【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができる樹脂及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す；Ｒ^２は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、単結合等を表す；Ｒ^３は、式（ｂ）で表される基である；---は単結合又は二重結合を表す；ｘ１は１又は２、ｘ２は０又は１、ｘ１＋ｘ２＝２である。］ （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、膜の硬度が高く、基材や下地などとの密着性が良好であり、誘電率や誘電正接といった電気特性に優れ、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い硬化膜を得ることが出来る感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、酸化防止剤（Ｃ）と、光重合性モノマー（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が、（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）を共重合させて共重合体（ａ６）を得て、得られた共重合体（ａ６）と（ａ４）とを反応させて共重合体（ａ７）を得て、更に得られた共重合体（ａ７）と（ａ５）とを反応させて得られる樹脂（Ａ１）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】露光装置等の高価な装置を使用することなく低コストで製造でき、生産性に優れた光路変換用のミラー部品を提供する。
【解決手段】光導波路の光伝送方向の端面に接合される光路変換用のミラー部品であって、内部を光が伝播する導光部と、前記導光部の内部において光を入射方向と垂直な方向に反射させる４５°ミラー面とを少なくとも有し、前記導光部は、前記４５°ミラー面に対向し、光導波路と接合される接合面（第１の面）と、前記４５°ミラー面を形成する第２の面と、前記４５°ミラー面に対向し、光を入射又は出射させる第３の面とを少なくとも有することを特徴とするミラー部品。 （もっと読む）

【課題】 高温下において位相差の変化が少ない光学異方体を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも１つ以上の水素原子がtert-ブチル基で置換されているフェノール骨格を有する分子量７００未満の酸化防止剤を含有する重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物により構成される光学異方体は、高温下においても、オーダーパラメータの低下に伴う位相差の減少を低減できることから、液晶セル内部に組み込む光学異方体として好適に使用することが可能である。 （もっと読む）

【課題】少なくとも、アセタール骨格を有する単量体と、ラクトン環を有する単量体と、極性基を有する単量体を共重合させて重合体を製造する方法において、アセタール骨格の分解を抑制しつつ、重合体溶液中の重合体を沈殿させて精製できるようにする。
【解決手段】極性基を有する単量体として、水酸基以外の極性基を有する単量体を用い、単量体を共重合させて得られた重合体を含む重合体溶液を、水分含有量が１０質量％未満のアルコールと混合して、重合体溶液中の重合体を沈殿させる。 （もっと読む）

【課題】 少ない紫外線照射量で配向の制御が可能な液晶配向性を有し、任意のプレチルト角を得ることができ、光安定性に優れた液晶の配向層用組成物及び溶剤等により浸食されない当該組成物を用いた光配向可能な液晶配向層を提供し、更に、当該液晶配向層を用いた液晶表示素子及び光学補償フィルム等の光学異方体を提供する。
【解決手段】 (a)光化学的に異性化可能な部位を有するポリマーと、(b)光化学的に架橋可能な部位を有するポリマーとを含み、前記(a)及び(b)が異なった構造を有することを特徴とする液晶の配向層用組成物及び当該組成物を用いた液晶配向層を提供する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】 ノズルからの吐出性及び活性光線照射による速硬化性に優れる高速印刷可能なインクジェット印刷インク用重合性化合物及びインク組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるインクジェット印刷インク用重合性化合物（Ａ）；並びに該重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤（Ｄ）及び必要により他の重合性化合物（Ｂ）を含有するインクジェット印刷用インク組成物。
【化１】


［式中、Ｒ¹及びＲ³はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、Ｒ²は分岐骨格を有する炭素数７〜２０の２価の脂肪族炭化水素基である。］ （もっと読む）

