【課題】帯電極性の異なる複数種類の粒子の存在下でも凝集が抑制された着色樹脂粒子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】顔料１〜３０重量％と、（メタ）アクリル系重合性単量体５０〜９８．９重量％と、窒素含有基を有する化合物０．１〜２０重量％とを含む重合性組成物を、酸可溶性の難水溶性無機系分散剤の存在する水性媒体中で、重合させることで着色樹脂粒子を得る工程と、懸濁重合後の水性媒体を、酸を添加することで、３以下のｐＨにする工程と、前記ｐＨ３以下の水性媒体から、前記着色樹脂粒子を分離し、洗浄する工程と、前記洗浄後の着色樹脂粒子を、０〜８０℃の条件下で水溶性有機溶剤を含むアルカリ水溶液中で保持する工程と、前記アルカリ水溶液から、前記着色樹脂粒子を分離し、洗浄する工程とを含むことを特徴とする電気泳動用着色樹脂粒子の製造方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】非極性溶媒中において安定した分散性及び帯電特性を有し、帯電極性の異なる複数種類の粒子の存在下でも凝集が抑制された着色樹脂粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】顔料１〜３０重量％と、（メタ）アクリレート化アミン０．５〜２５重量％と、前記（メタ）アクリレート化アミン以外のビニル系単量体４５〜９８．５重量％とを含む重合性単量体組成物の重合体を含むことを特徴とする着色樹脂粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】Ｃ₄〜Ｃ₈モノオレフィンモノマーおよびＣ₄〜Ｃ₁₄マルチオレフィンモノマーを含むモノマー混合物から誘導されたコポリマーをハロゲン化することにより製造されたポリマーと比べて、向上した特性を有するハロゲン化ターポリマーを提供する。
【解決手段】８０〜９９質量％のＣ₄〜Ｃ₈モノオレフィンモノマー、０．５〜５質量％のＣ₄〜Ｃ₁₄マルチオレフィンモノマーおよび０．５〜１５質量％のp-メチルスチレンモノマーからなるハロゲン化ブチルターポリマーであって、該ターポリマーは、分子量分布を有しており、該モノマーは、分子量分布全体にわたって組成が等質であるターポリマーを形成するようにランダムに分布している、ハロゲン化ブチルターポリマー （もっと読む）

【課題】粉体床重合により芳香族ビニル化合物重合体を製造する場合において、高い転化率を示し、かつ生成物が攪拌翼や反応器へ付着することなく安定に運転することができる、芳香族ビニル化合物重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】特定の触媒溶液を反応器に連続的または段階的に供給しながら、前記反応器内で芳香族ビニル化合物を重合させる工程を含む、粉体重合による芳香族ビニル化合物重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】化学増幅ネガ型レジスト組成物の構成成分として用いた場合、レジストパターン形成後に得られるパターンのラインエッジラフネスが小さく、かつ、分子量が低くても十分な実用感度を与える高分子化合物、この高分子化合物を含有する化学増幅ネガ型レジスト組成物、及びこのレジスト組成物を用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】Ｎ，Ｎ’−ビス（アルコキシメチル）テトラヒドロピリミジノン骨格又はＮ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシメチル）テトラヒドロピリミジノン骨格を側鎖に有する不飽和カルボン酸エステルエステル系重合体及び芳香族ビニル系重合体より選ばれる高分子化合物。
【効果】上記高分子化合物を化学増幅ネガ型レジスト組成物に配合することで、微細パターンが要求されるネガ型レジストパターンの形成において、ラインエッジラフネスが改善され、高解像度で微細なパターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】疎水性指数が低くとも、自己凝集性を有する重合体粒子を提供する。
【解決手段】本発明の重合体粒子は、単量体組成物を重合して得られる重合体粒子であって、前記単量体組成物が（Ａ）架橋性単量体及び（Ｂ）炭素数４〜１２のアルキル基を有する非架橋性（メタ）アクリル系単量体を含有し、前記単量体組成物が含有する全単量体中、（Ａ）架橋性単量体の含有率が２５質量％以上であり、（Ｂ）炭素数４〜１２のアルキル基を有する非架橋性（メタ）アクリル系単量体の含有率が２１質量％以上６６質量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】素子寿命の長い有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】陽極および陰極からなる一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機層は、フラーレン骨格を炭素数０〜１０の直鎖アルキレンを介して（炭素数０の場合は直接）置換基として有するポリスチレンを含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）

