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Fターム[4J038PA19]の内容

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本発明は、エポキシ官能性バインダーおよび該バインダーのエポキシ基と反応性の架橋剤を含んでいる高光沢耐洗車性コーティング組成物、並びにこのような耐洗車性コーティングを調製する方法に関する。本発明はさらに、当該コーティング組成物を、顔料を含んでいないトップコートまたはクリアコートとして、物品、たとえばオートバイ、自動車、列車、バス、トラック、および飛行機の上塗りおよび再上塗りに使用する方法に関する。硬化後のコーティング組成物は、初期光沢少なくとも81GUおよび光沢損失(LoG)0.25未満を有するコーティングを生成し、光沢損失は式(I):LoG=(1−e(A/X))/(1−e)+(1−eD*ΔTg)によって決定され、ここでK=B*(Tg開始点−C)である。式(I)において、A=−8.03、B=−0.21、C=328およびD=−0.00304である。Xは架橋密度パラメータをkPa/Kで、Tg開始点はTg転移の開始温度をKで、およびΔTgはガラス転移温度の幅をKで夫々表し、全3パラメータは、11Hzおよび加熱速度5℃/分におけるDMA試験で測定される。 (もっと読む)


【課題】スタックド構造のMCP製造時における作業性の欠点である接着剤の塗布などの工程を改善し接着剤を使用することなく半導体チップを積層することができ、かつ各種の信頼性に優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体素子表面保護膜用樹脂組成物であって、酸性基を有する環状オレフィン系樹脂(A)と、光酸発生剤(B)と、130℃以上の温度で(A)の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物(C)、を含む感光性樹脂組成物の硬化物よりなる樹脂層3を半導体チップ2の回路素子形成面上に有し、かつ該半導体チップ上に積層する別の半導体チップ7の裏面が該樹脂層3に直接接触していることを特徴とするスタックド構造のMCP(マルチチップパッケージ)の樹脂封止型半導体装置。 (もっと読む)


【課題】 ゾルゲル法によって、熔融ガラス並みの硬度を有するシリカ系膜を形成できるシリカ系膜の形成溶液を提供する。
【解決手段】 シリカ系膜の形成溶液において、酸の濃度と水分量を所定の濃度域とすると、特に厚膜でも緻密でクラックのない膜を形成することができる。
本発明の形成溶液では、シリコンアルコキシドに対して十分な水を予め添加する。つまり、シリコンアルコキシドのシリコン原子のモル数に対して、加水分解に必要なモル数、すなわち4倍以上の水を添加する。また、強酸の濃度を、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して、0.001〜0.2mol/kgの範囲に、場合によっては、0.0001〜0.2mol/kgの範囲とする。 (もっと読む)


40mgKOH/g未満の酸価を有する水希釈性ポリエステル樹脂であるクレーター防止剤を含有する改良された水性陰極電着組成物。水希釈性ポリエステルは(1)ヒドロキシ環状カーボネート、(2)ポリカルボン酸無水物、(3)任意の一官能性エポキシ樹脂、(4)多官能性イソシアネート樹脂、ならびに(5)第三級アミンおよび第一級か第二級官能性かのどちらかを含有するポリアミン化合物の反応生成物である。該反応生成物は第三級アミン基を水希釈性基へ転化するために酸および水の存在下に中和される。加水分解可能なシラン基もまた、その耐クレーター性をさらに高めるために反応生成物中へ組み入れることができる。本電着組成物は、その一面に付けられるその後のコーティング層への硬化フィルムの被膜間接着性に悪影響を及ぼすことなくより少ないクレーターの平滑な外観を有するコーティングを生み出す。 (もっと読む)


【課題】水分吸脱着能を向上し得るゼオライト膜形成用塗料及び該塗料を用いたゼオライト膜の製造方法、ゼオライト膜を提供する。
【解決手段】本発明のゼオライト膜形成用塗料は、ゼオライト、バインダ組成物及び有機溶剤をそれぞれ含むゼオライト膜形成用塗料の改良であり、その特徴ある構成は、添加剤としてメタクリル酸エステルモノマーを更に含むところにある。バインダ組成物はシリカゾルを含むことが好適であり、有機溶剤、ゼオライト、添加剤及びバインダ組成物の混合割合は重量比で56〜80:3〜9:3〜24:10〜31が好ましい。また、ゼオライトの平均粒子径は0.5〜10μmが、孔径は0.2〜1nmが好ましい。 (もっと読む)


