【課題】ブリ−ディング、ブル−ミング、及び移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、物性の低下を招かず、かつ優れた制電性が持続する制電性組成物を提供することを主要な目的とする。
【解決手段】本発明の制電性組成物は、重合性化合物、樹脂又はエラストマ−を含む組成物中に、フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が分散されてなる制電性組成物に係る。上記フルオロ基及びスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩は、揮発性有機溶媒に溶解された状態で分散されていることを特徴とする。本発明によれば、ブリ−ディング、ブル−ミング、及び移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、かつ優れた制電性が持続する制電性組成物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】鉄、銅等の金属、またはこれらにメッキしたメッキ鋼板、特に亜鉛メッキ鋼板に対する付着性に優れ、かつ、ポリアミド（ナイロン）樹脂を上塗り被膜とする場合の上塗り被膜との付着性にも優れ、特に、ガソホール性に優れたプライマー塗膜を形成できるプライマー組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）ポリイミド樹脂および／またはポリエステルイミド樹脂、（Ｂ）ナイロン樹脂ビーズ、（Ｃ）エポキシ樹脂及び（Ｄ）硬化剤を含有し、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の樹脂固形分の総質量に対して、（Ａ）成分の含有比率が１０〜３０質量％、（Ｂ）成分の含有比率が７９〜２０質量％、（Ｃ）成分の含有比率が１０〜３０質量％、（Ｄ）成分の含有比率が１〜２０質量％であることを特徴とするプライマー組成物。 （もっと読む）

【課題】高い帯電防止能のみならず、透明性・樹脂や溶剤への溶解性（相溶性）・耐熱性を併せ持ち、金属や金属イオンを含まない帯電防止剤を提供する。
【解決手段】帯電防止剤は、例えばテトラエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、オクチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルボレート、ベンジルトリブチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのような低分子第４級アンモニウムのボロン塩である。 （もっと読む）

【課題】この発明は、基材に塗布後１２０℃程度以下の低温で加熱処理することによって硬化絶縁膜を得ることが可能であり且つその硬化膜は基材や封止材料との密着性が良好な、低温硬化性及び密着性が改良された絶縁膜用の溶液組成物であり、電気電子部品などの硬化絶縁膜を形成するための印刷インキ又は塗布用ワニスとして好適な溶液組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）有機溶剤可溶性のポリイミドシロキサン１００重量部、（ｂ）多価イソシアネート２〜４０重量部、（ｃ）エポキシ化合物０．１〜３０重量部、及び、（ｄ）有機溶剤を含有し、低温硬化性及び密着性が改良されたことを特徴とするポリイミドシロキサン絶縁膜用組成物、前記絶縁膜用組成物を加熱処理することによって形成される硬化絶縁膜、及び、硬化絶縁膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 強靭性及び耐熱性に優れるに優れる成形物が得られる樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）および／または下記一般式（２）で表される構造を有するポリイミド樹脂（Ｂ）と、アルキルアルコキシシランの縮合物および／またはアルキルアルコキシシラン（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【化１】


【化２】


（式中、Ｘは１分子中に２個以上のフェノール性水酸基を有するフェノール系化合物から２個のフェノール性水酸基を除いた残基を示す。） （もっと読む）

【課題】各種基材への密着性に優れ、塗膜の耐水性、耐汚染性、耐候性、耐傷性、耐磨耗性、初期親水性、割れ防止性に優れた水性塗料組成物を提供すること。
【解決手段】親水性基を含む構造単位と、分子中の主鎖末端または側鎖に下記一般式（ａ）で表される加水分解性シリル基を少なくとも１個有する親水性ポリマーを含有する水性塗料組成物であって、該親水性基を含む構造単位が該親水性ポリマー全体の３０ｍｏｌ％以上含まれることを特徴とする水性塗料組成物。
一般式（ａ）：
−Ｓｉ（Ｒ^１０２）_a−（ＯＲ^１０１）_3-a
（一般式（ａ）中、Ｒ^１０１は水素原子またはアルキル基、Ｒ^１０２は水素原子またはアルキル基、アリール基およびアラルキル基から選ばれた１価の炭化水素基、ａは０〜２の整数を示す。Ｒ^１０１またはＲ^１０２は複数存在する場合は、各々同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】キュア時の膜収縮を抑え、空気中における耐酸化性に優れたキュア膜を得ることができ、かつ室温保存安定性に優れたポリイミドワニスを提供する。
【解決手段】（ａ）フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基またはカルボキシル基を有するポリイミドと、（ｂ）メチロール基および／またはアルコキシメチル基を少なくとも１つ有する反応性希釈剤を含有し、前記（ｂ）メチロール基および／またはアルコキシメチル基を少なくとも１つ有する反応性希釈剤の含有量が、ポリマーを溶媒和する液体成分中７０質量％以上であることを特徴とするポリイミドワニス。 （もっと読む）

