【課題】トリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイド誘導体の提供。
【解決手段】本発明は、天然に存在するトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドおよびそれらの構造的アナログの調製のための方法であることを特徴とする。本発明はさらに、これらの方法によって調製され得るトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドの新規誘導体およびアナログを提供する。本発明はまた、種々の疾患、または炎症または炎症性応答、自己免疫疾患、慢性関節リウマチ、心臓血管疾患、または異常細胞増殖または癌に関連する症状の予防、改善および処置のためにトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドを用いる組成物および方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本願発明は、単純アルケンとジシランからアリルシラン類を製造することができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本願発明は、単純アルケンである１−アルケンおよびジシランをトリフルオロ酢酸パラジウム触媒存在下、酸素雰囲気下で反応させることにより、高い位置選択性でアリルシラン類を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】オレフィンの重合で使用可能なメタロセン（metallocene）型触媒を調製することに関する。
【解決手段】二種の一般式である［Ａ］［Ｓｉ（Ｒ）3-nＲｆn］z(I)または


で表されるフルオロシリコン置換基を少なくとも１つ有する配位子、これらの製造方法、そしてこれらをオレフィン重合で用いるに有用な触媒の製造で用いることに関する。本発明で用いる触媒は、好適には、二種のいずれかのメタロセンを前触媒として含有しかつ共触媒を含有する。少なくとも２種以上のメタロセンいずれかの混合物を用いることも可能であり、特にかなり広い分子量分布が望まれる時に使用可能である。 （もっと読む）

本発明の主題は、一般式（ＩＩＩ）：（Ｗ₄ＮＯＳｉＯ_3/2）_zのシリケート１００Ｍｏｌを、一般式（ＩＶ）：Ｒ¹₂ＹＳｉ−Ｏ−ＳｉＲ¹₂Ｙのジシロキサン化合物 最高で１．３×５０×ｚＭｏｌと反応させることによる、一般式（Ｉ）：［ＲＳｉＯ_3/2］_zのオルガノオリゴシルセスキオキサンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】水系製品中での分散安定性及び化学的安定性の両方に優れるケイ酸エステルの提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるケイ酸エステル。


〔式中、ｍは０〜３の数であり、Ｙは、水酸基、−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｒ¹基、−Ｏ−Ｒ²基又は−Ｏ−Ｒ³基を示す。ＡはＣ２〜３のアルキレン基、ｎは１〜５０の数、Ｒ¹はＣ１〜２４の直鎖又は分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基、Ｒ²はＣ６〜２４の機能性アルコールから水酸基を１つ除いた残基、Ｒ³はＣ１〜３の炭化水素基を示す。一分子あたりの−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｒ¹基、−Ｏ−Ｒ²基、−Ｏ−Ｒ³基及び水酸基の平均置換モル数ｐ、ｑ、ｒ、ｓについて、ｐ、ｑはそれぞれ（ｍ×０．０５＋０．１）〜（ｍ×１．９５＋３．９）の範囲にある数であり、ｒ、ｓはそれぞれ０〜（ｍ×１．９＋３．８）の範囲にある数であり、ｐ、ｑ、ｒ及びｓの和は（ｍ×２＋４）である。〕 （もっと読む）

【課題】高分子変性剤として有用なアミノ基を有するビニルシラン化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


［式中、Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異なる炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、Ａは下記一般式（２）


（式中、Ｒ³、Ｒ⁴は同一又は異なる炭素数１〜１０の１価の炭化水素基又は炭素数３〜４０のトリオルガノシリル基である。）、又は下記一般式（３）


（式中、Ｅは−ＣＨ₂−、−Ｏ−又は−ＮＲ⁵−であり、Ｒ⁵は炭素数１〜１０の１価の炭化水素基又は炭素数３〜４０のトリオルガノシリル基である。）で示される基であり、ｎは１〜１０の整数である。］で示されるアミノ基を有するビニルシラン化合物。 （もっと読む）

