説明

Fターム[4J031BD24]の内容

Fターム[4J031BD24]に分類される特許

1 - 20 / 28


【課題】電気絶縁性及び熱伝導性が高い均質な樹脂硬化物を与え、且つ成形性に優れた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メソゲン基を含む液晶ユニットと、前記液晶ユニットの両端に結合した柔軟ユニットと、末端の重合性基とを有する化合物を含有する樹脂組成物であって、前記柔軟性ユニットは、以下の式:
【化1】


(式中、nは18以下の整数である)からなる群より選択される一種以上の基を含み、且つ前記液晶ユニットの一端に結合した前記柔軟ユニットと前記液晶ユニットの他端に結合した前記柔軟ユニットとが異なることを特徴とする樹脂組成物とする。 (もっと読む)


【課題】光硬化に好適な、優れた硬化速度と保存安定性を有する光硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アニオン硬化型樹脂(a)、光塩基発生剤(b)、及びpKbが3.8を超える値を持つ第2塩基性物質(c)を含有する、光硬化型樹脂組成物。 (もっと読む)


低誘電率層を基板上に堆積するための方法が提供される。一実施形態では、本方法は、1種または複数のオルガノシリコン化合物をチャンバに導入するステップであって、1種または複数のオルガノシリコン化合物がシリコン原子およびこのシリコン原子に結合されたポロゲン成分を含むステップと、1種または複数のオルガノシリコン化合物を、RF電力の存在下で反応させることにより、低誘電率層をチャンバ内の基板上に堆積させるステップと、低誘電率層からポロゲン成分が実質的に除去されるようにこの低誘電率層を後処理するステップとを含む。任意選択で、不活性キャリアガス、酸化ガス、またはその両方を、1種または複数のオルガノシリコン化合物と共に処理チャンバ内に導入してもよい。後処理プロセスは、堆積した材料の紫外線硬化とすることができる。UV硬化プロセスは、熱または電子ビーム硬化プロセスと同時にまたは連続して使用してもよい。低誘電率層は、良好な機械的性質および望ましい誘電率を有する。
(もっと読む)


【課題】熱的および機械的特性に優れた基板形成用組成物、並びにこれを用いたプリプレグおよび基板を提供する。
【解決手段】主鎖に一つ以上の可溶性構造単位を有し且つ主鎖の末端の一つ以上に熱硬化性基を有する熱硬化性液晶オリゴマー(Liquid Crystal Thermosetting Oligomer)と、熱硬化性液晶オリゴマーの主鎖に反応可能な官能基を有するフッ素化合物とを重合反応させてなる化合物を含む基板形成用組成物である。 (もっと読む)


【課題】PECVD法により機械強度に優れた電気絶縁膜を提供し、それを配してなる半導体電子デバイスを提供する。
【解決手段】スピロ構造を有する環状シロキサン化合物である2,2,4,4,6,6−トリ(ブタン−1,4−ジイル)シクロトリシロキサン、2,2,4,4,6,6,8,8−テトラ(ブタン−1,4−ジイル)シクロテトラシロキサン、2,2,4,4,6,6−トリ(ペンタン−1,5−ジイル)シクロトリシロキサン、または2,2,4,4,6,6−トリ(2−ブテン−1,4−ジイル)シクロトリシロキサンを原料ガスとして用い、PECVD法によって、機械強度に優れた電気絶縁膜、およびそれを配してなる半導体電子デバイスを製造する。 (もっと読む)


【課題】半導体素デバイスなどにおける層間絶縁膜用の材料として使用するのに適し、硬膜時における膜減りが小さく、かつ誘電率に優れた膜を製造することができる化合物、およびその化合物を含む組成物、さらにはその組成物より得られる膜を提供。
【解決手段】化合物は、ジエノフィル構造を有する化合物(A)と、環状もしくは直鎖状のいずれかで表される共役ジエン構造を有する化合物(B)とのディールス・アルダー反応により形成され、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより逆ディールス・アルダー反応を介して前記共役ジエン構造を有する化合物(B)を放出する化合物である。 (もっと読む)


