【課題】拡散バリア層に原子層堆積によって金属を被着させる方法の提供。
【解決手段】金属と電子求引基を含む配位子とを含む有機金属前駆物質錯体。該錯体は、十分にパッシベーションされた拡散バリア層及び該拡散バリア層に被着された金属層へ発熱的に化学吸着し、且つ該拡散バリア層及び該金属層上で発熱性の還元を受けるのに適合している。金属は好ましくは銅である。該錯体を原子層堆積において利用する。 （もっと読む）

本明細書に、構造Ｒ_ｆＣＦＣｌＣＨＲＯＨのヒドロフルオロアルカノールの製造方法であって、構造Ｒ_ｆＣＦＸ_２（式中、各Ｘは独立して、Ｃｌ、Ｂｒ、およびＩから選択される）のハロフルオロカーボンを反応溶媒中でアルデヒドおよび反応性金属と反応させて金属ヒドロフルオロアルコキシドを含む反応生成物を生成する工程と、前記金属ヒドロフルオロアルコキシドを中和してヒドロフルオロアルカノールを生成する工程と、ヒドロフルオロアルカノールを回収する工程とを含む方法が記載される。本明細書に、構造Ｒ_ｆＣＦＸ_２（式中、各Ｘは独立して、Ｃｌ、Ｂｒ、およびＩから選択される）のハロフルオロカーボンから構造Ｒ_ｆＣＦ＝ＣＨＲのヒドロフルオロアルケンを製造する方法であって、（１）構造Ｒ_ｆＣＦＸ_２（式中、各Ｘは独立して、Ｃｌ、Ｂｒ、およびＩから選択される）のハロフルオロカーボンをアルデヒドおよび反応性金属と反応させて金属ヒドロフルオロアルコキシドを含む反応生成物を生成する工程と、前記金属ヒドロフルオロアルコキシドを還元的に脱ヒドロキシハロゲン化してヒドロフルオロアルケンを生成する工程と、または（２）構造Ｒ_ｆＣＦＸＣＨＲＯＨのヒドロフルオロアルカノールもしくは構造Ｒ_ｆＣＦＸＣＨＲＯＭＸ（式中、Ｍは＋２酸化状態の反応性金属である）のヒドロフルオロアルコキシドを反応溶媒中でカルボン酸無水物および反応性金属と反応させてヒドロフルオロアルケンを形成する工程と、ヒドロフルオロアルケンを単離する工程とを含む方法もまた記載される。特に、２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンがこの方法で製造されてもよい。式Ｒ_ｆＣＦＣｌＣＨＲＯＣ（＝Ｏ）Ｒ’の化合物もまた記載される。 （もっと読む）

【課題】−１０℃程度の温度条件下においても安定に保存することが可能であり、殺虫性化合物の製造中間体として有用な有機金属化合物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表わす。）で示される有機マグネシウム化合物およびその製造方法、ならびにこの有機マグネシウム化合物の製造中間体として有用なジブロモ化合物が提供される。 （もっと読む）

【課題】特にＣＶＤ用原料として好適な揮発特性、熱安定性等の性質を有するストロンチウムプレカーサを含有する薄膜形成用原料を提供すること。
【解決手段】ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ストロンチウムに、下記一般式（１）で表される二座配位化合物を付加させて得られるストロンチウム化合物を含有してなる薄膜形成用原料。
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【課題】カルボニル炭素又はイミノ炭素へ炭化水素基を付加した求核反応体を温和な条件下であっても高選択的に得られる。
【解決手段】ＴＨＦ中で、塩化亜鉛（０．３３５ｍｍｏｌ）とＥｔＭｇＣｌ（４．３５ｍｍｏｌ）の存在下、ベンゾフェノン（３．３５ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて２時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温下３分攪拌した。続いて、酢酸エチルを加え、通常の分液処理を行った。抽出した有機層を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。中性シリカゲルカラム（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて生成物を分取し、対応する３級アルコールを収率８４％で得た。 （もっと読む）

