【課題】 従来よりも透光性および耐光性に優れ、かつ発光などによって生じる熱に対する耐性（耐熱性）に優れたＬＥＤ封止剤およびその封止剤で封止された発光ダイオードを提供し、さらには、上記特性に優れた新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 下記式


（Ｒ¹とＲ²は、それぞれ独立して、水素原子または置換基であり、ｎは正の整数を示す。）で示される（共）重合体と、重合性反応基を有する硬化成分を含むＬＥＤ封止剤を提供する。 （もっと読む）

混合機中の、
ａ）水溶性モノエチレン不飽和モノマー
ｂ）少なくとも２個の重合可能な基を有するモノマー、モノマー（ａ）に対して０．００１〜５モル％
の共重合により、架橋した、微粒子のゲル状ポリマーを連続的に製造する方法が開示される。ニーダーの入口に添加する物質を軸方向に混合機の端部に搬送する。本発明の方法は、少なくとも１個の以下の条件：
ｉ）ニーダー中の充填度が少なくとも７１％である
ｉｉ）水溶性モノエチレン性不飽和モノマーがヒドロキノンの半エーテル１５０ｐｐｍまでを含有する
ｉｉｉ）重合帯域の温度が６５℃より高い
ｉｖ）ニーダーが逆混合比０．３３未満を有する
ことが満たされることを特徴とする。 （もっと読む）

水性ポリマー分散液の製造法であって、その際に最初に不飽和モノマーを適当な触媒により重合させ、その後にこうして得られた、未反応の残留モノマーの全体量または部分量で膨潤されているポリマーに最後の工程で表面活性剤および水を添加し、この場合も最後の工程で得られたポリマーは、完全には残留モノマーと分離されていない、水性ポリマー分散液の製造法。 （もっと読む）

【課題】冷却水系などで発生するシリカ系汚れの付着を効果的に防止することができるシリカ系汚れの付着防止剤及び付着防止方法を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル酸単位とスルホン酸基を有するモノマー単位とを有し、スルホン酸基を有するモノマー単位の組成比が１０モル％を超える共重合体を含有するシリカ系汚れの付着防止剤、カルボキシル基とスルホン酸基とを有し、スルホン酸基／カルボキシル基のモル比が０.１５〜２.０である共重合体を含有するシリカ系汚れの付着防止剤、循環水に、(メタ)アクリル酸単位とスルホン酸基を有するモノマー単位とを有し、スルホン酸基を有するモノマー単位の組成比が１０モル％を超える共重合体を添加するシリカ系汚れの付着防止方法、及び、循環水に、カルボキシル基とスルホン酸基とを有する共重合体であって、スルホン酸基／カルボキシル基のモル比が０.１５〜２.０である共重合体を添加するシリカ系汚れの付着防止方法。 （もっと読む）

【課題】 短時間の処理によりエマルション中の揮発性物質の濃度を１００ppm以下に低減することができる方法の提供。
【解決手段】 下記工程（１）および（２）を必須とするエマルション中の有機揮発性物質の連続的な除去方法であって、最終処理槽に供給するエマルション中の有機揮発性物質の濃度が５００ppm以下であるエマルション中の有機揮発性物質の連続的な除去方法。
工程（１）：第１槽にエマルションを連続的に供給し、同槽内に貯えられた該エマルションに加圧水蒸気を吹き込み、水蒸気とともに有機揮発性物質を蒸発させることにより該エマルションから有機揮発性物質を除去するとともに、供給速度と同等速度でエマルションを第２槽に移送する工程。
工程（２）：第２槽内において前記第１槽におけると同様な水蒸気処理を行う工程。
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本発明は、中空軸として形成された少なくとも２つの軸（２，３）を備えた混合混練機であって、これらの軸の表面においてウェブ（５）に混練棒（４）が配置されている形式のものに関する。軸の構造は、軸の固有振動数が励起体振動数に対して少なくとも５％の間隔を有するように、選択されている。少なくとも１つの軸が有利には温度調節媒体によって貫流されており、入口が軸の一方の側に配置され、かつ出口が軸の他方の側に配置されている。混合混練機は有利には、少なくとも１つの開口を軸の上に有しており、この開口はドームとして形成されていて、ドームは押し退け体（２３）によって閉鎖されている。さらに、生成物取出しのための少なくとも１つの開口が設けられていて、この開口の開口横断面は運転中に調節可能である。
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【課題】 優れた流動保持性を達成でき、かつ硬化遅延性の小さいセメント混和剤の製造方法を提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）で表される構成単位（Ｉ）を必須の構成単位として含有する重合体（Ａ）と、炭素原子数１〜３０の炭化水素基を末端に有するオキシアルキレン基の平均付加モル数が１〜３００のポリアルキレングリコール／アミドを反応させることを特徴とするセメント混和剤の製造方法。
【化１】


