【課題】反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸強度ｐＫ_ａが−２〜３の酸を発生するスルホニウム化合物、
（Ｂ）塩基強度ｐＫ_ｂが５〜１０の塩基性化合物、及び
（Ｃ）下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される各繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂
を含有する感活性光線性又は感放射性樹脂組成物。


上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ_１は水素原子又はアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストコポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式を有するコポリマー


式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、Ｈ、Ｃ_１−６アルキルもしくはＣ_４−６アリール、Ｒ_６はフッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ａｒは単環式、多環式もしくは縮合多環式Ｃ_６−２０アリール基；Ｒ_７およびＲ_８は−ＯＲ_１１もしくは−Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＲ_１１基、Ｒ_１１はＨ、フッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ｒ_９はＦ、Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０フルオロアルキル、Ｃ_１−１０アルコキシ、もしくはＣ_１−１０フルオロアルコキシ基；Ｒ_１０はカチオン結合Ｃ_{１０−４０}光酸発生剤含有基ある。 （もっと読む）

【課題】左螺旋を誘起する新規な重合性キラル化合物、左螺旋性液晶性高分子、及び光学異方体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される左螺旋を誘起する重合性キラル化合物、該化合物を重合して得られる左螺旋性液晶性高分子、光学異方体。


〔式中、Ｙ^１〜Ｙ^３は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を表し、Ａ^１及びＡ^２は炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｚ^１は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【課題】 光学特性、耐久性、生産性、特に生産性に優れた立体画像表示用に用いられる複屈折レンズ材料を提供し、併せて生産性に優れた立体画像表示用複屈折レンズの製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する液晶化合物、及び、少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する非液晶化合物を含有する立体画像表示用複屈折レンズ材料及び当該立体画像表示用複屈折レンズ材料を用いた立体画像表示用複屈折レンズの製造方法。 （もっと読む）

【課題】低酸拡散性と高い溶解コントラストを両立すると共に、発生酸やクエンチャーなどによるケミカルフレアを抑制することにより、ホールパターンやトレンチパターンのＤＯＦと真円性もしくはＬＷＲを改善したポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）高エネルギー線に感応した結果、側鎖にスルホン酸ジフロロメチル構造の酸を発生する繰り返し単位（ａ１）と、酸不安定繰り返し単位（ａ２）とを有し、酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物、及び（Ｂ）下記一般式（２）で示されるスルホン酸オニウム塩を共に含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】複数の位相差部と複数の等方部にパターニングされた光学素子を生産する上で好適な温度範囲にＮＩ点を有し析出物等が発生しない重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ａ）及び下記一般式（２）で表される重合性化合物（Ｂ）を含有し、（Ａ）及び（Ｂ）の含有量の合計が全重合性化合物の合計量中７０〜１００質量％であり、（Ａ）／（Ｂ）質量比が９５／５〜５０／５０である重合性液晶組成物。
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【課題】ＢＨＦＩＰＦ化合物類の透明性を損なわず、ＢＨＦＩＰＦ化合物類をモノマー成分として共重合された新規含フッ素重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】式（１ａ）で表される含フッ素重合体。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基又はアルキル基を表す。Ｒ³は、重水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基又はアルキル基を表す。ｍは０〜５を表す。） （もっと読む）

【課題】高い光屈折性及び蛍光特性を有し、樹脂原料等として好適な化合物及びこの製造方法、この化合物を含む組成物並びに硬化物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表されるアントラセン誘導体である。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、パターン形状、スカム低減及び現像欠陥低減に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び（Ｄ）溶剤を含有し、かつ前記化合物（Ｂ）が、活性光線又は放射線の照射により、下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】室温付近でコレステリック相を示すとともに、組成物の組成を変えることで、赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御することができ、さらに、対象となる基材上に、コレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の重合性液晶組成物は、特定の単官能液晶性アクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも２種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】外観、塗布性、防曇性、耐水性及び耐熱性等に優れた、透明防曇性塗膜を形成できる吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリルアミド系モノマーを他のモノマーと共重合した特定の（メタ）アクリルアミド系共重合体（Ａ）と、少なくとも１種類の２官能以上の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）とを組み合わせることで、優れた防曇性を有する活性エネルギー線硬化型の吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体を提供する。 （もっと読む）

