本発明は、反応中心を含有する、０．７０≦ｙ≦０．９５、特には０．７０≦ｙ≦１．８０、もっとも特には１．０≦ｙ≦１．８であるＳｉＯ_ｙフレーク、その製造方法及び化学的に変性したＳｉＯ_ｙフレークの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】光受容体を生成するために利用できるヨードアルキルアルコキシシランを短時間で、純度よく製造する。
【解決手段】プロトン酸の存在下で、ハロアルキルメトキシシランにアルコールを接触させて、ハロアルキルアルコキシシランを生成し、これにヨウ化物を接触させてヨードアルキルアルコキシシランを製造する。 （もっと読む）

【課題】高温で生成した結晶化度および生産性が良好で、高分子量を有するポリマーを提供可能な触媒系を提供すること。
【解決手段】本発明は、次の化学式により表される遷移金属化合物に関する。式中、Ｍは周期律表の４族から選択される遷移金属であり、Ｒ^１は水素等、Ｒ^２はメチル等、Ｒ^３は炭素または珪素、Ｒ^４は水素等、Ｒ^５は水素等、Ｒ^６は炭素または珪素、Ｒ^７は水素、Ｒ^８は水素等、Ｒ^９は水素等、Ｒ^１０は−Ｍ^２（Ｒ^１６）_ｈ−、Ｒ^１１は水素等、Ｒ^１２は炭素または珪素、Ｒ^１３は水素等、Ｒ^１４は水素等、およびＲ^１５は炭素または珪素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、およびｇは０か１または２である。

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【解決手段】 下記一般式（１）で示される含フッ素アセチレンアルコール。
【化１】


（但し、Ｒｆは炭素数３〜２５のパーフルオロアルキル基で、途中エーテル結合を含んでいてもよく、分岐していても良い。Ｑは炭素数１〜６の２価の炭化水素基であり、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である）

下記一般式（２）で示される含フッ素アセチレンアルコール。
【化２】


（但し、Ｒｆ及びＲ^１は前述の通り、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は炭素数１〜４のアルキル基でありそれぞれ同一でも異なっていても良い。Ｚは炭素数１〜１０の２価の有機基でる）
【効果】 本発明の新規の含フッ素アセチルアルコール化合物は、非イオン系界面活性剤、化合物の中間体、ヒドロシリル化の反応制御剤として有用である。 （もっと読む）

ａ）式（Ｉ）；［式中、Ｍは、遷移金属であり；ｐは０〜３の整数であり、Ｘは、同じかまたは異なっていて、水素原子、ハロゲン原子、または炭化水素基であり；Ｌは、二価のＣ₁−Ｃ₄₀炭化水素基であり；Ｒ¹は、Ｃ₁−Ｃ₄₀炭化水素基であり；Ｔ¹は、式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）：（式中、Ｒ²およびＲ³は、Ｃ₁−Ｃ₄₀炭化水素基であり、または、それらは一緒になってＣ₃−Ｃ₇員環を形成することができ；Ｒ⁴は、Ｃ₁−Ｃ₄₀炭化水素基である）で表される基であり；Ｔ²およびＴ³は、式（ＩＩＩａ）；（式中、Ｒ⁶およびＲ⁷は、互いに同じかまたは異なり、水素原子、または、Ｃ₁−Ｃ₄₀炭化水素基であり；Ｒ⁵は、水素原子またはＣ₁−Ｃ₄₀炭化水素基である）で表される基であり；その場合、Ｔ¹が式（ＩＩａ）で表される基である場合、Ｔ²とＴ³の少なくとも１つは式（ＩＩＩｂ）で表される基であり、また、Ｔ¹が式（ＩＩｂ）で表される基である場合、Ｔ²とＴ³の少なくとも１つは式（ＩＩＩａ）で表される基であるという条件が付く］で表されるメタロセン化合物と；ｂ）少なくとも１種のアルモキサン、またはアルキルメタロセンカチオンを形成できる化合物とを接触させることによって得ることができる触媒系の存在下で、１−ブテンおよび任意にエチレン、プロピレンまたはより高級なを重合させる工程を含む１−ブテンポリマーを調製する方法。
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【課題】本発明は、接着剤組成物に添加することにより、その接着剤組成物に対して、長期間保存後も十分強固な界面接着強度を付与できるシラン化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）及び（２）で示されることを特徴とするシラン化合物。
【化１】


【化２】


［式（１）及び（２）中、Ｒ^１は炭素数２〜１２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、又は置換フェニル基を示し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、又は置換フェニル基を示し、ｎは１〜６の整数を示す。］ （もっと読む）

