【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。
【化１】
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【課題】取り扱い性に優れ、かつ、水に溶解したときに溶け残りが発生しにくいポリビニルアルコール樹脂及びその製造方法を提供する。
【解決手段】重合工程（ステップＳ１）及び鹸化工程（ステップＳ２）を経て得たポリビニルアルコール樹脂スラリーを、１００〜１７０℃に加熱して、含有される揮発成分を１質量％以下にする（ステップＳ３）。その後、揮発成分を除去した樹脂を、直径が３〜８ｍｍμｍの孔を備える金型を使用して押出成形してストランド形状とし、押出成形後の樹脂を４５℃以下の温度になるまで空冷又は風冷する（ステップＳ４）。そして、冷却後の樹脂を粉砕し、長さが１〜１０ｍｍ、最大径が０．５〜３．０ｍｍの棒状粒子とする（ステップＳ５）。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】太陽電池として実際に使用される環境だけでなく、太陽電池モジュールを評価する際に検討される高温多湿の雰囲気中における促進試験を行なった場合であっても、太陽電池に用いられる充填材に対する接着性および耐候性に優れ、電気出力特性を維持し、バックシートの外観不良が生じがたい太陽電池モジュール用接着剤、太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池を提供すること。
【解決手段】太陽電池モジュールに用いられるバックシートと充填材と貼り合わすために用いられる接着剤であって、ヘテロ原子を含む１，５−ジエン構造含有単量体およびヘテロ原子を含む１，６−ジエン構造含有単量体からなる群より選ばれた少なくとも１種のジエン構造含有単量体を含有する単量体成分を環化重合させてなるヘテロ原子を含む環構造を主鎖に有する重合体を含有することを特徴とする太陽電池モジュール用接着剤。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いて製造され、明度およびコントラスト比に優れ、かつ、色むら、濃度むらの発生が抑制されたカラーフィルターの製造に好適に用いることのできるカラーフィルター用インクを提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、顔料と、式（１）で表される単量体成分ｍ１、カルボキシル基または酸無水物基を有する単量体成分ｍ２、および、式（３）で表される単量体成分ｍ３を含む重合体Ｍと、顔料を分散させる分散媒とを含み、分散媒は、成分ａと、成分ａよりも高い沸点を有する成分ｂとを有し、２５℃における成分ｂの表面張力は、２５℃における成分ａの表面張力よりも低いことを特徴とする。


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【課題】マスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物。


［式中、Ａ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式（ａ−１）


（式中、ｓは０又は１；Ａ¹⁰及びＡ¹²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ａ¹¹は、単結合又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｘ¹⁰及びＸ¹¹は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基；ただしＡ¹⁰、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ｘ¹⁰及びＸ¹¹の炭素数の合計は６以下である）で表される基；Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１、Ｒ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により酸素原子との結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない１価の基；ｎ^aa１、ｎ^ab1は１又は２；Ａ^aa１は炭化水素基；Ａ^ab1は炭化水素基又は単結合；Ｗ^１は脂環式炭化水素基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2はフッ化アルキル基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンの製造。
【解決手段】式（ａａ）、（ａｂ）で表される構造単位を有する樹脂（Ｘ）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する組成物。


［式中、Ａ^aa1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等で表される基等；Ｒ^aa2は、脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】材料選択の自由度が非常に高い光反応性化合物を含む光配向膜用又は光学異方性フィルム用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


〔式中，Ｍはホモポリマー又はコポリマーの主鎖を形成するモノマー単位であり，ＳＰＣＲはスぺーサー単位であり，環Ａは非置換若しくは置換脂環式炭化水素又は非置換若しくは置換芳香環であり，環Ｂは非置換若しくは置換芳香環であり，Ｚはアルキル基，アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，ハロゲン原子，−ＣＨ＝ＣＨＺ^１，−Ｃ≡ＣＺ^１（但し，Ｚ^１はアルキル基，アルコキシ基，アルコキシカルボニル基，アルコキシスルホニル基，シアノ基，ニトロ基又はハロゲン原子である。），−ＣＯＯＺ^２，又は−ＳＯ_３Ｚ^２（但し，Ｚ^２はアルキル基である。）である。〕で示される繰り返し単位を有する光反応性ポリマーを含んでなる，光配向膜用組成物又は光学異方性フィルム用組成物。 （もっと読む）