【課題】外部圧力による変形の少ない硬い特性を有するスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記（Ａ−１１）〜（Ａ−１３）を含む化合物を共重合して得られる共重合体に（Ａ−１４）を反応させて得られるスペーサー形成用感光性樹脂組成物；（Ａ−１１）は下記式１で表される化合物；（Ａ−１２）は（Ａ−１１）及び（Ａ−１３）と共重合可能な不飽和結合を有する化合物；（Ａ−１３）は不飽和結合とカルボキシル基を有するカルボン酸；（Ａ−１４）は１分子中に不飽和結合とエポキシ基を有する化合物。


（Ｒ１は水素原子、アルキル基、アリル基、フェニル基、ベンジル基、ハロゲン原子またはアルコキシ基；Ｒ２は水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基またはアルコキシ基） （もっと読む）

【課題】感度及び酸転写性が向上された酸転写膜を用いて化合物を合成する方法、マイクロアレイ、酸転写用組成物及びバイオチップ製造用組成物の提供。
【解決手段】第１化合物を基板に結合して第１膜を形成する工程、特定のアクリルアミド単位および特定のアクリル酸エステル単位を有する重合体Ａ、感放射線性酸発生剤Ｂ、増感剤Ｃを含む酸転写用組成物を用いて、第１膜上に第２膜を形成する工程、第２膜を露光し、第２膜の露光部に生じた酸を第１膜に転写して保護基を除去する工程、露光後の第２膜を除去する工程及び保護基が除去された第１化合物に第２化合物を結合する工程からなる化合物合成法。 （もっと読む）

【課題】電子線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像力、良好なパターン形状、ブリッジの発生の抑制、良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。


（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは電子求引性基を表す。Ｙは２価の連結基を表し、Ａｒ及びＡｒ’は、各々独立に、芳香族環を表す。ｎは１〜５の整数である。） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光においてレジスト膜の露光部から酸が液浸液に溶出することを低減し、ウォーターマーク欠陥及び現像欠陥を抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び、
（Ｄ）２種以上の溶剤からなり、沸点が２００℃以上の溶剤を含有する混合溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】長期の使用に対しても液晶の配向性能が維持されるような長期の耐久性を有する液晶表示素子を得るための液晶配向剤を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体を含有し、前記繰り返し単位が、窒素原子に隣接する２つの炭素原子がそれぞれ下記式（Ｓ）で表される置換基２個を有している環状アミン構造、又は水酸基に対してオルト位の炭素原子のうち少なくとも１つの炭素原子が下記式（Ｓ）で表される置換基を有しているフェノール構造を有する。
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【課題】生産性に優れると共に、耐熱保管性および低温定着性に優れかつトナー飛散防止性に優れるトナーを与えるトナーの製造方法を提供する。
【解決手段】第一の樹脂および着色剤を含有するコア層を有し、該コア層上にシェル層を有するコアシェル型トナーを製造するトナーの製造方法であって、該第一の樹脂および該着色剤を含有するコア粒子を含有する分散液（１）と、ビニルトリアリールイミダゾールを有する第二の樹脂を含有するシェル層用粒子を含有する分散液（２）とを混合して、該コア粒子を、該第二の樹脂を含む層Ａで覆うシェル化工程、および該層Ａを、酸化剤を含有する酸化剤溶液で処理し、該第二の樹脂を架橋する架橋工程を有することを特徴とするトナーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れると共に、耐熱保管性および低温定着性に優れかつトナー飛散防止性に優れるトナーを与えるトナーの製造方法を提供する。
【解決手段】第一の樹脂および着色剤を含有するコア層を有し、該コア層上にシェル層を有するコアシェル型トナーを製造するトナーの製造方法であって、該第一の樹脂および該着色剤を含有するコア粒子を含有するコア樹脂分散液と、ビニルトリアリールイミダゾール基を有する第二の樹脂および第三のポリエステル樹脂を含有するシェル層用粒子を含有するシェル樹脂分散液とを混合して、該コア粒子を、該シェル層用粒子で覆いシェル層Ａを形成するシェル化工程、および該層Ａを、酸化剤を含有する酸化剤溶液で処理し、該第二の樹脂を架橋する架橋工程を有することを特徴とするトナーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度のレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ’）で表される化合物から誘導される構造単位を有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
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