説明

Fターム[4J034DF12]の内容

Fターム[4J034DF12]に分類される特許

81 - 100 / 633


【課題】 耐熱性に優れ、且つ耐薬品性に優れるシール材を提供することができる中空糸膜モジュールのシール材用ポリウレタン樹脂形成性組成物を提供する。
【解決手段】 イソシアネート成分(I)を含有する主剤と、活性水素成分(H)を含有する硬化剤とからなる2液硬化型ポリウレタン樹脂形成性組成物であって、前記(H)を構成する化合物としてソルビトールとヒマシ油脂肪酸及び/又はヒマシ油とを反応させて得られるエステルポリオール(A)を含有し、及び/又は、前記(I)と前記(H)の少なくとも一方が前記(A)を用いて製造される化合物を含有することを特徴とする中空糸膜モジュールのシール材用ポリウレタン樹脂形成性組成物。 (もっと読む)


【課題】プラグ−イン−プレース窓に伴う漏出の問題、及び一体型窓に伴う研磨の欠陥問題を軽減する化学機械研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨面と一体型窓とを有する研磨層を含む化学機械研磨パッドであって;一体型窓が研磨層に一体化されており;一体型窓が硬化剤とイソシアナート末端プレポリマーポリオールとのポリウレタン反応生成物であり;イソシアナート末端プレポリマーポリオール中に含まれる未反応NCO部分と反応して一体型窓を形成する硬化性アミン部分を硬化剤が含み;硬化剤およびイソシアナート末端プレポリマーポリオールが、アミン部分:未反応NCO部分の化学量論量比1:1〜1:1.25で提供され;一体型窓が0.1容積%未満の空隙率を有しており;一体型窓が5〜25%の圧縮永久歪みを示す。 (もっと読む)


【課題】ポリウレタン発泡体の特性を大きく損なうことなく、吸水性を付与した吸水性ポリウレタン発泡体を提供する。
【解決手段】連続気泡構造を有するポリウレタン発泡体の骨格表面に、物理ゲルを主成分とするヒドロゲル層を形成し、該ヒドロゲル層上に吸水性ポリマー層を形成する。 (もっと読む)


【課題】平均水酸基価が非常に大きい活性水素含有化合物を使用した場合であっても、品質のよい研磨パッドを生産効率よく製造する方法。
【解決手段】気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、離型シート、基材層、又はクッション層上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させて熱硬化性ポリウレタン発泡体シートを形成する工程、及び発泡体シートの厚さを均一に調整する工程を含む研磨パッドの製造方法において、前記活性水素含有化合物は、平均水酸基価が350〜550mgKOH/gであり、前記気泡分散ウレタン組成物は、融解点が70〜90℃かつ水酸基又はウレタン基を有する蓄熱剤を活性水素含有化合物100重量部に対して20〜50重量部、及び活性化温度が前記蓄熱剤の融解点よりも高い感温性触媒を活性水素含有化合物100重量部に対して0.01〜0.5重量部含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微細で均一な気泡を有し、研磨速度が大きい研磨パッドを生産効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、モールド内に気泡分散ウレタン組成物を注入する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより発泡体ブロックを作製する工程、及び発泡体ブロックを切断して熱硬化性ポリウレタン発泡体シートを作製する工程を含む研磨パッドの製造方法において、前記活性水素含有化合物は、平均水酸基価が260〜400mgKOH/gであり、前記気泡分散ウレタン組成物は、融解点が70〜90℃かつ水酸基又はウレタン基を有する蓄熱剤を活性水素含有化合物100重量部に対して20〜50重量部、及び活性化温度が前記蓄熱剤の融解点よりも高い感温性触媒を活性水素含有化合物100重量部に対して0.01〜0.5重量部含有することを特徴とする研磨パッドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】微細で均一な気泡を有し、研磨速度が大きい研磨パッドの製造方法、及び該製造方法により得られる研磨パッドを提供する。
【解決手段】イソシアネート化合物、活性水素含有化合物、及びシリコン系界面活性剤を含有する気泡分散ウレタン組成物を機械発泡法により調製する工程、モールド内に気泡分散ウレタン組成物を注入する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより熱硬化性ポリウレタン発泡体ブロックを作製する工程、及び熱硬化性ポリウレタン発泡体ブロックを切断して熱硬化性ポリウレタン発泡体シートを作製する工程を含む研磨パッドの製造方法において、前記活性水素含有化合物は、平均水酸基価が260〜400mgKOH/gであり、前記気泡分散ウレタン組成物は、融解点が70〜110℃かつ水酸基又はウレタン基を有する蓄熱剤を活性水素含有化合物100重量部に対して10〜40重量部含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
良好な難燃性を示す難燃性ウレタン樹脂を提供する。
【解決手段】
ウレタン樹脂の主鎖中に鎖伸長剤として用いられるテトラメチレングリコール(PTG)または3,3−ジメチロールヘプタン(DMH)を用いて、リン含有のジカルボン酸である2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸(化合物X)をエステル化し、これをリン含有鎖伸長剤として、ポリオールとイソシアネートと該リン含有鎖伸長剤とを用いてウレタン樹脂を構成する。 (もっと読む)