本発明は、(A)式(I)-NR-C(0)-N-(X-SiR"x(OR')3-x)n(X'-SiR"y(OR')3-y)m[式中、Rは、水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、その際、Raは、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキルであり、R′は、水素、アルキルまたはシクロアルキル、アリールまたはアラルキルであり、その際、炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基またはNRa基により中断されていてもよく、X、X′は、2〜20個の炭素原子を有する線状および/または分枝鎖状のアルキレンまたはシクロアルキレン基であり、R″は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接していない酸素基、硫黄基またはNRa基により中断されていてもよく、nは、0〜2であり、mは、0〜2であり、m+nは、2であり、ならびにx、yは、0〜2である]の少なくとも1つの反応性の基を有する化合物(A1)少なくとも1種を、被覆剤中の不揮発性物質の含有量に対して少なくとも50質量%、(B)−Si(OR′)3−x(y)単位の架橋のための触媒、および(C)非プロトン性溶剤または非プロトン性溶剤の混合物を含有する被覆剤に関する。 (もっと読む)


熱線遮断組成物、これを利用した熱線遮断被膜およびこれらの製造方法を提供する。熱線遮断組成物は両性の溶媒に伝導性微粒子を酸と湿潤分散剤を利用して分散して製造され、これによって、バインダ樹脂の形態(含水、アルコール系、無水)に関係なしに、バインダ樹脂を使用することができるので、熱線遮断被膜を簡単で、かつ安価に形成することができる。
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【課題】 ゾルゲル法によって、熔融ガラス並みの硬度を有するシリカ系膜を形成することができるシリカ系膜の形成溶液を提供する。
【解決手段】 シリコンアルコキシド、強酸、水およびアルコールを含み、
前記シリコンアルコキシドの濃度が、当該シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子をSiO2に換算したときのSiO2濃度により表示して3質量%を超え9質量%未満であり、前記水のモル数が、前記シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の4倍以上10倍以下であり、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して、0.001〜0.2mol/kgの範囲にあることを特徴とするシリカ系膜の形成溶液である。 (もっと読む)


40mgKOH/g未満の酸価を有する水希釈性ポリエステル樹脂であるクレーター防止剤を含有する改良された水性陰極電着組成物。水希釈性ポリエステルは(1)ヒドロキシ環状カーボネート、(2)ポリカルボン酸無水物、(3)任意の一官能性エポキシ樹脂、(4)多官能性エポキシ樹脂、ならびに(5)第三級アミンおよび第一級か第二級官能性かのどちらかを含有するポリアミン化合物の反応生成物である。該反応生成物は第三級アミン基を水希釈性基へ転化するために酸および水の存在下に中和される。加水分解可能なシラン基もまた、その耐クレーター性をさらに高めるために反応生成物中へ組み入れることができる。本電着組成物は、その一面に付けられるその後のコーティング層への硬化フィルムの被膜間接着性に悪影響を及ぼすことなくより少ないクレーターの平滑な外観を有するコーティングを生み出す。 (もっと読む)


【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング/アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 環状シランモノマーと有機溶剤とからなる組成物。 (もっと読む)


ビニル系モノマーを含む原料混合物を連続式槽型の第1反応器に連続的に供給し、重合温度150〜300℃、滞在時間1〜60分の条件下、重合率が50〜99%になるように前記ビニル系モノマーを重合し、反応中間混合物を製造する第一工程と、前記ビニル系モノマー100質量部に対して0.01〜5質量部の重合開始剤と前記反応中間混合物とを第2反応器に供給し、重合温度100〜200℃、滞在時間10〜240分の条件下、重合率が80%以上になるように前記ビニル系モノマーをさらに重合する第二工程を経て得られる、質量平均分子量が1500〜10000であるビニル系重合体。 (もっと読む)


酸官能性もしくは酸無水物官能性ポリマーとアミン(好ましくは第三アミン)との塩の水性分散液とエチレン性不飽和モノマー成分とを混合することによって形成されるエマルジョン重合ラテックスポリマーを含んだ食品用もしくは飲料用缶のためのコーティング組成物。 (もっと読む)


【課題】 リブ流れが起こりにくくなる隔壁用ペーストおよび隔壁付きガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 アルカリ含有ガラス粉末、アクリル重合体および有機溶剤を含有する隔壁用ペーストであって、アクリル重合体のアミン価をA、水酸基価をBとして、Aが4以上かつBが18以上、Aが34以上62以下、または、Aが62超かつBが4以上である隔壁用ペーストおよび該ペーストを用いた隔壁付きガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、硬化性成分および一般式(I):