【課題】吸水性樹脂粒子の吸収量が加圧下でも無加圧下と同等以上の吸収量がある吸収性樹脂粒子を提供すること。加圧下の吸収性物品の表面ドライ感が高い吸収性物品を提供すること。
【解決手段】水溶性ビニルモノマー（ａ１）及び／又は加水分解性ビニルモノマー（ａ２）並びに内部架橋剤（ｂ１）を必須構成単位とする架橋重合体（Ａ）を含んでなる吸収性樹脂粒子であって、１５０Ｇ保水量が６〜２０ｇ／ｇであり、４０ｇ／ｃｍ^２加圧下吸収量が１５０Ｇ保水量以上であり、ゲル通液速度が２００ｍｌ／ｍｉｎ以上である吸収性樹脂粒子。 （もっと読む）

【課題】イオン性架橋剤として金属を使用する向上した水性コーティング組成物を提供する。
【解決手段】０．５〜８重量％の亜鉛、カルシウムもしくはマグネシウムイオンのジ（メタ）アクリラート塩を有する重合混合物を形成し、亜鉛イオン、カルシウムイオンもしくはマグネシウムイオン；０．５〜７重量％のイタコン酸および４〜１５重量％の（メタ）アクリル酸の重合残基を含むポリマーを製造する。このポリマーは５０〜１１０℃のＴｇを有する。 （もっと読む）

【課題】レオコン性、自己硬化性があり熱黄変しにくい、水性塗料のバインダーとして用いることが出来る新規な熱硬化性アクリル樹脂組成物及びそれを含んでなる水性塗料組成物を得る。
【解決手段】ウレタン結合を有するエチレン性不飽和モノマー、イミド結合を有するエチレン性不飽和モノマー、及びウレア結合を有するエチレン性不飽和モノマーの中から選ばれる一種以上の水素結合性を持つ含窒素不飽和モノマー（Ａ）及びそれ以外の不飽和モノマー（Ｂ）を共重合してなることを特徴とする熱硬化性アクリル樹脂組成物による。 （もっと読む）

【課題】優れたシュリンク性及びストレッチ性を有し、両特性を高度に両立することが可能なスチレン‐ジエン共重合体及び／又はその水素添加物を主成分として構成される単層のストレッチシュリンクフィルム及びその製造方法を提供することである。また、該ストレッチシュリンクフィルムを用いたストレッチシュリンクラベルを提供することである。
【解決手段】本発明のストレッチシュリンクフィルムは、３０〜７０重量％のスチレン系単量体を含むスチレン‐ジエン共重合体及び／又はその水素添加物を主成分として構成され、スチレン‐ジエン共重合体及び／又はその水素添加物を主成分として構成される中心層と該中心層の少なくとも片面側に形成される表層との積層フィルムを共押出しで作製し、該積層フィルムを少なくとも一方向に加熱延伸した後、加熱延伸された積層フィルムから表層を剥離除去して得られる、単層ストレッチシュリンクフィルムである。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂中での難燃剤の分散性を向上させ、得られる成形体の難燃性を向上させる難燃剤分散性向上剤を提供する。
【解決手段】炭素数が２以上のアルキル基を有するアルキルメタクリレート単位を５０質量％以上含むアルキルメタクリレート系重合体を含む難燃剤分散性向上剤。前記難燃剤分散性向上剤、熱可塑性樹脂、難燃剤、及び、必要に応じてポリテトラフルオロエチレン含有樹脂を含む熱可塑性樹脂組成物。前記熱可塑性樹脂組成物を成形して得られる成形体。 （もっと読む）