（但し、式中ｐは０〜２の整数を表わし、Ｘ^１は水素、一価金属、二価金属、アンモニウム基、有機アミン基又は炭素原子数１〜３０のアルキル基を表わす。） （もっと読む）

【課題】 使用中或いは保存中にｎ−パラフィンの分離が少なく、冷却時の粘度上昇が少なく、蓄熱材料として有用なパラフィンエマルションを提供すること。
【解決手段】 ｎ−パラフィンとワックスとアクリル系重合体とが、界面活性剤により一体的に水中に乳化されてなり、上記パラフィンの凝固点以上の温度における粘度（Ａ）と、上記パラフィンの凝固点より低い温度における粘度（Ｂ）とが、［Ｂ≦１．５Ａ］の関係を有することを特徴とするパラフィンエマルション。 （もっと読む）

【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜として好適な、保存中のパーティクルの析出が僅かであるために現像欠陥が極めて少ない半導体レジスト用共重合体を得ることのできる半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法を提供する。
【解決手段】本発明は、極性基を有する繰り返し単位と脂環構造を有する繰り返し単位とを有する半導体レジスト用共重合体を含み、且つ、イオン性添加剤を含まない半導体レジスト用共重合体溶液を、アミノ基及び/又はアミド結合を有する樹脂を含むフィルターに通過させることを特徴とする半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法である。 （もっと読む）

三価陽イオンで中和されたアイオノマー組成物が提供される。同じベース樹脂を含有し、かつ、一価または二価陽イオンのみで中和されているアイオノマー組成物と比較して、溶融強度および溶融粘度はより高く、そして温度に対する溶融粘度の感受性はより低い。本組成物は、多層構造体ならびにおむつ、成人失禁用パッドおよび生理用ナプキンなどの物品に使用される実質的に連続気泡の発泡体の製造に好適である。 （もっと読む）

【課題】 耐硫酸性に優れ、且つ成型加工時に着色が少ない塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】 塩化ビニル系単量体を油溶性開始剤の存在の下、水性媒体中で懸濁重合するにあたり、分散剤としてポリエチレンオキサイド系分散剤とメチルセルロース系分散剤を使用し、且つ分散剤総量に占めるポリエチレンオキサイド系分散剤の割合が２０〜８５重量％の範囲になるようにして得られた塩化ビニル系重合体を、水懸濁下で塩素化して塩素化塩化ビニル系樹脂を得る。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、感度、解像度等のレジスト性能に優れ、微細なパターンを鮮明且つ精度よく形成できるフォトレジスト用共重合体を提供する。
【解決手段】 フォトレジスト用共重合体の製造法では、（Ａ）（ｉ）アルキル基で置換されていてもよいスチレン、（ii）下記式（１）


（式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜１２の第１級若しくは第２級アルキル基、オキシラン環若しくはオキセタン環含有基等を示す）で表される不飽和カルボン酸エステル、及び（iii）Ｎ−置換マレイミドの３種の単量体群より選択された少なくとも２種の単量体群に含まれる２以上のモノマーと、（Ｂ）アルカリ可溶性基含有モノマーとを、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）等の重合開始剤を用いて共重合させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高いｐＨにおいて良好な安定性及び有利な流動学的性質を有するレオロジー変性ポリマーの必要性を提供する。
【解決手段】少なくとも１０のｐＨを有し、且つ（メタ）アクリル酸残基２．５％〜６５％と、（メタ）アクリル酸（Ｃ_２−Ｃ_４）アルキル残基１０％〜８０％と、親油性変性（メタ）アクリル酸塩残基２％〜２５％と、エステル又はアミド官能性を有していない架橋剤の残基とからなる少なくとも１種の架橋されたコポリマーを０．１％〜５％含有する水性組成物。 （もっと読む）