【課題】極めて良好な機械表面抵抗を有し、同時に優れた技術加工性、特に加工温度に関して広い加工手段を有し、並びに加工中に表面障害、特に層間剥離を有さない熱可塑性ポリウレタン(TPU)を提供する。
【解決手段】有機ジイソシアネート、鎖伸張剤として低分子量ポリオール、450〜10000g/molの平均分子量Mnおよびツェレビチノフ活性水素原子平均少なくとも1.8乃至多くとも3.0を有する少なくとも1つのポリオール、二酸化ケイ素、ポリオルガノシロキサンを含む組成物でのTPUにより達成することができた。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、成形品の外観や触感を損なうことがなく、外観の経日安定性に優れた成形体を得ることのできる樹脂粉末組成物を提供することである。
【解決手段】活性水素基を含有する化合物(a)と1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートを含有するジイソシアネート(e)とが反応してなり、(a)の活性水素基のモル数をX、(e)のイソシアネート基のモル数をYとした時、下記式(1)を満足するイソシアネート基末端プレポリマー(UP)であって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定によって得られる該(UP)のメタノールブロック化物の全ピーク面積に対する1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートのメタノールブロック化物相当のピーク面積の割合が0〜1.5%である(UP)を、水及び/又は低分子ジアミンと反応させて得られることを特徴とするポリウレタンウレア樹脂(A0)の製造方法。
1.0<Y/X≦1.5 (1) (もっと読む)


【課題】 紫外線照射工程を必要とせず、基材の形状に追随し、基材の部位による塗膜の物性の差が少ない加飾フィルムを提供する。
【解決手段】 ウレタン樹脂(U)と架橋剤(L)を含有する加飾フィルム用ウレタン樹脂水性分散体であって、前記ウレタン樹脂(U)は、下記(1)〜(5)を満たすことが好ましい。
(1)(U)中の末端アミノ基含量が(U)の重量に基づいて0〜0.35mmol/gである。
(2)(U)の数平均分子量(Mn)が1万〜100万である。
(3)(U)の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比が1.5〜3.5である。
(4)(U)の体積平均粒子径(Dv)が0.01〜1μmである。
(5)(U)の破断伸びが200%以上である。 (もっと読む)


【課題】高反発弾性、高耐ノッチ亀裂性のフレキソ印刷版を製造可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)エチレン性不飽和基を有するポリウレタンプレポリマー:100質量部と、(b)エチレン性不飽和化合物:10〜150質量部と、(c)光重合開始剤:0.01〜10質量部と、を含み、前記(b)エチレン性不飽和化合物として、下記一般式(1)で表される化合物を、前記(a)エチレン性不飽和基を有するポリウレタンプレポリマー100質量部に対して5〜100質量部含む、フレキソ印刷版用液状感光性樹脂組成物。
CH2=CH−CO−O−(C36O)n−H ・・・(1)
(一般式(1)中、nは1〜20の範囲の整数を示す。) (もっと読む)


【課題】研磨面での開孔の閉塞を抑制し被研磨物の平坦性向上を図ることができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド10は、湿式凝固法により、ウレア結合によるハードセグメントの含有率HSCが7〜35%のポリウレタンポリウレア樹脂で形成された樹脂シート2を備えている。樹脂シート2では、研磨面Spを有しており、微多孔3が網目状に連通した多孔構造を有している。研磨面Spには、微多孔3が開孔した開孔4が形成されている。樹脂シート2では、温度20℃の水に1時間浸漬したときの吸水率が20%以上に調整されている。樹脂シート2の硬度が高まり、研磨屑等が開孔4から微多孔3を通じて樹脂シート2の内部に分散する。 (もっと読む)


【課題】 近年、精密研磨分野では、研磨精度の他にパッドの耐久性や研磨速度の高速化が要求されることから、より硬度が高く、耐久性の高いポリウレタン研磨パッドを提供することを目的とする。
【解決手段】 TDI系イソシアネート基末端プレポリマーから、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートを主たる成分として用いたイソシアネート基末端プレポリマーに変更することにより、従来よりも硬度が高く、硬質なポリウレタン研磨が得られ、研磨精度が高く、耐久性と研磨速度の両立を可能なポリウレタン研磨パッドとすることにより、解決する。 (もっと読む)


