエタノールを製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式RuXY(CO)(L)(一般式中、X及びYは同一であっても異なっていてもよくアニオン性配位子を表し、Lは2つのホスフィノ基と−NH−基を有する3座アミノジホスフィン配位子を表す。)で表されるルテニウムカルボニル錯体を触媒として使用し、水素供与体を用いて下記一般式(A)


(式中、Xは炭素数1乃至4のアルキル基を表す。)で表されるメントキシ酢酸エステルを水素化還元し2−メントキシエタノールを製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】環状エノンを出発原料とする、環状飽和アルコールを簡便に合成する製造方法を提供する。
【解決手段】式2で表わされる化合物を式3で表わされる化合物(例えばマロン酸ジアルキル)、または式4で表わされる化合物(例えばピリジン)の存在下、水素化ホウ素ナトリウム試薬で還元して、式1で表わされる化合物を製造することが出来る。


(式中、R、RおよびRは、同一または異なっていてもよく、ヒドロキシ基の保護基であり、Rが同一分子内に複数存在する場合は、各々のRは、同一または異なっていてもよく、nは、1〜4の整数である) (もっと読む)


【課題】原料として入手が容易なオクタフルオロシクロペンテンからの合成が可能であり、且つフッ素含有量が多い新規な含フッ素化合物、並びに該含フッ素化合物をラジカル重合して得られ、透明性が高く、汎用溶媒に溶解できる新規な重合体の製造方法並びに該含フッ素化合物の重合体からなる光学素子、機能性薄膜及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】オクタフルオロシクロペンテンとアリルアルコール又はその誘導体を反応させて合成される式(1)で表される構造を有する含フッ素化合物、及び式(1)で表される構造を有する含フッ素化合物のクライゼン転位反応によって得られる式(2)で表される含フッ素化合物、並びにそれらの含フッ素化合物をラジカル重合して製造される重合体。 (もっと読む)


【課題】収率に優れるトリエーテルの製造方法の提供。
【解決手段】下記工程(1)〜(3)を含み、一般式(I)で表されるトリエーテルの製造方法。


(I)工程(1):塩基存在下、5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン誘導体をハロゲン化アルキルと反応させ、5−ハイドロカルビルオキシメチル−1,3−ジオキサン誘導体を得る工程工程(2):5−ハイドロカルビルオキシメチル−1,3−ジオキサン誘導体のジオキサンを開環しジエーテルモノアルコール誘導体を得る工程
工程(3):塩基存在下、ジエーテルモノアルコール誘導体とハロゲン化アルキルを反応させ、一般式(I)で表されるトリエーテルを得る工程 (もっと読む)


【課題】十分に高い重合活性を示すオレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、オレフィン重合用固体触媒およびオレフィン重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式(I)で表されるトリエーテル。



(I)
[式中、Ra〜RcおよびRfは、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基を表す。ただし、Ra〜Rcが同時に水素原子であることはなく、結合して環構造を形成してもよい。RdおよびReは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜5のハイドロカルビル基を表す。]
チタン化合物(a)、マグネシウム化合物(b)および前記トリエーテルを接触させるオレフィン重合用固体触媒成分(A)の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】一般式(1)で示されるアセタール化合物。


【効果】アセタール化合物から得られる繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜10は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い。 (もっと読む)


【課題】塩素の含有量が極めて少なく、電子材料原料として有用なポリグリシジルオキシ化合物を製造する方法、及びその製造原料として有用な中間体である、塩素の含有量が極めて少ない精製ポリアリルオキシ化合物を、高価で分離が困難な触媒を使用せずに安価に製造できる方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基の少なくとも一部が水添された基、又は脂肪族基に少なくとも2個の水酸基を有するポリヒドロキシ化合物と、粗アリルクロライドとを反応させて、少なくとも2個のアリルオキシ基を有するポリアリルオキシ化合物を主成分とする精製ポリアリルオキシ化合物を得る工程を含むポリアリルオキシ化合物の製造方法において、粗アリルクロライド中の塩素原子を2個含む分子量152の化合物の含有量と、塩素原子を3個含む分子量228の化合物の含有量の和が0.005重量%以下であるものを用いる。 (もっと読む)


【課題】KrFエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはX線等の放射線に感応する化合物及び感放射線性組成物であり、金属触媒を使用することなくかつ簡単な工程で製造できる、高感度、高解像度、高耐熱性、高エッチング耐性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】式(28)で表される化合物を用いる。


