【課題】 本発明の課題は、簡便な方法にて、高収率でストロンチウムアミド化合物の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、ジハロゲノストロンチウムを還元して得られる金属ストロンチウム又はその溶液とアミノ化合物をと反応させることを特徴とするストロンチウムアミド化合物の製造方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】ハイドロシリレーション（付加反応）の特徴を生かした硬化物を与えることができ、光半導体用封止材などに好適に用いられるイソシアヌル環含有オルガノポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される、分子中に少なくとも１つのイソシアヌル環を有し、両末端にビニルシロキシ基を有するオルガノポリシロキサン。


（Ｘは互いに独立に不飽和結合を含まない一価の有機基であり、Ｒ^１、Ｒ^２は互いに独立にメチル基またはフェニル基であり、Ｐは１〜３０の整数である。） （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物（具体的例示：２，４，６−トリシクロプロピル−２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン）を含有するＳｉ含有膜形成材料を用いてＰＥＣＶＤ法によりＳｉ含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。 （もっと読む）

【課題】揮発性であり、低温安定性であり、優れた光沢をもたらし、紫外線吸収剤との相溶性に優れる特性を有する新規なオルガノポリシロキサン、その製造法及び該オルガノポリシロキサンを含有する化粧料の提供。
【解決手段】オルガノポリシロキサンは、例えば、１，２−ビス（クロロジメチルシリル)エタンを加水分解することによって製造される下式の１，２−ビス（ペンタメチルジシロキシ）エタン、或いは環状の１，１，３，３，６，６，８，８−オクタメチル−２，７−ジオキシ−１，３，６，８−テトラシラシクロデカンである。


従来のオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン又はメチルトリメチコンの代替品として該オルガノポリシロキサンは使用され、使用時の感触に優れ、優れた外観をもたらし、また、紫外線吸収剤等の各種成分の配合の自由度の高い化粧料。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で示される遷移金属錯体化合物からなる脂肪族又は脂環式不飽和結合を有するシロキサンの不飽和炭素へのケイ素導入反応用触媒。
Ｘ_t−Ｍ−Ｒ¹_s（Ｙ_u） （１）
（Ｍは遷移金属原子、Ｒ¹はＨ、アルキル基、アリール基、又はＳｉＲ₃基。ＲはＨ、１価炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はシロキサン残基。Ｘは脂肪族不飽和基を有する環状体、トリスピラゾリルボレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ポルフィン、又はフタロシアニン。Ｙはアンモニア分子、カルボニル分子、酸素原子、酸素分子、アミン分子、ホスフィン分子、又はホスファイト分子。０＜ｓ≦３、０≦ｔ＜２、０≦ｕ≦１２、ｓ、ｔは遷移金属原子の酸化数がＩＩ価又はＩＶ価となるような数。）
【効果】本発明の触媒を用いて不飽和結合含有シロキサンと≡Ｓｉ−Ｈ基を反応させると、炭素炭素二重結合を有する有機ケイ素化合物が合成できる。 （もっと読む）

一態様では、本発明は、構造Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ又はＶの少なくともいずれかを有するアミノ−シロキサン組成物を提供し、本組成物は、発電所燃焼排ガスのようなガス流からの二酸化炭素の捕獲に有効である。さらに、本発明は、アミノ−シロキサン組成物の製造方法を提供する。二酸化炭素と反応して二酸化炭素の付加体を形成する化学種として本発明のアミノ−シロキサン組成物を用いてプロセス流中の二酸化炭素の量を低減する方法も提供する。本発明のアミノ−シロキサン組成物と二酸化炭素との反応は可逆的であり、したがって、本発明の方法は上記組成物を複数サイクルで使用することができる。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適した低誘電率絶縁膜用材料として有用な、新規な環状シロキサン化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（２０）
【化１】


（式中、Ｒ^１８は炭化水素基を表し、Ｒ^１９は水素原子又は炭化水素基を表す。ｇは２乃至１０の整数を表し、ｈは１乃至３の整数を表す。）で示される環状シロキサン化合物［具体的例示:２，４，６−トリス（メトキシメチル）−２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン］。 （もっと読む）

好ましくはＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、及び／又はＴｉＯ_２の無機コア、又は有機顔料及び／又は顔料誘導体から本質的になるコアを有する体積５ｎｍ^３〜５０ミリオンｎｍ^３の荷電粒子、及び粒子から分離可能であり且つ粒子に共有結合していない対イオン粒子を含み、前記対イオンは炭素原子に直接結合されたケイ素原子を含む、組成物が開示されている。好ましくは、前記荷電粒子は前記無機コアに付着した染料を含み且つ前記対イオンは好適な橋部分を介して第４級の正に荷電した窒素又はリン原子に、又はアニオン性官能基を有する部分に結合された（ポリ）シロキサン部分を含む。前記組成物は、例えば、電気泳動ディスプレイにおいて均一な分散液の形で使用してよい。 （もっと読む）

【課題】十分なキャリア移動度を発揮し得るとともに溶媒に対する優れた溶解性を有するポリアセン化合物の原料化合物として有用な芳香族化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される芳香族化合物。


［式中、Ａ環及びＢ環は、ベンゼン環、芳香族縮合環、複素芳香族環又は複素芳香族縮合環を示し、Ｒ^１ａは−ＣＨＲ^２ａ−ＣＨＲ^２ｂＲ^２ｃで表される基を示し、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ及びＲ^１ｄは水素原子、アリール基又は−ＣＨＲ^２ｄ−ＣＨＲ^２ｅＲ^２ｆで表される基を示す。Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^２ｄ、Ｒ^２ｅ及びＲ^２ｆは水素原子、アルキル基、アリール基又は置換シリル基を示し、Ｒ^２ａとＲ^２ｂ、Ｒ^２ｄとＲ^２ｅは環を形成していてもよい。］ （もっと読む）

【課題】未反応のアルコキシ基残存量の少ない、分子鎖両末端に水酸基を有する低重合度の直鎖状ジオルガノポリシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式(1):
Si(Ｒ¹)(Ｒ²)(ＯＲ³)₂ (1)
〔式中、Ｒ¹及びＲ²は、おのおの独立に、置換もしくは非置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｒ³は、メチル基又はエチル基である〕
で表されるジアルコキシシランを、該ジアルコキシシランが有するアルコキシ基に対して1.0倍モル以上の量の水を含有するｐＨ1.0〜6.0の酸水溶液と混合し、生成するアルコールを除去しながら加水分解及び縮合を行う工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた反応混合物に金属酸化物を添加する工程と
を有することを特徴とする、両末端に水酸基を有する低重合度直鎖状ジオルガノシロキサンの製造方法 （もっと読む）

【課題】電子供与性が高く、安定性に優れるヘテロ環縮環チオフェン化合物及びポリマー、並びにヘテロ環縮環チオフェン化合物の効率的な製造方法を提供。
【解決手段】立体反発が小さいため、２つの骨格が約１６８°の二面角をなす構造が安定配座であるビ（チエノ［２，３−ｃ］チオフェン）骨格を有する、優れた電荷輸送能を有するヘテロ環縮環チオフェン化合物及びポリマー、並びにヘテロ環縮環チオフェン化合物の効率的な製造方法。 （もっと読む）

ポリマーおよび高分子材料の形成のための、反応物および中間体としてのものを含む用途で有用性を有し、特に眼用レンズのためのヒドロゲルとして有用な、新規化合物を開示する。 （もっと読む）

本発明は、新規なポリオルガノシロキサン類、それらの調製方法、および特に例えば油圧液などの力および／または熱伝達液としての、ならびに化粧品組成物中でのそれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 劣化しない防汚塗料組成物の提供。
【解決手段】 一般式（Ｉ）：
【化１】


［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキルまたはハロゲン基を表すが、これらは場合によりアルキル、アラルキル、アリール、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノまたはアミノアルキル基を包含する群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されていてもよく、
Ｒ^７は、水素、アルキル基または−ＣＯＯＲ^９（ここで、Ｒ^９はアルキル基を表す）を表し、
Ｒ^８は、水素、アルキル基または−ＣＨ_２−ＣＯ_２−（ＳｉＲ^４Ｒ^５Ｏ）_ｎ−ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｒ^３を表し、そして
ｎは３から１２を表す］
で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体を含んでなる防汚塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】波長６００ｎｍ以上の光を少なくとも吸収することが可能である、メソ構造を有する有機シリカ系材料および有機シリカ系メソ多孔体を提供する。
【解決手段】下記式（１）：