保護された有機ボロン酸は、ｓｐ^３混成を有するホウ素、ホウ素に結合した立体構造的に強固な保護基、及びホウ素-炭素結合を介してホウ素に結合している有機基を含む。化学反応を実施する方法は、保護された有機ボロン酸と試薬を接触させることを含み、該保護された有機ボロン酸は、ｓｐ^３混成を有するホウ素、ホウ素に結合した立体構造的に強固な保護基、及びホウ素-炭素結合を介してホウ素に結合している有機基を含む。有機基は化学的に変換され、ホウ素は化学的に変換されない。 （もっと読む）

水素を生成させる方法は、反応器を提供するステップおよび水素発生組成物をその反応器に提供するステップを含む。水素発生組成物は、主として水素化ホウ素成分およびグリセロール成分からなる。水素化ホウ素、例えば水素化ホウ素ナトリウムおよびグリセロール成分は、反応前には一般に化学量論比３：４で存在する。水素化ホウ素成分は水素原子を有し、グリセロール成分は水素原子を含むヒドロキシル基を有する。その方法は、水素化ホウ素成分をグリセロール成分と反応させ、それにより水素化ホウ素成分中に存在する水素原子の実質的に全ておよびグリセロール成分のヒドロキシル基中に存在する水素原子の実質的に全てを変換して、水素ガスを生成させるステップを更に含む。水素化ホウ素成分とグリセロール成分との反応は、アルコール分解反応である。本発明を用いる反応および反応システムも記載される。
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【課題】ベンジルアミン誘導体を合成するために有用な中間体及びその製造法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（５）で表されるアジリジン化合物に、第一級アミンを反応せしめることを特徴とする一般式（６）で表されるエチレンジアミン誘導体の製造方法。
【化１】


［式中、Ｒ¹は、アルキル基又はアラルキル基を示し、Ｒ²は、アルキル基又はアルケニル基を示し、Ｒ³は、アルキル基、アラルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ａｒは、置換基を有していてもよいアリール基を示す。] （もっと読む）

本発明は式Ｉ
【化１】


の新規化合物、該化合物を含有する薬剤組成物および治療における上記化合物の使用に関する。本発明はさらに前記化合物の製造法およびその製造において有用な新規中間体に関する。
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【課題】触媒的不斉合成反応の不斉触媒として用いた場合に、高い選択性や触媒活性を示す配位子を提供する。
【解決手段】下式の光学活性なビス（アルキニルホスフィノ）エタン−ボラン誘導体。（Ｓ）−ｔ−ブチルメチルホスフィン−ボランをブロモ化し、アルキニルリチウムを作用させ、更に脱プロトン化及び酸化的カップリングを行い得られる。脱ボラン化により脱保護することで、光学活性なビス（アルキニルホスフィノ）エタン誘導体が得られる。
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【課題】ｐ−ボロノフェニルアラニンおよびＬ−ｐ−ボロノフェニルアラニンを、従来よりも、より安価に、より安全に、より工業的に製造することを可能とするフェニルホウ素誘導体およびその製造方法を提供する。また、上記フェニルホウ素誘導体を用いることにより、ｐ−ボロノフェニルアラニンおよびＬ−ｐ−ボロノフェニルアラニンを、従来よりも、より安価に、より安全に、より工業的に製造する方法を提供する。
【解決手段】下記式（３）：


（３）で表されるピナコールホウ酸誘導体（ただし、式中Ｘはハロゲン元素等を表し、式中Ｒ^１はアミノ基の保護基を表し、式中Ｒ^２は水素またはアミノ基の保護基を表し、式中Ｒ^３およびＲ^４は同一または異なってアルキル基等を表し、式中Ｒ^５〜Ｒ^８は同一または異なってアルキル基またはアラルキル基を表す。）を脱保護反応後、加水分解、脱炭酸反応を行い、ｐ−ボロフェニルアミノアラニンを得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】カドミウム、銅、鉛、錫、水銀等の有害な特定重金属を選択的に認識・捕捉することができる分子インプリントポリマーを低コストで製造するためのモノマーとなる、新規なビニル基を有する遷移金属配位化合物及びその製造方法、並びに該遷移金属配位化合物を使用した遷移金属分子インプリントポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】下記の式（１）で表されるビニル基を有する遷移金属配位化合物。
ＭＸ_２Ｌ_４ （１）
（式中、Ｍは遷移金属、Ｌはビニルピリジン配位子、Ｘはハロゲン原子を表す。）
この化合物は、ビニルピリジンと式ＭＸ_２（２）で表される遷移金属ハロゲン化物を反応させて得ることができる。また、この化合物を複数のビニル基を有する架橋剤の存在下に重合させて、得られた重合体から遷移金属を除去することにより遷移金属インプリントポリマーを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】含窒素クロロベンゼン化合物とマグネシウムを原料としてグリニャール試薬を製造する際の含窒素クロロベンゼン化合物の反応性の低さを改善し、反応速度及びグリニャール試薬の収率を改善し、また、生成物の取得を容易にする。
【解決手段】含窒素クロロベンゼン化合物とマグネシウムをテトラヒドロピラン中で反応させるグリニャール試薬の製造方法。 （もっと読む）