〔式中、Y=カルボキシル基、カルボキシレート基、またはヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基および/またはカルボキシレート基によって場合により置換されていてよい直鎖あるいは分枝アルキル基;R,R,およびR=(互いに独立して)HまたはOHであって、RおよびRは同時にはヒドロキシル基でない〕で示されるm−ヒドロキシベンゼン誘導体を含んでなり、
但し、硬化性成分が多成分エポキシベースの系の熱硬化性成分である場合、硬化性組成物は銅族および亜鉛族の遷移金属酸化物を含有せず、および、硬化性成分がエポキシ系熱硬化性成分である場合、上記は自己硬化性成分ではない、硬化性組成物に関する。本発明はさらに、被覆材および接着剤における老化抑制剤としてのm−ヒドロキシベンゼン誘導体の使用、並びに基材を被覆または接着するための方法に関する。
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【課題】 低誘電率と高い機械強度とを併せ持つ薄膜を形成する新規な架橋ポリマーを提供し、この架橋ポリマーを用いた薄膜を提供し、そして、多官能モノマーを重合させて、ゲル化することなく、前記の薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】式(1)で表される構成単位を有するポリチアゾール。


式(1)において、Aは炭素数4〜20の4価の有機基であり、Bは4価の有機基またはケイ素であり、そしてnは独立して0、1、2、または3である。
【効果】 ポリチアゾール(薄膜)は、ポリイミドやポリイミダゾールに比べて低い誘電率を示した。また、吸湿性も小さく、空気中の水分が膜に吸着して誘電率が上昇する現象が起きにくい。機械的強度や耐熱性が優れており、層間絶縁膜や保護膜などの薄膜として有用である。また、本発明の薄膜を形成する方法を用いると、ゲル化することなく多官能モノマーを重合させることができた。 (もっと読む)


酸基を有する水で希釈可能なポリウレタン樹脂であって、該ポリウレタン樹脂が、少なくとも部分的に不飽和の油Aから誘導された単位、オレフィン性不飽和脂肪族酸Bまたはその無水物B’から誘導された単位、酸基または酸無水物基に対して反応性であり、エポキシド基、ヒドロキシル基、メルカプタン基およびアミノ基からなる群から選択され、化合物BまたはB’との反応において反応してエステル基、チオエステル基または酸アミド基を形成する官能基を有する化合物Cから誘導された単位および多官能性イソシアネートDを含有し、前記化合物Cは、付加的にスルホン酸基またはカルボン酸基を含有し電子求引性置換基によって活性化される化合物C”と、化合物BまたはB’との反応中保持される少なくとも1つのヒドロキシル基を付加的に含有する化合物C’とからなる群から選択され、少なくとも化合物Cの質量分率の25%が化合物C”からなる。 (もっと読む)


本発明は、(1)アルミニウム基材の表面に、光輝材を含有する熱硬化性ポリエステル樹脂粉体光輝性ベース塗料(a)を塗装し、焼付する工程、次いで(2)熱硬化性アクリル樹脂粉体クリヤー塗料(b)を塗装し、焼付けて、光輝性を有する複層塗膜を形成する工程を含むアルミニウム基材の塗膜形成方法を提供するものである。 (もっと読む)


【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 (A)一般式(I)
【化1】


(式中Rは、炭素数1〜4のアルキル基、R′は炭素数1〜3のアルキル基、mは0、1または2を意味する)で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する1価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、50〜200℃で乾燥し、ついで300〜1000℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、50〜200℃で乾燥し、ついで300〜1000℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 (もっと読む)


【解決手段】 本発明は、金属表面での酸化皮膜発生に対して保護層を作製する剤において、該剤がバインダーとして少なくとも1種類のシランの加水分解生成物/縮合体又はシリコーン樹脂バインダー並びに更に少なくとも1種類の金属充填剤を含有することを特徴とする、上記剤に関する。 (もっと読む)


本発明は基材に塗布する防汚用ワニスの製造にとりわけ有用なシリコン組成物に関する。本発明の目的はシリコンエラストマーで被覆されたテキスタイルのための経済性、接着性、非滑り性及び光沢性を有する防汚用ワニスを提供することである。前記目的は、100重量部当たり:1− (1.1)を80重量部以上と;2− (1.2)を0.1〜10重量部と;3− 少なくとも1種のポリジメチルシロキサン(PDMS)アクリレート又はエポキシドを0〜10重量部と;4− 一分子当たり少なくとも一つのエポキシ基を有する上で規定した少なくとも1種のシリル化化合物を0〜10重量部と;5− 少なくとも1種のPDMSアクリレート/エポキシドを0〜10重量部と;6− 上で規定した少なくとも1種の超微細充填剤を0〜10重量部と;−7− 上で規定した少なくとも1種の増粘剤を0〜10重量部と;8− 上で規定した少なくとも1種の更なる機能性添加剤を0〜10重量部と;を有する架橋性シリコン組成物を含むワニスによって達成される。本発明は更にワニス塗り方法及びワニス塗りされた基材を含む複合物にも関する。
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