〔Ｒ^１〜Ｒ^１０のうちの少なくとも３つの基は、下記式（２）：−（Ｚ）_ｍ−Ｓｉ（ＯＲ^ａ）_ｎＲ^ｂ_３−ｎ（２）で表されるアルコキシシリル基を含有する置換基〕で表されるペリレン系有機シラン化合物のメソ構造を有する重合体と、界面活性剤とを含有することを特徴とする有機シリカ系材料、および前記ペリレン系有機シラン化合物の重合体からなる有機シリカ系多孔体。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性に優れ、誘電率、硬度等の諸特性に優れ、誘電率の経時変化が小さく、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した多孔質膜、およびその多孔質膜を製造する組成物を提供する。
【解決手段】多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物（Ｘ）を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

Ｓｉ−Ｓｉ又はＳｉ−Ｎの単結合によって結合されている一般式（Ｉ）＝ＳｉＹ₂、及び（ＩＩ）＝ＮＲ³の単位４〜１０個から構成されている環状アザシラ化合物であって、前記式中、Ｙは−ＮＲ¹Ｒ²、水素、及びハロゲンから選択されており、Ｒ¹及びＲ²は水素、及び１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基から選択されており、Ｒ³は１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基であり、ただし環中で一般式（Ｉ）の単位の少なくとも２つはＳｉ−Ｓｉ単結合で相互に結合されており、基Ｙの最大３５ｍｏｌ％が水素であり、基Ｙの最大１５ｍｏｌ％がハロゲンである、前記環状アザシラ化合物、及びその製造方法。
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【課題】発光素子、光電変換素子及び半導体などの有機電子素子材料として使用可能なペンタセン誘導体の合成中間体及びその製造方法の提供。
【解決手段】本発明は、下記式（I）：


［式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、水素原子、アルキル基等であり、Ａ¹〜Ａ⁴は、水素原子又はアルコキシカルボニル基等の電子吸引性基であり、Ａ¹〜Ａ⁴の少なくとも一つは電子吸引性基である。］で示されるペンタセンキノン誘導体及びその製造方法等を提供する。該ペンタセンキノン誘導体をグリニャール試薬又は有機リチウム試薬と反応させることによりペンタセン誘導体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】導電性材料や光機能材料として有用な、ポリシラン及び／又はオリゴシラン類の製造方法の提供。
【解決手段】１）ヒドロオリゴシランを準備する工程；２）ヨウ化アリールを準備する工程；及び３）ヒドロオリゴシランとヨウ化アリールとを、単座ホスフィンが２分子配位したパラジウム錯体触媒の存在下で反応させて、一般式ＩＩＩで表されるヒドロヒドロオリゴシランのアリール化体を得る工程；を有する、ヒドロオリゴシランのアリール化体の製造方法。
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【課題】熱処理を行わなくても、簡便に繊維製品のしわを除去することができ、且つ消臭効果を持続できるしわ除去消臭剤組成物の提供。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される化合物及び（ｂ）一般式（２）で表される化合物を含有するしわ除去消臭剤組成物、並びに該しわ除去消臭剤組成物をスプレー容器に充填してなるスプレー式しわ除去消臭剤。


〔式中、Ｘは−ＯＨ、−Ｒ¹（Ｒ¹は総炭素数１〜２２の脂肪族炭化水素基等）又は−ＯＲ²（Ｒ²は炭素数６〜２２の炭化水素基）、ＹはＸ又は−ＯＳｉ（Ｘ）₃、ｎは０〜１５の数であり、一分子中に−ＯＲ²を少なくとも１つ有する。〕Ｒ³−Ｗ−［（ＰＯ）_a／（ＥＯ）_b］−Ｈ（２）〔式中、Ｒ³は炭素数１０〜２２の炭化水素基、ＰＯはＣ₃Ｈ₆Ｏ、ＥＯはＣ₂Ｈ₄Ｏａは３〜１００、ｂは１〜１０、Ｗは、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−又は−ＮＨＣＯ−である。〕 （もっと読む）