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Fターム[4H039CA63]の内容

Fターム[4H039CA63]に分類される特許

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【課題】銀を主成分とする高選択性エポキシ化触媒によるオレフィンのエポキシ化法の始動方法を提供する。
【解決手段】(a)銀を主成分とする高選択性エポキシ化触媒を有機ハライドにあらかじめソークし、(b)あらかじめソークした触媒上に有機ハライドを全く含まないかまたは全供給原料に対してハロゲン含量に基づいて計算して多くとも2×10−4モル%の濃度しか含まない供給原料を16〜200時間通すことを含むオレフィンのエポキシ化法の始動方法;前記方法で得られ得るオレフィンのエポキシ化に適した触媒;及び前記方法及びその後オレフィン、酸素、及び全供給原料に対してハロゲン含量に基づいて計算してステップ(b)で適用した濃度よりも少なくとも0.2×10−4モル%高い濃度の有機ハライドを含む供給原料と触媒を接触させることを含むオレフィンのエポキシ化法。 (もっと読む)


a)コロイド溶液の形態のコロイド状貴金属を、場合により促進剤として作用する添加剤と混合して、担持材料に適用すること、b1)得られた生成物を150〜350℃で乾燥すること、またはb2)得られた生成物を150〜350℃で乾燥した後、350〜550℃で焼成することにより得ることができる、エポキシ化または酸化的脱水素化のための貴金属含有担持触媒。本発明はさらに、その製造方法、その使用、および担持触媒を製造するためのコロイド状貴金属の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】高純度の3−l−メントキシプロパン−1,2−ジオールを安全に且つ効率よく製造する方法の提供。
【解決手段】1,2−エポキシ−3−ハロゲノプロパンに、有機溶媒中でルイス酸の存在下にl−メントールを付加させて1−ハロゲノ−3−l−メントキシプロパン−2−オールを製造し、続いて相間移動触媒の存在下に塩基によってエポキシ化して1,2−エポキシ−3−l−メントキシプロパンを製造し、最後に加水分解して式(II)で表される3−l−メントキシプロパン−1,2−ジオールを製造する。
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【課題】各種化合物の中間体として有用な光学活性シス−シリルオレフィンオキシド化合物の効率的な製造方法の提供。
【解決手段】式(1)、式(2)等


(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子等であり、Rは、水素原子、ハロゲン原子、C1−4アルキル基等であり、Rは、C1−4アルキル基等、Rは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子等であり、Mは、Tiである。)で表される光学活性チタン錯体を触媒として利用した、下記のような光学活性シス−シリルオレフィンオキシド化合物の製造方法。
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所望のアルキレンオキサイド製造パラメーターを達成かつ維持するための、アルキレンオキサイド製造プロセスを運転する改良方法が示され、説明されている。この方法は、総触媒塩化物化有効度パラメーター又は反応温度を、所望のアルキレンオキサイド製造パラメーターを得るように調節することを含む。 (もっと読む)


本発明は、1ミクロン未満の直径を有する細孔を、総細孔容積に対して最小化された割合で含み、そして少なくとも約1.0m/gの表面積を有する成形多孔体を基材とする、レニウムで促進されたエポキシ化触媒を提供するものである。前記触媒を製造する方法、及び、それらをエポキシ化方法において使用することもまた、提供される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、新規な酸化プロピレン及びその製造方法、並びに、新規な酸化プロピレンを使用する製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、1,1,3−トリクロロ−2,3,3−トリフルオロ酸化プロピレンに関する。本発明は、CFCl−CF=CClで示されるビニル化合物を酸化する工程を含むことを特徴とする1,1,3−トリクロロ−2,3,3−トリフルオロ酸化プロピレンの製造方法にも関する。 (もっと読む)


高効率銀触媒を利用するアルキレンオキシド生産プロセスを運転する簡易方法を示し、記載する。本方法は、触媒経時劣化により起こる触媒活性の低下を、反応温度および全体的塩化効力パラメーターを交互に変更することによって補う。 (もっと読む)


【課題】オレフィンオキサイドの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】環状第二アミン化合物、水及びニトリル化合物を含む溶液中、酸素12員環以上の細孔を有するチタノシリケート存在下で、過酸化水素とオレフィンとを反応させる工程を含むことを特徴とするオレフィンオキサイドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】
エチレンを接触気相酸化して酸化エチレンを製造する方法において、活性、選択率に優れ、かつ、長期に亘って性能低下の少ない経済性に優れた酸化エチレン製造用触媒および優れた酸化エチレン製造用触媒を得るための触媒担体を提供する。
【解決手段】
α−アルミナを主成分とし、その少なくとも一部が層状の酸化アルミニウムである酸化エチレン製造用触媒の担体および該担体に銀を含む触媒成分を担持してなる酸化エチレン製造用の触媒を用いる。 (もっと読む)