【課題】有機金属化合物の提供。
【解決手段】ＩＶ族金属含有フィルムの蒸着前駆体として使用するために有用な有機金属化合物が提供される。ある種の有機金属前駆体を用いてＩＶ族金属含有フィルムを堆積させる方法も提供される。前記のＩＶ族金属含有フィルムは電子デバイスの製造において特に有用である。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性に優れ、誘電率、硬度等の諸特性に優れ、誘電率の経時変化が小さく、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した多孔質膜、およびその多孔質膜を製造する組成物を提供する。
【解決手段】多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物（Ｘ）を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】アミド、ウレタン、尿素結合といった構造を有し、樹脂との相溶性に優れ、含有クロル分の少ない光重合性官能基を含有する有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光重合性二重結合を有する有機官能基と加水分解性基が結合したケイ素原子が尿素結合を含む２価の有機基で連結されていることを特徴とする有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

本発明は、８〜１３のｐＫａを有する不足量の核酸結合性のＡ基を備えているか、またはＡ基と、結合中および好ましくは溶出中、中性電荷を有する結合阻害性のＮ基とを有する、核酸結合相を用いて核酸を精製する方法であって、（ａ）核酸結合性のＡ基のｐＫよりも小さいｐＨ（結合ｐＨ）で、核酸を核酸結合相に結合させる工程；（ｂ）結合ｐＨよりも大きいｐＨ（溶出ｐＨ）で、該核酸を溶出させる工程を含む方法に関する。さらに、核酸の精製に使用され得る対応するキットおよび核酸結合相も開示する。本発明による手法により、低塩濃度の使用による核酸の精製、特に溶出が可能になり、そのため、精製された核酸の処理過程を直接行なうことができる、例えば、ＰＣＲに使用することができる。 （もっと読む）

【課題】有機シリケート（ＯＳＧ）膜内の炭素含有種の少なくとも一部分を除去すること。
【解決手段】本明細書中に記載されているのは、酸化剤等の、しかし酸化剤に限られない薬品を用いてＯＳＧ膜を処理する工程、ＯＳＧ膜紫外線を含むエネルギー源に曝す工程、またはＯＳＧ膜を薬品で処理する工程およびＯＳＧ膜をエネルギー源に曝す工程により、有機シリケート（ＯＳＧ）膜内の炭素含有種の少なくとも一部分を除去するための方法である。 （もっと読む）

【課題】金属化合物配位錯体Ｍ^ｎ＋（Ｌ⁻）_ｎ（ｎ≧１）を効果的に合成する方法を提供する。
【解決手段】金属化合物先駆物質と配位子先駆物質から第１の金属−配位子錯体Ｍ^ｎ＋（Ｌ⁻）_ｎ（ｎ≧１）を合成する方法であって、前記第１の金属−配位子錯体の合成に元素の金属を加えて、原子価がｎよりも大きい金属の第２の金属−配位子錯体の生成を抑制することを特徴とする方法とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の透明性樹脂を得る新規な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）に示される化合物。
【化１】


（上記一般式（１）中、ＭはＳｎ、ＳｂおよびＢｉからなる群から選択される１種の金属原子、Ｔは硫黄原子または酸素原子である。Ｒ¹は単結合または２価の基、Ｒ²は水素原子またはメチル基、Ｒ³は１価または２価の基である。ｐは１以上ｎ以下の整数、ｎはＭの価数である。ｑは０以上ｎ−ｐ以下の整数である。ｖは整数であり、ｖ＝ｎ−ｐ−２ｑである。ｒは１または２である。ｒ＝１のとき、Ｒ³は１価の基である。ｒ＝１かつｖが２以上の場合、複数のＲ³は、各々独立に１価の基である。ｒ＝１かつｖ＝２の場合、２つのＲ³が互いに結合してＭを含む環を形成していてもよい。ｒ＝２のとき、ｑ＝０、ｖ＝１または２、Ｒ³は２価の基である。ｒ＝２かつｖ＝２の場合、２つのＲ³が２つのＭとともに環を形成していてもよい。） （もっと読む）

