【課題】新規エポキシ化合物とその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式


（上式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、炭素数１から６までのアルキル基または炭素数１から４までのトリアルキルシリル基を表し、Ｒ^３は同一であっても相異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基またはフルオロアルキル基を表し、そしてｎは０または正の整数を表す）でもって代表される化合物。 （もっと読む）

本発明は、染料で官能化されたシルセスキオキサンクラスター、その製造方法、および着色剤としてのその使用、またはその塩に関し、該化合物（官能化されたクラスターまたはナノ粒子）は、一般式（Ｉ）（式中、ＣＡＧＥは、式（ＩＡ）で示される部分であり、Ｄは、発色団部分であり、他の記号は、本明細書において定義したような意味を有する）を特徴とする。
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【解決手段】式（１）もしくは式（２）（Ｘはハロゲン原子）で示されるハロゲン化シロキサン化合物を、式（３）で示されるシアン酸塩と反応させ、ハロゲン部分をイソシアン基と置換させるイソシアネート基含有シロキサン化合物の製造方法。






【効果】安価な出発原料であるハロゲン化シロキサン化合物とシアン酸塩を用いて、安価にイソシアネート基含有シロキサン化合物を製造でき、工業的利益が発揮される。 （もっと読む）

電子装置において使用することができる、シリルエチニル基が結合したアセン−チオフェンコポリマーを提供する。コポリマーは、一般的な有機溶媒に可溶性である場合が多く、コーティング組成物の一部であることができる。 （もっと読む）

本発明は、タイプ（Ｈ₂ＳｉＯ）_n［式中、ｎは、３又はそれ以上の整数である］の水素に富むシクロシロキサンを、ａ．）タイプＨ₂ＳｉＸ₂［ここでＸ＝ハロゲンである］のハロゲンシランをｂ．）リチウム塩、銅（ＩＩ）塩又は元素の周期表の第２主族又は第２副族からの金属の塩又はこれらの塩の混合物と反応させることにより選択的に合成することに関する。環サイズは、有利にはｎ＝３、４、５、６（特にｎ＝４〜６）に調節可能であるので、より大きな環は形成されない。本方法の特に有利な態様において、シクロヘキサシロキサン（Ｈ₂ＳｉＯ）₆の選択的な製造のために、反応後に溶剤が少なくとも部分的に分離され、引き続き新たに溶剤が添加される。
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本発明は、その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び１個のシリル−配位子を有するルテニウム−錯体；その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合されているルテニウム−錯体及びその配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び少なくとも１個の他の配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合しているルテニウム−錯体を含む群から選択されるルテニウム−化合物、その製造及びヒドロシリル化での触媒としての使用に関する。 （もっと読む）

【課題】劣化しない防汚コーティングの製造に好適なポリオルガノシリル化カルボキシレートの単量体又は重合体の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アリール、アラルキルまたはハロゲン基等を表し、Ｒ^７は、水素、アルキル基または−ＣＯＯＲ^９（ここで、Ｒ^９はアルキル基を表す）を表し、Ｒ^８は、水素、アルキル基または−ＣＨ_２−ＣＯ_２−（ＳｉＲ^４Ｒ^５Ｏ）_ｎ−ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｒ^３を表し、そしてｎは、ジヒドロカルビルシロキサン単位の数３から２０を表す］で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体。 （もっと読む）

本発明は、特に殺菌剤及び／又は抗付着剤としての使用のためのカチオン性シロキサン誘導体に関する。カチオン性シロキサン誘導体は、下記一般式Ｉを有し、
【化１】


式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ_４‘、Ｒ５及びｎは明細書中に定義した通りである。 （もっと読む）

【課題】有機修飾シロキサンの調製方法の提供。
【解決手段】シロキサンを末端不飽和エステルでヒドロシリル化することにより、有機エステルで修飾されたシロキサンを調製する方法、触媒として、加水分解酵素群からの、リパーゼ、エステラーゼ、またはプロテアーゼ、好ましくはリパーゼ、より好ましくはカンジダ アンタークチカ（Ｃａｎｄｉｄａ ａｎｔａｒｃｔｉｃａ）由来のリパーゼＢである酵素が使用され、末端不飽和エステルを調製する方法。 （もっと読む）

【課題】基材によく密着し、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の層を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンにおいて、


（Ｒ_ｆ^１はパーフロロエーテル残基を有する１価の基であり、Ｒ_ｆ^２はパーフロロエーテル残基を有する２価の基であり、Ｑは２価の有機基である）置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