【課題】 適度な親水性及び疎水性を有し、例えば、レジスト材料として用いた場合には、優れた透明性及び耐ドライエッチング性を発揮するとともに、アルカリ溶解性や基板密着性に優れ、高解像性を実現できるメチロール基及びラクトン環を有する重合体、並びに、該重合体を用いたポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】 α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エステルを含む単量体成分を重合、ラクトン環化してなるメチロール基及びラクトン環を有する重合体であって、上記重合体は、重合体を構成する繰り返し単位１００モル％に対してメチロール基含有ユニットが２０モル％以下、ラクトン環ユニットが３〜２０モル％であるメチロール基及びラクトン環を有する重合体である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのケイ素原子と、少なくとも１つのカルボニル群とを有する少なくとも１つの不飽和重合可能モノマー（Ｉ，ＩＩ）を含む、レジスト製造用の重合可能な化合物に関する。本発明は、この化合物の重合により製造されたレジストと、リソグラフィ方法とに関する。 （もっと読む）

方法は、Ａ）パターン化表面を有するシリコーン型を、硬化性（メタ）アクリレート組成物で充填する工程と、Ｂ）硬化性（メタ）アクリレート組成物を硬化させて、パターン形状を形成する工程と、Ｃ）シリコーン型とパターン形状とを分離する工程と、任意選択で、Ｄ）パターン形状をエッチングする工程と、任意選択で、Ｅ）シリコーン型を再使用して、工程Ａ）〜Ｄ）を繰り返す工程とを含む。硬化性（メタ）アクリレート組成物は、フルオロ官能性（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレート、及び光開始剤を含む。 （もっと読む）

【課題】 高感度かつ高解像度で、１，２００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物と、（ａ３）水酸基含有不飽和化合物と、（ａ４）他の不飽和化合物との共重合体に、下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ^２はアルキレン基を示す。）
で表わされるイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体、重合性不飽和化合物、および感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 短波長光に対する高い透過性を有し、かつ複屈折の少ない光学素子を、樹脂組成物を成形して製造するにあたり、長期に亘って成形型を繰り返し使用しても光学素子に欠損が発生することがない光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 脂環式構造を有する重合体を含有する樹脂組成物を成形型で成形する光学素子の製造方法において、成形型を構成する第１型部材及び第２型部材の少なくとも一方の部材成形空間との接触面に３ｎｍ以上２０ｎｍ以下のフッ素含有化合物層を設ける。 （もっと読む）

【課題】水中および有機溶媒中に可溶または少なくとも分散可能な両親媒性コポリマー、特に制御されたフリーラジカル溶液重合または塊状重合で得られる両親媒性傾斜コポリマーと、この傾斜コポリマーを水へ溶解する方法。この傾斜コポリマーは表面処理技術、特に塗料、接着剤、膠剤および化粧品用配合物で使用できる。
【解決手段】ポリマー鎖上の任意の規格化位置ｘにモノマー（Ｍ_i）が存在する確率がゼロではないような少なくとも一つのモノマー（Ｍ_i）を有する。 （もっと読む）

【課題】環境に優しく、経済的に実施することができる（メタ）アクリル酸の精製方法を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル酸の製造方法であって、（ａ）（メタ）アクリル酸を含み、気相酸化によって得られた生成物ガスを冷却装置（１）内で水相と接触させ、水性冷却相を得る工程と、（ｂ）冷却相を抽出装置（３）内で有機分離剤と接触させ、第１の相及び第１の相以外の少なくとも１つの相を得る工程と、
（ｃ）第１の相及び第１の相以外の少なくとも１つの相の少なくとも１つの相を結晶化ユニット内で結晶化させ、純粋な（メタ）アクリル酸を得る工程と、を含む方法。 （もっと読む）