【解決手段】Cp−O−Cq(但し、p、qは炭素数を表わし、2≦p≦6、2≦q≦6であり、各炭素鎖には酸素原子と共役する不飽和結合を含まない)結合を含有する炭素数4〜8の直鎖状又は分岐状の酸素含有炭化水素鎖で結合された2個以上のケイ素原子を含有し、かつ該2個以上のケイ素原子はいずれも1個以上の水素原子又は炭素数1〜4のアルコキシ基を有するプラズマCVD法によるSi含有膜形成用有機シラン化合物。
【効果】従来、疎水性を向上させようとした場合には成膜速度に犠牲を払ってきたが、本発明のプラズマCVD法によるSi含有膜形成用有機シラン化合物によれば、膜の疎水性と誘電率特性を確保した上で、成膜速度の低下を抑制することができる。
また、本発明のプラズマCVD法によるSi含有膜の成膜方法を多層配線絶縁膜の成長方法として利用することにより、配線信号遅延の少ない半導体集積回路を安定して製造することができる。 (もっと読む)


【課題】電気特性や耐屈曲性を向上し得る熱硬化可能な重合体材料の提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表される重合体。


(一般式(1)において、A、A、AおよびAは、それぞれ独立して二価の有機基を表し、X、Xはそれぞれ1〜5個の三重結合を構成単位とする二価の不飽和基を、YおよびZはそれぞれ独立して二価の有機基を表し、k、m、nはそれぞれ独立して1以上の整数を表す) (もっと読む)


本発明は、a)金属又は半金属を有する第一のモノマー単位、及びb)化学結合によって第一のモノマー単位に結合されている第二のモノマー単位を有する少なくとも1つのツインモノマーを重合することによって得られる誘電体を有する、3.5以下の誘電率を有する誘電体層に関し、その際、前記重合は、前記化学結合の切断及び第一のモノマー単位を有する第一のポリマーの形成及び第二のモノマー単位を有する第二のポリマーの形成を伴った前記ツインモノマーの重合を含み、且つ、その際、第一及び第二のモノマー単位は共通の機構によって重合する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の層間絶縁膜などに有用な比誘電率が低く、かつ銅拡散バリア性が高い絶縁膜を得る。
【解決手段】絶縁膜材料として、1−1−ジビニル−1−シラシクロペンタン、1−1−ジアリル−1−シラシクロペンタン、1−1−ジエチニル−1−シラシクロブタン、1−1−ジビニル−1−シラシクロブタンなどを用い、プラズマCVD法によって成膜する。He、Ar、Kr、Xe、水素、炭化水素などの酸素を含まないキャリアガスを成膜時に同伴させてもよい。 (もっと読む)


【課題】プロトン伝導性や寸法安定性、熱水耐性、機械的特性に優れるとともに、安価に製造可能であり、触媒金属の回収することも可能な固体高分子型燃料電池用電極電解質を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される繰返し構成単位を含むスルホン酸基を有するポリアリーレン系共重合体;


を含んでなる高分子型燃料電池用電極電解質。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の層間絶縁膜などに有用な誘電率が低く、かつ機械的強度が高い絶縁膜を得る。
【解決手段】絶縁膜材料として、ジイソプロピルジビニルシラン、ジアリルジビニルシランなどを用い、プラズマCVD法によって成膜する。He、Ar、Kr、Xe、水素、炭素数2〜6の炭化水素などの水素を含まない同伴ガスを成膜時に同伴させてもよい。1−メチル−4−イソピル−1,3−シクロヘキサジエンなどのポロジエンを添加して成膜してもよく、プラズマ発生用高周波電力、成膜用ガスの流量あるいは成膜圧力を変化させて成膜してもよい。 (もっと読む)


分子層堆積法を用いて有機ポリマー又は有機−無機複合ポリマーの超薄層を基板上に堆積する。この方法は、第1の官能基を有する気相反応物を用いる。この気相反応物は表面に単官能性でのみ反応して、ポリマー鎖に一つの単位を追加する。更に、追加の気相反応物は第1の官能基とは異なる第2の官能基を有するか、又はブロックされ、マスクされ若しくは保護された官能基、又はこのような官能基の前駆体を有する。
(もっと読む)


【課題】本発明は、体積膨張係数が低減されており且つ無機フィラーの凝集が抑制され強度が維持されている液晶ポリマー組成物の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る液晶ポリマー組成物の製造方法は、無機フィラーの表面に、液晶ポリマー分子を構成するモノマーとの結合能を有する官能基を導入する工程;および官能基が導入された無機フィラーと、液晶ポリマー分子を構成するモノマーを混合し、得られた混合物を重合反応に付す工程;を含むことを特徴とする液晶ポリマー組成物の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、炭素、ケイ素、酸素および水素からなるプラズマポリマー生成物を有し、あるいはそれからなる物品に関するものであり、プラズマポリマー生成物のESCAスペクトル内で、脂肪族部分のC1sピークを285.00eVに較正する場合に、25℃において350mm/sの動粘性と25℃において0.97g/mLの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド−ポリジメチルシロキサン(PDMS)と比較して、Si2pピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で0.44eVだけシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつO1sピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で0.50eVだけシフトされた、結合エネルギー値を有する。 (もっと読む)