本発明は、１分子当たり、式（Ｉ）Ｏ_{３−ａ／２}Ｒ_ａＳｉ−Ｙ（ＳｉＲ_ａＯ_{３−ａ／２}）_ｂ［式中、Ｒは同一かまたは異なっていてもよく、かつ、有機の一価のＳｉＣ結合基を示し、この場合、この基は、１〜３０個の炭素原子を含み、かつ、１個または複数個のＯ原子を含有していてもよく、ａは０または１であり、かつｂは１〜１１の範囲の整数である］の少なくとも１種の構造単位を含有するオルガノポリシロキサン化合物に関する。 （もっと読む）

【課題】 柔軟な有機及び堅い無機部分を含む多成分網状構造を与える化合物、その製造法の提供。
【解決手段】 式 Ｘ（ＳｉＱ_３）_ｎの化合物から式 Ｘ（ＳｉＯ_１．５−）_ｎの基を有する化合物を製造する。式中、Ｘは例えば、


なる環構造の基であり、Ｑはアルコキシ、アシロキシ又はハロゲンであり、ｎは２以上の整数である。 （もっと読む）

【課題】メロシアニン誘導体を使用することによる紫外線による劣化に対するボディケア及び家庭用品の安定化を提供すること。
【解決手段】記載されているのは光分解及び酸化的劣化からボディケア及び家庭用品を保護するための特定のメロシアニン誘導体の使用である。
これらの化合物は、優れた紫外線吸収性を示す。 （もっと読む）

本発明は、新規なカルボシランデンドリマー、その調製方法及びその使用に関する。本発明のデンドリマーの分岐端は、第１級、第２級、第３級及び第４級アミノ基を含む。前述のデンドリマーは、例えば、ＯＤＮ及びＲＮＡｉ分子を含む核酸分子並びに他のアニオン性医薬等の、血液におけるアニオン性分子を運搬するビヒクルとして使用でき、デンドリマーはこれらと相互作用して、血漿中のタンパク質との相互作用から保護し、及び／又はその標的細胞透過率を上昇させる。長く持続する結合の場合、アニオン性分子を表面に結合させるためにデンドリマーを使用することができる。本発明のデンドリマーはまた、微生物によって引き起こされる疾患の予防又は治療のための有効成分として、そのライフサイクル及び／又は構造に干渉させるために投与することができる。 （もっと読む）

【課題】表面改質剤としてのシリコン含有基を末端に有するオリゴ−及びポリ−カーボネートの提供
【解決手段】本発明は式Ｉ
【化１】


（式中、一般記号は請求項１で定義されたのと同様であり、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ他と独立して、シリコン含有基を表す。）で表される新規化合物に関する。式Ｉで表されるこれらの新規化合物は、ポリカーボネート、ポリエステル又はポリケトン或いはそれらの混合物、ブレンド又はアロイのような有機材料のための表面エネルギーの減少剤として有用である。そのような減少された表面エネルギーを有するポリマーは“洗浄容易性”、“自己洗浄性”、“抗汚染性”、“汚れ−放出性”、“抗落書き性”、“耐油性”、“耐溶剤性”、“化学物質耐性”、“自己潤滑性”、“引っかき抵抗性”、“低水分吸収性”、“耐吸塵性”、“スリップ性”及び“疎水性の表面”；並びにタンパク質に対する抗接着性及び、例えば、細菌、真菌及び藻類のような微生物に対する抗接着性を呈する。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＨ基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 １分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる。 （もっと読む）

本発明は、Ｓｉ−結合ヒドロキシ基を一方の分子鎖末端でのみ有するジオルガノポリシロキサンの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、その加水分解物またはそれらの縮合
物を含む組成物。
【化１】


式中、Ｒ¹は水素原子または置換基である。Ｒ²は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アリールカルボニル基、４級アンモニウム原子を有する基または金属原子である。ｍは６〜３０の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、その加水分解物、またはそれらの縮合物を含む組成物。


式中、Ｒ¹は水素原子または置換基である。Ｒ²は水素原子、あるいは水酸基または加水分解性基を有するシリル基であり、かつ分子中少なくとも１つは水酸基または加水分解性基を有するシリル基である。ｍは５〜３０の整数。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)で表される化合物、その加水分解物および／または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、Ｒ₁〜Ｒ₈で表される基のうち少なくとも１つは、置換基として下記一般式（２）で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化２】


一般式（Ｓ２）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒ₉はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。ｍは１〜３の整数を表わす。 （もっと読む）