【課題】基材及びトップコートとの密着性に優れるとともに、高い強度を有する塗膜を形成しうる水性ポリウレタン樹脂分散体を提供する。
【解決手段】イソホロンジイソシアネートを含むポリイソシアネート化合物(a)とポリカーボネートポリオール(b1)及び酸性基含有ポリオール(b2)を含むポリオール化合物(b)とを反応させて得られたポリウレタンプレポリマー(A)に、二塩基酸ジヒドラジドを含む鎖延長剤(B)を反応させて得られるポリウレタン樹脂が、水系媒体中に分散されてなる、水性ポリウレタン樹脂分散体、並びにこの水性ポリウレタン樹脂分散体を含有する、塗料組成物、この水性ポリウレタン樹脂分散体又はこの塗料組成物を基材に塗布し、硬化させて塗膜を形成したコーティング基材、及び塗膜の上に、さらにトップコート層を備えた、コーティング基材である。 (もっと読む)


【課題】ドレス速度の低下を防止し、かつ研磨対象物の表面に発生する微小うねりを低減することができる研磨パッドおよびその製造方法、ならびに半導体デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】熱硬化性ポリウレタン発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドにおいて、熱硬化性ポリウレタン発泡体として、活性水素含有化合物の合計活性水素基数に対するイソシアネート成分のイソシアネート基数(NCO INDEX)を1.3〜4.0に設定した状態で、イソシアヌレート化触媒の存在下にて活性水素含有化合物とイソシアネート成分とを反応させることにより得られた、イソシアヌレート結合を含有する熱硬化性ポリウレタン発泡体を使用する。 (もっと読む)


【課題】耐候性、耐加水分解性及び追随性に優れた表面保護層を提供し得る電子線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いてなる積層体を提供すること。
【解決手段】ポリオール化合物、脂環族ジイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレート化合物から合成されるウレタン(メタ)アクリレート化合物を含有する電子線硬化性樹脂組成物であって、該ポリオール化合物が、(ポリ)カプロラクトンジオール、ポリエーテルポリオール及びポリカーボーネートポリオールから選択される一種以上であり、かつ、該脂環族ジイソシアネートが、イソホロンジイソシアネート及び/又は水素添加キシリレンジイソシアネートである電子線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いてなる積層体である。 (もっと読む)


【課題】金属触媒を使用せず、かつ残存モノマー等の除去工程を必要とせずに、開環重合性モノマーから、1段階の工程で、残存モノマーの少ない任意の分子量のポリマーを高収率で製造できる方法の提供。
【解決手段】(1)圧縮性流体中で、金属原子を含まない有機触媒を用いて、開環重合性モノマーを重合させるポリマーの製造方法。
(2)前記開環重合性モノマーのポリマー転化率が95重量%以上である(1)に記載のポリマーの製造方法。
(3)前記圧縮性流体が二酸化炭素からなる(1)又は(2)に記載のポリマーの製造方法。
(4)前記有機触媒が、塩基性を有する求核性の窒素化合物である(1)〜(3)のいずれかに記載のポリマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】環境負荷が小さく再生可能な天然資源であるセルロースを含有し、高強度であるポリウレタン樹脂を提供する。
【解決手段】結晶化度が65%以上である結晶性セルロース(b)及び活性水素化合物(a)を含有してなることを特徴とするポリウレタン樹脂製造用活性水素成分(A)とポリイソシアネート成分(C)とを反応させてなるポリウレタン樹脂(I)。好ましくは結晶性セルロース(b)が活性水素化合物(a)中に分散してなり、(b)の平均繊維長が5〜1000μmであり、好ましくは(a)がポリオキシアルキレンポリオールであり、該活性水素成分(A)とポリイソシアネート成分(C)とを反応させてなるポリウレタン樹脂(I)で構成されてなるポリウレタン樹脂成形品。 (もっと読む)


【課題】研磨対象物の表面に発生する微小うねりを低減することができる研磨パッドおよびその製造方法、ならびに半導体デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】熱硬化性ポリウレタン発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドにおいて、イソシアネート成分と活性水素含有化合物とを原料成分として含有する熱硬化性ポリウレタン発泡体を使用し、活性水素含有化合物として、官能基数が2以上であるポリオール化合物と、官能基数が1であるモノオール化合物と、を含有するものを使用する。 (もっと読む)


【課題】 相分離構造を有する研磨層を有しており、研磨速度が大きく、平坦化特性に優れ、スクラッチの発生を抑制できる研磨パッドを提供することを目的とする。また、該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 研磨層を有する研磨パッドにおいて、前記研磨層は、イソシアネート成分及びポリエステル系ポリオールを含むプレポリマー原料組成物(a)を反応して得られるイソシアネート末端プレポリマー(A)、イソシアネート成分及びポリエーテル系ポリオールを含むプレポリマー原料組成物(b)を反応して得られるイソシアネート末端プレポリマー(B)、及び鎖延長剤を含むポリウレタン原料組成物の反応硬化体により形成されており、前記反応硬化体は相分離構造を有することを特徴とする研磨パッド。 (もっと読む)


81 - 100 / 633