【課題】成形性に優れたポリスチレン系シート、或いはアモルファスポリエチレンテレフタレートシートからなる成形用基材シートの少なくとも片面に導電性塗膜層を形成するための塗工液、並びに成形用帯電防止性シートを提供する。
【解決手段】塗工液は、導電性高分子微粒子と、アニオン系界面活性剤と、樹脂バインダとが有機溶媒中に分散されているものであり、前記有機溶媒は、少なくとも組成成分中にＣが４乃至１２個、Ｏが２個を含有する有機溶媒であり、前記導電性高分子微粒子：前記樹脂バインダが固形分比で、２乃至１５：８５乃至９８の割合で配合される。 （もっと読む）

【課題】溶媒可溶性でかつ低熱膨張率である耐熱性ポリイミド樹脂を含む電着用ポリイミド樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（Ｘは、四価の有機基、Ｒ₁は二価、三価又は四価のジアミンであって、Ｒ₁の三価又は四価のジアミン又はトリアミンは、ジアミン又はトリアミンの総モル数の３〜１００％が骨格中にスルホン酸基及び／又はスルフィン酸基を含み、ｎは３〜８００の整数を示す。）で表される溶媒可溶性ポリイミドと、水、及び塩基性化合物を含むことを特徴とする電着用ポリイミド樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】耐水性に優れ、且つ、優れた赤外線遮蔽特性を有する赤外線遮蔽微粒子を提供する。
【解決手段】一般式ＷｙＯｚまたは／および一般式ＭｘＷｙＯｚで表記される複合タングステン酸化物、の微粒子であって、当該微粒子の平均一次粒径が、１ｎｍ以上、８００ｎｍ以下であり、当該微粒子表面が、シラン化合物または／および有機金属化合物で被覆されている赤外線遮蔽微粒子である。 （もっと読む）

【課題】印刷性、作業性及び形状保持性に優れ、配線板の被膜形成材料に用いることにより、配線間への印刷樹脂ペーストの流れ出しによる不具合を低減することができる樹脂組成物及びそれを含む被膜形成材料を提供する。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、（Ａ）成分：ポリカーボネート骨格を含む樹脂と、（Ｂ）成分：フィラーと、（Ｃ）成分：溶剤とを含み、前記（Ｃ）成分が（Ｃ１）大気圧下での沸点が１５０〜２００℃未満の成分と、（Ｃ２）大気圧下での沸点が２００〜２５０℃の成分を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チタン酸窒化物（酸窒化チタンとも云う）粉末を主体とし、高抵抗であって黒色度が高い黒色粉末とその分散液、塗料、および高抵抗黒色膜を提供する。
【解決手段】一般式ＴｉＯｘＮｙ（ｘ＝０.０５〜０.５０、ｙ＝０.６〜１.０）で表されるチタン酸窒化物からなる黒色粉末と、Ｙ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅の何れか１種または２種以上からなる絶縁粉末とを含有することを特徴とする高抵抗黒色粉末であって、好ましくは、上記一般式において、１.０≦ｘ＋ｙ≦１.３、２ｘ＜ｙであり、絶縁粉末の含有量が０.００５〜１０質量％であって、膜厚１μｍにおいて、膜表面抵抗値１０¹³Ω/□以上、および光学濃度(ＯＤ値)４.５以上の高抵抗黒色膜を形成する黒色粉末およびその高抵抗黒色膜。 （もっと読む）

【課題】 高い光線透過性の低屈折率被膜が得られるコーティング組成物及び低屈折率被膜を有する光学部材を提供することを目的とする。
【解決手段】 フッ化ナトリウムマグネシウム（ＮａＦ・ＭｇＦ₂）濃度を５質量％に調製したゾルの光路長１０ｍｍにおける波長５００ｎｍの光線透過率が８０％以上であるフッ化ナトリウムマグネシウムゾルとバインダーとを用いたコーティング組成物を作製し、このコーティング組成物を光学基材に塗工して、低屈折率被膜を有する光学部材を得る。 （もっと読む）