【課題】 ｐＨが３〜８であるラテックスおよび重合中に発生するスケールが少ないラテックスの製造方法を提供する。
【解決手段】 塩化ビニル−カルボン酸ビニルエステル共重合体１００重量部に対して、スルホン酸塩又は硫酸エステル塩を有する有機化合物０．２０〜１０．０重量部及び高級脂肪酸塩０．０５〜３．０重量部を含有し、ｐＨ３〜８であることを特徴とする塩化ビニル系共重合体ラテックス、並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】鋳型を必要とせず、微細パターンの形成を３次元的に行うことを可能とする光応答性高分子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光応答性高分子は、光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少するものである。上記光応答基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることが好ましく、上記二量化基としては、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基などが例示される。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、長寿命で、駆動電圧の上昇が小さい有機エレクトロルミネッセント素子を提供する。
【解決手段】陽極と、トリフェニルアミン構造を部分構造として含むトリアリールアミン誘導体及び電子受容性化合物を含有する正孔注入層と、式（２）で表わされる繰り返し単位を有するポリマーを含有する正孔輸送層と、トリフェニルトリアジン構造を部分構造として含むトリアリールトリアジン誘導体及び燐光発光体を含有する発光層と、陰極とがこの順序で積層されてなる有機エレクトロルミネッセント素子。


（式（２）中、Ｒ¹〜Ｒ⁸はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、または炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいシリル基を表し、Ｒ⁹は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基を表す。） （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。Ｒ２は、下記式（２）で表される酸解離性基である。
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【課題】硬化性、耐擦性及び厚膜硬化時の皺抑制に優れた紫外線硬化型インクジェット用インク組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）：
ＣＨ₂＝ＣＲ¹−ＣＯＯＲ²−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ³ ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²は炭素数２〜２０の２価の有機残基であり、Ｒ³は水素原子又は炭素数１〜１１の１価の有機残基である。）で表されるモノマーＡと、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート前記（メタ）アクリレート、光重合開始剤と、を含む紫外線硬化型インクジェット用インク組成物である。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が高い塗膜を得ることができる高分子化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜８の２価の炭化水素基を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す；ｍは１〜２０の整数を表し、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１は互いに同一でも異なっていてもよい］
で表される単量体（ａ）に由来する構造単位、及び
カルボキシ基とビニルオキシ基とを有する単量体（ｂ）に由来する構造単位
を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストポリマーに重合可能な新規光酸発生剤化合物、およびこの重合性光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）を有する化合物：


式中、Ｑはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有基であり、Ａはフッ素置換Ｃ_１−３０アルキレン基、フッ素置換Ｃ_３−３０シクロアルキレン基、フッ素置換Ｃ_６−３０アリーレン基、もしくはフッ素置換Ｃ_７−３０アルキレン−アリーレン基であり、Ｚはスルホナート、スルホンアミドもしくはスルホンイミドを含むアニオン性基であり、並びにＧ^＋は特定のカチオンである。 （もっと読む）

【課題】複素環アミノ誘導体含有化合物と重合性窒素含有誘導体含有化合物とを反応させることによって形成される準安定性窒素含有重合体を提供する。
【解決手段】重合性窒素含有誘導体含有化合物（Ａ）と複素環アミノ誘導体含有化合物（Ｂ）とを反応させることによって形成される準安定性窒素含有重合体であり、化合物（Ａ）が反応型末端官能基を備えるモノマー（単量体）であり、マレイミド含有化合物であり、化合物（Ｂ）が開始剤としての複素環アミノ誘導体である。化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とのモル比が１０：１から１：１０である。準安定性窒素含有重合体が５５℃で１ヶ月間保存された後、狭い分子量分布の変化率が２％未満である。 （もっと読む）

【目的】 優れた耐熱性を示す熱可塑性エラストマーを提供する。
【解決手段】 塩素化ポリオレフィンに下記一般式（１）で示されるマレイミド化合物をグラフト重合してなる変性塩素化ポリオレフィンを含む熱可塑性エラストマーであって、その組成が塩素化ポリオレフィン３０〜９０重量％であることを特徴とする熱可塑性エラストマー。
【化１】


（式中、Ｒ_１は芳香族基、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数３〜１２の分岐状アルキル基、又は炭素数３〜１２の環状アルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】リンの酸を含むモノマーから懸濁重合プロセスによって形成された新規ポリマービーズ組成物を提供する。
【解決手段】１）少なくとも２０〜９９．９重量パーセントのリン含有有機モノマー；および２）３０〜１０００μｍの平均サイズ；を有するポリマービーズ組成物。 （もっと読む）

【課題】活性化放射線に露光される場合に、特に、改良されたリソグラフィのための放射線に露光されるフォトレジスト組成物に使用される場合に、低いガス放出特性を有する光酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）を有する光酸発生剤化合物：


式中、Ｇは式（ＩＩ）を有し：


式（ＩＩ）において、ＸはＳもしくはＩであり、各Ｒ^０は等しくＸに結合されており、かつ独立してＣ_１−３０アルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_３−３０シクロアルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_６−３０アリール基；または前述の少なくとも１種を含む組み合わせである；ａは２もしくは３である；並びに式（Ｉ）におけるＺはスルホン酸、スルホンイミドもしくはスルホンアミドのアニオンを含む。 （もっと読む）