本発明は、珪素、炭素、酸素及び水素原子を有する少なくとも1つの膜母材前駆体と、少なくとも1つの、Rが、直鎖或いは分岐、飽和或いは不飽和炭化水素基若しくは環状飽和或いは不飽和炭化水素基の何れかである式(I)の孔形成化合物か、または、少なくとも1つの次の孔形成化合物の何れかを反応させることを含む、基板への低誘電率kの多孔膜を形成する方法であって、少なくとも1つの次の孔形成化合物は、1-メチル-4-(1-メチルエチル)-7-オキサビシクロ[2,2,1]ヘプタン、1,3,3-トリメチル-2-オキサビシクロ[2,2,1]オクタンあるいは1,8-シネオール若しくは1-メチル-4-(1-メチルエテニル)-7-オキサビシクロ[4,1,0]ヘプタンである方法、新規な前駆体混合物及び式(I)の化合物の基板上への低誘電k膜の化学気相堆積での孔形成化合物としての使用に関する。
【化1】

(もっと読む)


【課題】剛直鎖高分子の特徴である高い弾性率、低い線膨張率、高い耐熱性などは残しつつ、異方性がない高分子を提供すること。
【解決手段】−OH、−COOH、−OCOCH3を3〜6個有するベンゼン、ナフタレン及びトリフェニレンの置換化合物群から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、(1)芳香族ジヒドロキシ化合物、(2)芳香族ジカルボン酸、(3)芳香族ヒドロキシカルボン酸並びに(4)芳香族ジアミン、芳香族ヒドロキシジアミンおよび芳香族アミノカルボン酸から選ばれる少なくとも1種のモノマーとを重合してなる重合体であって、且つ前記ベンゼン、ナフタレン及びトリフェニレンの置換化合物群から選ばれるモノマー由来の構成単位を分岐の起点とする分岐状高分子化合物。 (もっと読む)


【課題】 脂環式オレフィンのメタセシス開環重合体を含有してなる感放射線性樹脂組成物を安全に且つ簡便に短時間で製造する方法、この方法によって得られる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 溶媒中で開環メタセシス重合触媒と連鎖移動剤との存在下に脂環式オレフィンを重合して得た脂環式オレフィン開環メタセシス重合体含有重合反応溶液に、感放射線化合物を配合することを特徴とする感放射線性樹脂組成物の調製方法。上記脂環式オレフィン開環メタセシス重合体含有重合反応溶液を水素添加反応に供して該重合反応溶液に含まれる重合体を水素添加して得た脂環式オレフィン開環メタセシス重合体水素添加重合体含有反応溶液に感放射線化合物を配合する感放射線性樹脂組成物の調製方法。この感放射線性樹脂組成物の調製方法により得られた感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 膜形成用組成物、特に、電子デバイスなどに用いられる低誘電率でかつ比誘電率の経時変化の少ない絶縁膜を形成することができる膜形成用組成物、およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含む膜形成用組成物であって、組成物中の各金属の含量がそれぞれ300ppb以下であることを特徴とする膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜および電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】 塗布性に優れ、層間絶縁膜用途として必要な厚みを有する薄膜を容易に形成しうる絶縁膜形成材料、並びに該材料から形成されるポリマー及び絶縁膜を提供する。
【解決手段】 本発明の絶縁膜形成材料は、それぞれの化合物の分子内に2以上の官能基又は官能基群を有しており、一方の化合物の官能基又は官能基群と他方の化合物の官能基又は官能基群との結合により重合して空孔構造を有するポリマーを形成することが可能な2つの化合物A及びBを溶媒に溶解して得られる重合性組成物からなる絶縁膜形成材料であって、前記化合物Aが、4官能化合物と3官能化合物及び/又は2官能化合物との組み合わせであって、[4官能化合物]/[3官能化合物及び/又は2官能化合物](モル比)が、5/95〜95/5であることを特徴とする。 (もっと読む)


1 - 20 / 28