【課題】低誘電率材料に適した、殊にＰＥＣＶＤ装置に適した新規な有機シロキサン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】１，３，５−トリイソプロピル−１，３，５−トリビニルシクロトリシロキサン、または１，３，５−トリイソプロピル−１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトライソプロピル−１，３，５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタイソプロピル−１，３，５，７，９−ペンタビニルシクロペンタシロキサン等の新規な有機シロキサン化合物。 （もっと読む）

【課題】（２−トリフルオロメチルアクリロキシ）アルキル基含有シラン類の製造のために好適な前駆体となりうる（２−トリフルオロメチル−３−クロロプロピオノキシ）アルキル基含有ケイ素化合物を提供する。
【解決手段】一般式：



（式中、Ｒ^１はそれぞれ独立に同じか異なる炭素原子数１〜２０の置換または非置換の炭化水素基であり、Ｒ^２はそれぞれ独立に同じか異なる炭素原子数１〜２０の加水分解性基またはハロゲン基から選ばれる基であり、Ｒ^３は置換又は非置換の炭素原子数１〜２０のアルキレン基であり、ｎは０から３の整数である）で示される、有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性を向上させた新規なフッ化ビニリデン系化合物およびそれからなる層が基材の表面に形成されてなる積層体を提供する。
【解決手段】式：ＣＦ₃（ＶｄＦ）_n1（ＣＨ₂）_m1−Ｙ−（ＣＨ₂）_m2（ＶｄＦ）_n2ＣＦ₃［ＶｄＦはフッ化ビニリデン単位；ｎ１およびｎ２は同じかまたは異なり、いずれも３〜２９；ｍ１およびｍ２は同じかまたは異なり、いずれも２〜８；Ｙは特定のオルガノシロキサン］で表されるフッ化ビニリデン系化合物。 （もっと読む）

【課題】耐熱安定性に寄与するノルボルナン骨格が加水分解性シリル基と放射線重合性官能基との連結部位に組み込まれている有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（A）ノルボルナン骨格、（B）（A）に直結した加水分解性シリル基、および（C）（A）に直接または炭素原子および／もしくはヘテロ原子を介して結合した放射線重合性官能基、を有する放射線重合性官能基含有有機ケイ素化合物；ならびに（D）ノルボルナン骨格、（E）（D）に直結した加水分解性シリル基、および（F）（D）に直結した、ヘテロ原子を含み又は含まないハロアルキル基、を有するハロアルキル基含有有機ケイ素化合物と、放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩からなる群より選択される少なくとも１種の放射線重合性官能基を有する塩とを50〜150℃において反応させることを含む、前記有機ケイ素化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、又、エポシロン類及び類似体並びにそれらの誘導体の製造において有用な化合物、及び、そのような化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、エポシロン類及び類似体並びにそれらの誘導体を製造するために使用する方法に関するものである。本発明に従う一般的方法は、広義には、第一の化合物と第二の化合物とのアルドール縮合を実施し、それにより式（Ｉ）及び（ＩＩ）並びにそれらの立体異性体から選ばれる第三の化合物を生成すること、及び、第三の化合物のマクロラクトン化を実施することを含む。 （もっと読む）

【課題】 少量の金属触媒と温和な反応条件でα位アルケニル置換含窒素芳香族複素環化合物を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 少なくともα位に水素原子を有する含窒素芳香族複素環化合物とアルキン化合物を、ニッケル触媒とホスフィン系配位子とルイス酸触媒の存在下で反応させ、当該α位をアルケニル化する工程を含んでなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、特にプラズマＣＶＤ装置に適した環状シロキサン化合物を含んでなる低誘電率絶縁膜用材料を提供すること、並びにそれを用いたＳｉ含有膜及びこれらの膜を含んでなる半導体デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒは炭素数１〜４の鎖状又は分岐状アルキル基を表す。ｎは３〜５の整数を表す。）
で示されるビニル基含有環状シロキサン化合物を含有するＳｉ含有膜形成材料を提供する。 （もっと読む）