所定の刺激に晒された後、光学的に透明な状態から光学的に不透明な状態へ転換し、これにより光学読み取り可能な記憶媒体上にエンコードされたデータへのアクセスを阻害する反応性材料により構成された接合層を読み取りビームが通過する、光学読み取り可能な記憶媒体を製造する方法及び装置が提供される。方法は、ブロック化染料を合成するステップと、ブロック化染料を担体材料と組み合わせるステップと、結果的な組み合わせを硬化させるステップと、結果的な接合層において染料をブロック解除して還元染料を生成するステップと、接合層に反応性材料を有する光学読み取り可能記憶媒体を所定の刺激に露出するステップとを含む。本発明の更なる態様では、光学読み取り可能な記憶媒体を製造する方法及び装置が提供され、ここで、読み取り光は接合層を通過し、データエンコード情報は、Ｌ１層上でエンコードされる。本発明の更に別の態様では、光学読み取り可能な記憶媒体のエンコードデータへのアクセスを制限する少なくとも二つのメカニズムを備えた、光学読み取り可能な記憶媒体を製造する方法及び装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】 緩和な条件下でアルデヒド由来のアセタールを選択的に脱保護する方法を提供する。
【解決手段】 塩化メチレン中、O℃下で、アルデヒド基由来のアセタール基を有する化合物に対し、有機塩基、及びTMSOTf又はTESOTfを順次加えて反応を行うことによりアルデヒド由来のアセタール基をアルデヒド基へと変換する。 （もっと読む）

白金フリーのニートな銅含有触媒の存在下、ハロゲン化オレフィンと水素化有機ケイ素との反応を介してクロロプロピルシランが調製される。トリエチルシランなどの水素化有機ケイ素、塩化アリルなどのハロゲン化オレフィン、並びに酢酸銅、塩化銅、硫酸銅、水酸化銅、硝酸銅及びシアン化銅などの触媒を、該方法で用いることができる。 （もっと読む）

本発明は、式（１）で示されるシルセスキオキサン誘導体を提供する。


（ここで、Ｒ^１は水素、アルキル、アリールまたはアリールアルキルであり；Ｒ^２およびＲ^３はアルキル、フェニルまたはシクロヘキシルであり；Ａは単量体に対して重合を開始させる能力を有する基である。）
本発明のシルセスキオキサン誘導体を用いて、重合体を形成することにより、新たな有機−無機複合材料が得られる。
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【課題】 低誘電率でかつクラック耐性、耐熱性、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）耐性に優れる、特に２．４以下の低い比誘電率を有する高信頼性の絶縁膜などの絶縁材料を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）により表される化合物などの特定のケイ素含有化合物、その加水分解物、または縮合物を含有することを特徴とする絶縁膜形成用組成物及びそれを用いて形成される絶縁膜などの絶縁材料。
Ａ_nＳｉＸ_(4-n) （１）
式中、ｎは１〜３の自然数を表す。Ａは、置換基を有していても良い、炭素原子１１個以上で形成されるカゴ型構造を含有する基であり、Ｘは加水分解性基を表す。 （もっと読む）

【課題】接着剤組成物に添加することで、その接着剤組成物に対して、長期間保存後も十分強固な界面接着強度を付与できるシラン化合物を製造するための製造方法を提供。
【解決手段】下記一般式（１）のアルキル（フェニル）シリルハライドと、下記一般式（２）等で表される特定のシリルエーテル化合物と、を反応させるシラン化合物の製造方法。


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本発明は、式Ｉ
【化１】


［式中、
ＡはＯまたはＳ（Ｏ）_ｍであり、
Ｊは本明細書に定義されるようなフェニルまたは複素環であり、そして
Ｒ^１〜Ｒ^１２、ｎ、ｍおよびｒは本開示に定義される通りである］の化合物、そのＮ−オキシドおよびそれらの適切な塩を提供する。また、無脊椎有害生物またはその環境を、生物学的に有効な量の式Ｉの化合物、そのＮ−オキシドまたはその化合物の適切な塩（例えば、本明細書に記載の組成物として）と接触させることを含んでなる、無脊椎有害生物の防除方法も開示される。また本発明は、生物学的に有効な量の式Ｉの化合物、そのＮ−オキシドまたはその化合物の適切な塩と、界面活性剤、固体希釈剤および液体希釈剤よりなる群から選択される少なくとも１種の追加の成分とを含んでなる、無脊椎有害生物の防除のための組成物に関する。
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アルケニルアルコキシシラン（アリルトリメトキシシランなど）は、対応するモノアルケニルジクロロシラン（すなわち、アリルジクロロシラン）をモノヒドロキシアルコール（すなわち、メチルアルコール）と反応させることにより製造することができる。触媒は必要でなく、室温で反応を行うことができる。 （もっと読む）