【課題】オルガノボランとビニル芳香族化合物とを含む重合開始剤系を提供すること。
【解決手段】この重合開始剤系は、２液型の硬化性結合性組成物、特に、硬化してアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物、さらに特に、硬化して低表面エネルギー基材を結合しうるアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物を調製するのに特に有用である。オルガノボランと、少なくとも１種の重合性モノマーと、少なくとも１種のビニル芳香族化合物とを含む結合性組成物も記載される。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。
【化１】
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【課題】初期接着性と応力緩和性の優れた粘着剤の原料となり得る、１つの重合物中に高分子量の重合体と低分子量の重合体を含み、かつ低分子量重合体の量が相対的に多い重合物を容易に製造しうる方法を提供すること。
【解決手段】アクリル系単量体と、重合開始剤の存在下で重合を開始し、次いで、単量体の重合率が使用する全単量体量に対し、５〜４０％となった時点で、全単量体に対し、０.１〜１０質量％の連鎖移動剤を、一括で若しくは６０分以内の時間をかけて添加することを特徴とする低分子量重合体と高分子量重合体を含み、低分子量重合体の方が多いアクリル系重合体の製造方法並びにこの方法により得られるアクリル系重合体およびこれを利用するアクリル系粘着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】リチウム塩を添加したとしてもイオン伝導性が低下しにくく、かつ優れた難燃性を有する電解質組成物を提供する。
【解決手段】下記成分Ａ及びＢを含有する電解質組成物。（Ａ）単官能（メタ）アクリル酸エステル、飽和カルボン酸ビニルエステル又はヒドロキシ基が置換していてもよいアルキルビニルエーテルに由来する繰り返し単位と、多官能（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位とを有する高分子化合物。（Ｂ）下記式（１）で表される化合物


〔式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】導電性ポリマーの原料として有用な新規高分子化合物の提供。
【解決手段】


〔Ｒ¹は、−ＳＯ₂−Ｏ−、−Ｏ−又は−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−を示し、Ｒ²は、重合性官能基を示し、ｎは、１〜６の整数である。〕を重合させて得られる高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。
【解決手段】特定のアセタール部分を含む単位と、ラクトン部分を含む単位とを含むポリマー。このポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。このポリマー、組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされる。 （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造におけるネガティブトーン現像プロセスを用いて微細パターンの形成を可能にするフォトグラフィ法を提供。
【解決手段】特定のアセタール部分を有する単位を含むポリマー、およびこのポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法により、電子デバイスの製造においてフォトグラフィ処理における厚さ損失の低減、並びにパターン崩壊マージン、解像度およびフォトスピードの向上をもたらしうることが見いだされた。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１、Ｒ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により酸素原子との結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない１価の基；ｎ^aa１、ｎ^ab1は１又は２；Ａ^aa１は炭化水素基；Ａ^ab1は炭化水素基又は単結合；Ｗ^１は脂環式炭化水素基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2はフッ化アルキル基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。Ｒ２は、下記式（２）で表される酸解離性基である。
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【課題】新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ａ−０）で表される構成単位（ａ０）、及び、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大することを特徴とするレジスト用樹脂。式（ａ−０）中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を表し；ａは０〜２の整数であり；ｂは１〜３の整数であり；ｃは１〜２の整数であり；ａ＋ｂは２以上の整数である。
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【課題】マスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物。


［式中、Ａ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式（ａ−１）


（式中、ｓは０又は１；Ａ¹⁰及びＡ¹²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ａ¹¹は、単結合又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｘ¹⁰及びＸ¹¹は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基；ただしＡ¹⁰、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ｘ¹⁰及びＸ¹¹の炭素数の合計は６以下である）で表される基；Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】材料選択の自由度が非常に高い光反応性化合物を含む光配向膜用又は光学異方性フィルム用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


〔式中，Ｍはホモポリマー又はコポリマーの主鎖を形成するモノマー単位であり，ＳＰＣＲはスぺーサー単位であり，環Ａは非置換若しくは置換脂環式炭化水素又は非置換若しくは置換芳香環であり，環Ｂは非置換若しくは置換芳香環であり，Ｚはアルキル基，アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，ハロゲン原子，−ＣＨ＝ＣＨＺ^１，−Ｃ≡ＣＺ^１（但し，Ｚ^１はアルキル基，アルコキシ基，アルコキシカルボニル基，アルコキシスルホニル基，シアノ基，ニトロ基又はハロゲン原子である。），−ＣＯＯＺ^２，又は−ＳＯ_３Ｚ^２（但し，Ｚ^２はアルキル基である。）である。〕で示される繰り返し単位を有する光反応性ポリマーを含んでなる，光配向膜用組成物又は光学異方性フィルム用組成物。 （もっと読む）