は、1−置換アルコキシメチル基、及びアルコキシカルボニル基で代表される酸解離性官能基であり、R2Aは、アルキル基で代表される置換基を表し、R4Dは、ベンゼン構造で代表される三価の置換基を表す。 (もっと読む)


化学式(M5)上の2つのPGが一緒になって、任意に置換された6員環または7員環を形成する、化学式(M5)の化合物をエンテカビルに転換することを包含する、エンテカビルを作製するプロセス。
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【課題】塗布溶媒溶解性に優れ、高透明性、高感度、高微細加工性、高強度、低アウトガス性であるフォトレジスト基材及びフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト基材の一部を構成する酸解離性溶解抑止基前駆体の提供。
【解決手段】式(1)で表される化合物を含むフォトレジスト組成物。


(式中、Rは、ベンゼンカルボン酸エステル部位と脂肪族縮合環部位を有す基で、Rは、水酸基、アルコキシ基、などの基で、Rは、水素原子である) (もっと読む)


【課題】
透明かつ耐熱性・耐熱黄変性の高い樹脂およびその原料を提供する。
【解決手段】
シクロドデシリデンビスヘキサノール残基を含有する樹脂および特定のシクロドデシリデン化合物。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性、ドライエッチング耐性、高真空下での安定性に優れ、特にポジ型レジスト樹脂の酸解離性の保護基として好適な新規ビニルエーテル、その原料となる新規アルコール及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のビニルエーテルは、下記一般式(1)
【化1】


{式(1)中、X、Xはそれらのいずれか一方がビニルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。又、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Rは炭素数6〜18の芳香族炭化水素基である。}
で表されることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】新規なビニルエーテル化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1−a)又は下記一般式(1−b)で表されるビニルエーテル化合物。
【化1】


[式中、nは0又は1を示し、R及びRはそれぞれ水素、メチル基又はエチル基を表し、RとRの炭素数の合計は1又は2である。] (もっと読む)


【課題】簡便且つ選択的に1,2−ジオールのモノアリル化体を製造する方法を提供する。
【解決手段】1,2−ジオールのモノアリル化体の製造方法は、パラジウム化合物に第3級ホスフィンが配位した錯体、有機スズ化合物及び塩基の存在下、式(1)で表される1,2−ジオールをカルボン酸アリルエステルと反応させて式(2)で表される化合物。式中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は有機基を示す。R1、R2は互いに結合して隣接する2つの炭素原子と共に環を形成していてもよい。


(もっと読む)


【課題】低屈折率、耐熱性及び耐擦傷性に優れ、特に表面硬度が従来よりも向上した硬化物を与える樹脂組成物、これに含まれる含フッ素アダマンタン誘導体及びその製造方法、並びに上記含フッ素アダマンタン誘導体の製造に有用な反応中間体を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される含フッ素アダマンタン誘導体及びその製造方法、これを含む樹脂組成物並びに上記含フッ素アダマンタン誘導体の製造に有用な反応中間体である。


[式(I)中、G1は例えば単結合、R1及びR2は例えば特定の有機基、X1は特定の官能基を示す。aは1〜4の整数、bは10〜15の整数、a+b=16である。cは1〜10の整数、dは1〜10の整数である。] (もっと読む)


【課題】高純度の3−l−メントキシプロパン−1,2−ジオールを安全に且つ効率よく製造する方法の提供。
【解決手段】1,2−エポキシ−3−ハロゲノプロパンに、有機溶媒中でルイス酸の存在下にl−メントールを付加させて1−ハロゲノ−3−l−メントキシプロパン−2−オールを製造し、続いて相間移動触媒の存在下に塩基によってエポキシ化して1,2−エポキシ−3−l−メントキシプロパンを製造し、最後に加水分解して式(II)で表される3−l−メントキシプロパン−1,2−ジオールを製造する。
(もっと読む)


【課題】フッ化水素や多量の硫酸を用いることなく、従って大量の酸廃棄物の副生を伴わず、かつ、工業的に採用できるフルオロメチルヘキサフルオロイソプロピルエーテル((CF32CH−O−CH2F)の製造方法を提供する。
【解決手段】ビスフルオロメチルエーテルとヘキサフルオロイソプロピルアルコールを硫酸または硫酸よりも酸強度の高い強酸の触媒量の存在下、実質的にフッ化水素と非混和性の溶媒中において反応させることからなるフルオロメチルヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法。 (もっと読む)


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