本発明は、式（Ｉ）、
【化１】


（但し、
Ｒ¹、Ｒ¹が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが水素又は１〜４０個の炭素原子を含む有機基であり、
Ｒ²、Ｒ²が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが水素又は１〜４０個の炭素原子を含む有機基であり、
Ｒ³、Ｒ³が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが１〜４０個の炭素原子を含む有機基であり、
Ｔ、Ｔ’が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが、１〜４０個の炭素原子を有する二価の有機基であり、及びシクロペンタジエニル環と一緒に、少なくとも１種の別の飽和又は不飽和の、置換又は無置換の、５〜１２原子の環サイズを有する環状基を形成し、Ｔ、Ｔ’は、シクロペンタジエニル環に縮合した環状基内にヘテロ原子Ｓｉ、Ｇｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ又はＴｅを含んで良く、
Ａが、二価の原子又は二価の基からなるブリッジであり、
Ｚが、二価の原子又は二価の基からなるブリッジであり、
Ｅが、Ｐ、Ａｓ又はＳｂであり、
Ｍ¹が、元素周期表の第４族の元素であり、
Ｍ²が、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はマグネシウムモノハロゲン化部分であり、
ｐが、正の２価に荷電した金属イオンの場合には１であり、又は正の１価に荷電した金属イオン又は金属イオン部分の場合には２であり、
基Ｘが、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが、シクロペンタジエニルアニオンによって置換可能な有機基又は無機基であり、
及び、
ＬＢが、無荷電のルイス塩基リガンドである）
のアンサ−メタロセン錯体を、ラセモ選択的に製造するための方法、及びまた、これら錯体を後に式（ＩＶ）のアンサメタロセンに転化する方法、式（ＩＩＩ）
【化２】


の遷移金属化合物、及びこれらをアンサ−メタロセンのラセモ選択的な製造のために使用する方法、式（Ｉ）のアンサ−メタロセン錯体、及びこれらをオレフィン性不飽和化合物の重合用の触媒組成物の成分として使用する方法に関する。
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【課題】 蛋白質吸着を防止するコンタクトレンズ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 ホスホリルコリン基含有化合物を眼用レンズ材料に反応させる後処理によって、特定構造のホスホリルコリン基を眼用レンズ材料表面に共有結合させたことを特徴とする眼用レンズ材料である。 （もっと読む）

本発明は新規の銅（Ｉ）または銀（Ｉ）錯体、及び不純物をほとんど含まない金属銅または銀の気相化学蒸着（gas-phase chemical deposition）のためのこれらの使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、式（Ｉ）Hal------(R²R³)Si---(CH₂)_S---Halのω−ハロアルキルジアルキルハロシランの製造方法であって、式（ＩＩ）Hal------(R²R³)Si−Hのシランおよび式（ＩＩＩ）CH=CH-(CH₂)_S-2Halのアルケンハロゲン化物を含む反応溶媒中で、白金族金属を含むヒドロシリル化触媒の触媒有効量存在下において、ヒドロシリル化反応の手段を用いる方法に関する。前記方法によれば、ヒドロシリル化は完全であり、その結果としての生成物は式（Ｉ）を有し、白金族触媒が蒸留により回収される。前記方法は（ｉ）蒸留残留物のガス状H−Halハロゲン酸の分離のための制御された加水分解、並びにHalの重量で表した加水分解性ハロゲン含有量がSi−Hal＝２％と低く、触媒金属を含む水媒体の作製（ｉｉ）固形吸収剤を使用せず、耐酸性ではない通常の設備で特に触媒製造での従来からの手法による前記水媒体からの白金族触媒金属の回収により前記触媒金属が回収されることに特徴がある。 （もっと読む）

本発明は、式（Ｉ）の化合物又はその塩（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は明細書中に定義されるとおりである）、医薬としてのそれらの使用、それらの製造のためのプロセス及びＰＤＥ−ＩＶ又はＴＮＦ−αが介在する疾患の処置のための使用に関する。
（もっと読む）

本発明は、次の式Ｉの化合物又はその薬学的に受容可能な塩の製造方法に関し、式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、明細書で定義される意義のいずれかを有する。本発明化合物は、炎症性疾患、例えば関節リウマチを含む疾患の処置に有用である。
【化１】

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