【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位ａを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化１】
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【課題】容易に製造可能であり、活性エネルギー線や熱によって硬化し得る飽和炭化水素系重合体、および、これを含有する硬化性に優れた組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）：
−Ｚ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｒ¹−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ²）＝ＣＨ₂
（式中、Ｒ¹は２価の有機基、Ｒ²は水素原子、または、置換あるいは非置換の炭素原子数１から２０の炭化水素基、Ｚはヘテロ原子、ＮＲ³（Ｒ³は、水素原子、または、置換あるいは非置換の炭素原子数１から２０の炭化水素基）から選択される基である。）で表される置換基を分子内に１個以上有する飽和炭化水素系重合体（Ａ）。 （もっと読む）

【課題】転がり抵抗を悪化させずに、優れた耐摩耗性及び優れた湿潤路面での制動性を有し、さらにドライ性能が向上したタイヤを提供する。
【解決手段】下記一般式(I)：


で表される特定のメタロセン錯体を含む触媒組成物の存在下において、重合して得られる、特定の芳香族ビニル−共役ジエン共重合体を含むゴム、無機充填剤、同一分子内に前記ゴムに対する反応基を１個以上、前記無機充填剤に対する吸着基を２個以上有する化合物を配合してなるゴム組成物をタイヤ部材に用いたタイヤ。 （もっと読む）

【課題】制御ラジカル重合で得られる重合体の耐熱分解性を向上させること。
【解決手段】遷移金属錯体を重合触媒とし、有機ハロゲン化物を重合開始剤として用いる制御ラジカル重合で得られた末端ハロゲン及び末端二重結合を有する重合体を、水素化ホウ素化合物で処理することにより該末端ハロゲン及び該末端二重結合を低減する、重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ハロアルキルスチレンを含む重合性組成物を重合させてなる重合体と離型フィルムとの離型時に、重合体と離型フィルムとの接着に起因する樹脂剥離の発生を防止することのできるイオン交換膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ハロアルキルスチレン、ハロアルキルスチレンと共重合可能な単量体、エラストマー、重合開始剤、および、グリシジルエーテル基を２個以上有するエポキシ化合物を含有する重合性組成物を基材シートに付着させた後、該基材シートに離型フィルムを貼り付け、その後重合反応を行い、得られた重合体に陰イオン交換基を導入することを特徴とする陰イオン交換膜の製造方法である。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性の高分子化合物、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有し、上記（Ａ）成分の高分子化合物が、架橋剤の存在下又は不存在下で、上記酸発生剤から発生する酸触媒によりアルカリ不溶性となる電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物であって、上記（Ａ）成分かつ（Ｃ）成分が塩基性ポリマー（ＰＢ）を含むことを特徴とする電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物。
【効果】超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ネガ型レジスト組成物を用いることで、塩基の拡散を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、アンダーカットの度合いが小さい電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物の提供。 （もっと読む）

【課題】望ましくない分離を生ずることなく水中に分散され得るかまたは水で容易に希釈され得るコナゾール殺菌剤、特にエポキシコナゾールの配合剤を提供する。
【解決手段】α）少なくとも１個のスルホン酸基を有する少なくとも１つのタイプのモノエチレン性不飽和モノマー、β１）２０℃の温度での水溶解度が３０ｇ／ｌ未満の少なくとも１つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、及びβ２）２０℃の温度での水溶解度が５０ｇ／ｌ以上の少なくとも１つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、を含む少なくとも３つの異なるモノエチレン性不飽和モノマーからなる新規コポリマー。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）水性アルカリ性現像液に可溶性であり、酸触媒による反応で水性アルカリ性現像液に不溶性となるベースポリマー、及び／又は、水性アルカリ性現像液に可溶性であり、酸触媒により架橋剤と反応して水性アルカリ性現像液に不溶性になるベースポリマーと架橋剤の組み合わせ、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、上記ベースポリマーの少なくとも一部として、一般式（１）で示される高分子化合物を用いる。


【効果】酸の拡散をより均一かつ低拡散にすることができ、ラインエッジラフネスの改善、パターンの基板依存性の小さい化学増幅ネガ型レジスト組成物を提供する。 （もっと読む）