モキシフロキサシン塩酸塩の新規な多形を、この多形をつくるための方法と一緒に記載する。更に、モキシフロキサシン塩酸塩の形成における式(Ｉ)および(II)を有する新規な中間体を記載する。

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本発明は置換ピリジンを有する新規ボラン錯体、置換ピリジンを有する新規ボラン錯体の合成方法、置換ピリジンを有する新規ボラン錯体を含む溶液、および置換ピリジンを有する新規ボラン錯体を有機反応に用いる使用方法に関する。 （もっと読む）

【課題】芳香族塩化物、特に含酸素クロロベンゼン化合物とマグネシウムを用いてグリニャール試薬を製造する際に、含酸素クロロベンゼン化合物の反応性の低さを改善し、反応時間の長さ及びグリニャール試薬の収率を改善する。
【解決手段】含酸素クロロベンゼン化合物を原料とするグリニャール試薬製造工程の溶媒にテトラヒドロピランを用いる。 （もっと読む）

本発明は、有用なインテグラーゼ阻害作用を有する４−オキソキノロン化合物の調製に使用可能な合成プロセスおよび合成中間体を提供する。１つの実施形態では、本発明は、式３の化合物またはその塩を提供する。他の実施形態では、本発明は、式５ａの化合物またはその塩を提供する。他の実施形態では、本発明は、式３の化合物またはその塩を調製する方法であって、対応する式２の化合物またはその塩を式３の化合物またはその塩に変換する工程を含む方法を提供する。 （もっと読む）

【解決課題】 従来の方法に比べより効率的なグリニャール試薬の製法を提供すること。
【解決手段】 一般式（ＶＩＩＩ）：
Ｒ−Ｉ （ＶＩＩＩ）
式中、Ｒは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいビシクロ基、置換基を有していてもよいアルケニル基、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる原子を１乃至４個包含する、置換基を有していてもよい複素環式基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す、
で示される化合物を塩素、臭素、塩化水素または臭化水素で処理した亜鉛又はマグネシウムと反応することを特徴とする一般式（ＩＸ）：
Ｒ−Ｘ−Ｙ （ＩＸ）
式中、Ｘは、亜鉛又はマグネシウムを表し、Ｙは、ヨウ素、臭素、塩素を表す、
で示される化合物の製法。 （もっと読む）

【課題】高純度トリアルキルガリウム及び簡便な方法によって、高純度トリアルキルガリウムを製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子の含有量が0.1質量ppm以下であることを特徴とする、高純度トリアルキルガリウム。及び、トリアルキルガリウムとジアミンからガリウムージアミン錯体を形成させ、次いで反応混合物から蒸留により錯体を取得した後、ジアミン化合物を解離させることにより高純度トリアルキルガリウムを製造する。 （もっと読む）

【課題】産業上有用なオルトジホウ素化アレーン化合物の効率的な製造方法及び新規なオルトジホウ素化アレーン化合物を提供する。
【解決手段】所定の芳香族化合物とホウ素−ホウ素結合を有するジボロン化合物とを、求核試薬及び白金触媒の存在下にて反応させることにより、産業上有用なオルトジホウ素化アレーン化合物の効率的な製造方法及び新規なオルトジホウ素化アレーン化合物を得ることができる。 （もっと読む）