【課題】 有機化合物を過酸化水素により酸化する酸化反応において、高い収率でかつ安全に酸化化合物を製造できる方法を提供する。
【解決手段】 本発明の酸化化合物の製造法は、有機化合物を、(A)ハイドロキノン類の存在下、過酸化水素で酸化して酸化化合物を得ることを特徴とする。有機化合物としてエチレン性不飽和結合を有する化合物を用いることにより、例えば対応するエポキシ化合物等を得てもよい。エチレン性不飽和結合を有する化合物がシクロアルケン環を含有する化合物であってもよい。 (もっと読む)


【課題】金触媒の存在下にプロピレンを分子状酸素で酸化して、プロピレンオキサイドを製造する方法を提供する。
【解決手段】アルカリ処理チタノシリカライト担体またはアルカリ処理メソ孔チタノシリケート担体担持金クラスター触媒の存在下に、プロピレンを分子状酸素により気相で直接酸化することによりプロピレンオキサイドを製造する。このとき原料ガスに水を添加するか、または触媒量の水素ガスを添加すると、プロピレンの転化率およびプロピレンオキサイドの選択率が著しく上昇する。チタノシリカライトのアルカリ処理は、例えば、チタノシリカライトをpH12の30℃水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム水溶液中に懸濁し、1〜4時間攪拌することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】下記一般式[2]で表される含フッ素エポキシエステルを、副生物の生成を大幅に抑制しつつ工業的に実施可能な容易な反応条件で安価な原料を用いて高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】下記一般式[1]で表されるフッ素原子を複数持つ含フッ素α、β−不飽和エステルに次亜塩素酸又は次亜塩素酸塩等の酸化剤を反応させ、下記一般式[2]で表される含フッ素エポキシエステル。




(式[1]及び式[2]中、Rfは炭素数1から10の直鎖もしくは分岐鎖のペルフルオロアルキル基、(CF3)2CH基、CHF2基、CClF2基からなる群より選ばれる置換基である。)また、触媒を共存させない条件でも良好に反応が進行するため、環境負荷がかからず、高い生産性で含フッ素エポキシエステルを製造する。 (もっと読む)


【課題】チタノシリケート触媒を活性化する方法を提供すること。
【解決手段】Ti-MWW前駆体をカルボン酸もしくはカルボン酸塩と接触させることを特徴とするTi-MWW前駆体の活性化方法。 (もっと読む)


本発明はエポキシ化と還元により、2,3-ジフェニルプロペナールから1-ヒドロキシメチル-1,2-ジフェニルオキシランを製造する方法に関する。好ましくない副生成物の形成は、還元を2,3-ジフェニルプロペナールが完全に変換される前に開始すると抑制することができる。ヒドロキシメチルジフェニルオキシランは1-アゾリルメチル-1,2-ジフェニルオキシランを製造するための有用な中間体生成物であり、ここで、1-アゾリルメチル-1,2-ジフェニルオキシランは、アゾリル基を導入することにより前記中間体生成物から容易に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】プロピレンと酸素と水素からプロピレンオキサイドをより効率的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】シリル化剤と接触させた活性炭と貴金属からなる貴金属担持物およびチタノシリケートの存在下に、液相中、プロピレン、酸素および水素を反応させることを特徴とするプロピレンオキサイドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】プロピレン、水素及び酸素からプロピレンオキサイドを製造する製造方法において、水素基準のプロピレンオキサイドの選択率が高い製造方法を提供すること。
【解決手段】水及びニトリル化合物を含む混合溶媒中、
貴金属触媒、酸素12員環以上の細孔を有するチタノシリケート及び有機硫黄化合物の存在下に、水素と、酸素と、プロピレンと、を反応させる工程を有するプロピレンオキサイドの製造方法の提供。 (もっと読む)


【課題】オレフィン類と過酸化水素との反応による多官能性エポキシモノマーの製造方法の提供。
【解決手段】タングステン化合物並びに式(1):


で表されるリン酸エステル等のリン酸エステルを触媒として用いる。 (もっと読む)


【課題】プロピレンオキシドの生産性を改善する方法を提供すること。
【解決手段】Ti-MWW層状前駆体とパラジウムを担体上に担持した触媒の存在下、アセトニトリルと水の混合溶媒中、水素と酸素とプロピレンを多段プロセスにより反応させることを特徴とするプロピレンオキサイドの製造方法。該Ti-MWW層状前駆体としては、下記に示す値のX線回折パターンを有し、かつ一般式xTiO2・(1−x)SiO2(式中xは0.0001〜0.1の数値を表す。)で表される組成を有するものであることが好ましい。X線回折パターン格子面間隔d/Å(オングストローム)13.2±0.612.3±0.39.0±0.36.8±0.33.9±0.23.5±0.13.4±0.1 (もっと読む)


【課題】高収率で酸化化合物を製造することができる酸化化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】下記X線回折パターンを有するチタノシリケート(II)と構造規定剤とを接触させることにより得られるチタノシリケート(I)又はそのシリル化物の存在下に、有機化合物と酸化剤とを反応させることにより、前記有機化合物を酸化させる工程を含む酸化化合物の製造方法の提供。
X線回折パターン
(格子面間隔d/Å)
12.4±0.8
10.8±0.3
9.0 ±0.3
6.0 ±0.3
3.9 ±0.1
3.4 ±0.1 (もっと読む)


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