【課題】 作業性がよく、かつ、長期間にわたって高い接着性を有し、強度、耐熱性、耐光性、光学的透明性を有する硬化物を与えうる硬化剤、さらに、この硬化剤を用いた硬化性組成物、およびそれを硬化させてなる硬化物を提供すること。
【解決手段】 （α1）１分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有するケイ素化合物と（α２）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有し、かつ、少なくとも１個の極性基を含有する複素環骨格をもつ有機化合物との反応物であって、２３℃における粘度が１０００Ｐａ・ｓ以下である、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する硬化剤、その硬化剤を含有した硬化性組成物、およびその硬化物。 （もっと読む）

【課題】遮光性が高く、絶縁性や分散安定性に優れた遮光性組成物及びこれを用いて形成されるカラーフィルターを提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるベンズイミダゾロンジオキサジン顔料を必須成分とする着色材を固形分中４０重量％以上含有する遮光性組成物において、その硬化膜の光学濃度が膜厚１μｍにおいて２．０以上である。


（但し、Ｒ¹、及びＲ²はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよい１価の炭化水素基を示し、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示す） （もっと読む）

【課題】モールドの形状を高精度に転写することができ、且つ、基体との密着性、モールドの剥離性が良好なナノインプリント用の膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び製造された構造体を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ−１）で表される構成単位を有するシルセスキオキサン樹脂（Ａ）を含有する膜形成組成物をナノインプリント用に用いる。


［式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。］ （もっと読む）

【課題】４００ｎｍ以上の波長領域に、光反応活性を有する新規な光塩基発生剤を提供する。また、高感度で、高分子前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１Ａ）〜（１Ｃ）で表わされる光塩基発生剤、及び当該光塩基発生剤と高分子前駆体を含有する、感光性樹脂組成物である。


（式中、Ｒ^ａとＲ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、シリル基、シラノール基、もしくは１価の有機基を示す。Ｒ^ｃは、それぞれ独立に、水素原子、もしくは１価の有機基を示す。但し、Ｒ^ｃの少なくとも１つは、１価の有機基である。） （もっと読む）

本発明は、コーティングを有するガラスフレークを基材として含む効果顔料に関し、前記コーティングは、少なくとも１層の少なくとも１種の高屈折率物質（前記物質は少なくとも１．８の屈折率を有する）、および／または少なくとも１層の少なくとも１種の半透明の金属質物質を含み、ここで、前記ガラスフレークが、前記ガラスフレークの重量を基準にして、以下の組成を有する：
６５〜７５重量％の酸化ケイ素、好ましくはＳｉＯ_２
２〜９重量％の酸化アルミニウム、好ましくはＡｌ_２Ｏ_３
０．０〜５重量％の酸化カルシウム、好ましくはＣａＯ
５〜１２重量％の酸化ナトリウム、好ましくはＮａ_２Ｏ
８〜１５重量％の酸化ホウ素、好ましくはＢ_２Ｏ_３
０．１〜５重量％の酸化チタン、好ましくはＴｉＯ_２
０．０〜５重量％の酸化ジルコニウム、好ましくはＺｒＯ_２。
本発明は、さらに、その効果顔料を製造するための方法、さらには前記効果顔料の使用にも関する。
本発明は、さらに、その効果顔料をベースとするコーティング配合物にも関する。
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【課題】安定な溶液状態を確保できる上に、導電性が高く、さらに、可視光又は紫外光に長時間当たっても表面抵抗が上昇しにくい導電性塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と可溶化高分子と溶媒とを含有し、さらに、特定の化学式で表される２種類以上の化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】誘電率、機械強度等の特性が良好であるとともに、面状が良好な膜を形成することができる膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて形成された膜、及び、該膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（I）で表される化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて形成された膜、並びに、前記膜を有する電子デバイス。なお、式（I）中、Ｘはアダマンタン構造、ジアマンタン構造、ビアダマンタン構造、及び、トリアマンタン構造よりなる群から選択された構造であり、Ｘがアダマンタン構造の場合、ｎは３又は４であり、Ｘがアダマンタン構造以外の場合、ｎは３〜６の整数である。
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