【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】伝送効率および受発光素子等に対する光結合効率が高く、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路１は、その光入射端部１Ａ近傍が、横断面上に線を引いたときその線上における屈折率分布がステップインデックス型になっているＳＩ部で構成され、光入射端部１Ａ近傍以外の部位は、屈折率分布がグレーデッドインデックス型になっているＧＩ部で構成されている。なお、ステップインデックス型の屈折率分布とは、屈折率が階段状に変化した分布を指し、グレーデッドインデックス型の屈折率分布とは、屈折率が高い領域とその両側にそれぞれ隣接する屈折率が低い領域とを有し、かつ屈折率が連続的に変化している分布を指す。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び耐溶剤性に優れ、かつコントラスト及び耐光性が低下しないカラーフィルタを形成し得る着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）バインダー樹脂を含有する着色硬化性組成物であって、（Ａ）着色剤が式フタロシアニン系色素とピリドンアゾ系染料とを含有する着色剤であり、（Ｃ）バインダー樹脂が、側鎖に二重結合を有する（メタ）アクリル樹脂であり、（メタ）アクリル酸から導かれる構成単位の含有量が、（Ｃ）バインダー樹脂を構成する全構成単位中、１０モル％以上４０モル％以下であることを特徴とする着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性および耐熱性がともに優れた皮膜を形成可能な蛍光性重合体およびコーティング剤を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光性化合物は、所定の構造を有する蛍光性化合物である。本発明の蛍光性重合体は、上記蛍光性化合物を重合させてなり、蛍光性化合物を構成単位として０．１質量％以上１０質量％以下の量の割合で含むことを特徴とする。本発明のコーティング剤は上記蛍光性重合体とフッ素系溶媒とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】現像性が高く、耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びにそれを用いた製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、星型ポリマー、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該星型ポリマーが、スルフィド結合を介して中心骨格からポリマー鎖が分岐し、ポリマー鎖の側鎖に酸基及び架橋性基を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂、レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す；Ｌ^１は、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^１−^＊、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−^＊、−Ｂ^１−^＊又は−Ｂ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４−^＊を表す；Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルカンジイル基、炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基、炭素数１〜８のアルカンジイル基と炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基とが組み合わさった基又はフェニレン基を表す；Ｂ^１及びＢ^２は、フェニレン基を表す；＊は−Ｏ−との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】溶液から金属、特にパラジウムを除去するスカベンジャー担体を提供する。
【解決手段】スカベンジャー担体を、リンカーを介して担体に結合した、ヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基を有する1,3-ケトエステル類又は1,3-ケトアミド類又はこれらの混合物から選択されるペンダント基を含む官能性化担体と、置換されているヒドラジン又はそれらの塩又は特定の化学構造を有するアミンとの反応により得る。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン単位、（４）インデン単位の繰り返し単位を含有し、（１）の繰り返し単位は０．５〜１０モル％、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は５０〜９９．５モル％を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 （もっと読む）

【課題】電気絶縁性及び熱伝導性が高い均質な樹脂硬化物を与え、且つ成形性に優れた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メソゲン基を含む液晶ユニットと、前記液晶ユニットの両端に結合した柔軟ユニットと、末端の重合性基とを有する化合物を含有する樹脂組成物であって、前記柔軟性ユニットは、以下の式：
【化１】


（式中、ｎは１８以下の整数である）からなる群より選択される一種以上の基を含み、且つ前記液晶ユニットの一端に結合した前記柔軟ユニットと前記液晶ユニットの他端に結合した前記柔軟ユニットとが異なることを特徴とする樹脂組成物とする。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン類単位、（４）インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、ＬＥＲの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】式（１）で表される構造単位、式（２）で表される構造単位及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、並びに酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】長寿命な有機発光素子を低コストで製造すること。
【解決手段】陽極と陰極間に、第１の発光層と第２の発光層を含む積層された複数の有機化合物層を有し、前記第１の発光層が、第１の電荷輸送性化合物および第１の発光性化合物を含み、前記第２の発光層が、第２の電荷輸送性化合物および第２の発光性化合物を含み、前記第１の発光性化合物は発光スペクトルにおいて４４０〜５００ｎｍの波長範囲に発光極大波長を有し、前記第２の発光性化合物は発光スペクトルにおいて５１０〜６５０ｎｍの波長範囲に発光極大波長を有し、前記第１の電荷輸送性化合物中に含まれる、特定の不純物に由来する塩素原子等の濃度が５０ｐｐｍ未満であり、前記第２の電荷輸送性化合物中に含まれる、特定の不純物に由来する塩素原子等の濃度が５０〜５００ｐｐｍである有機発光素子。 （もっと読む）

【課題】
脱水困難な有機性汚泥に対して、薬剤添加量を増やすことなく脱水ケーキ含水率の低減、汚泥処理量の増加を可能にする汚泥脱水方法を提供する。
【解決手段】
汚泥脱水の際に、特定の構造単位を有する高カチオン性であり、高架橋性水性高分子からなる粉末状汚泥脱水剤を添加、攪拌して凝集させた後、脱水機にて脱水することにより達成できる。前記粉末状汚泥脱水剤は、カチオン単量体共重合率が８０〜１００モル％で架橋性単量体を２０〜３００ｐｐｍ共存させ重合した油中水型エマルジョンをエマルジョンブレイクすることにより塊状化させ、乾燥後細粒化したものからなる。
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【課題】より簡単かつ簡便な位相差フィルムの製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】基板に，光反応性基を有する液晶性ポリマーと溶媒とを含んでなる組成物を塗布する工程と，該組成物を減圧乾燥するか，又は自然乾燥した後加熱乾燥することにより，該組成物中の溶媒を留去して，光反応性層を形成する工程と，該光反応性層に直線偏光を照射して，熱配向性層を形成する工程と，該熱配向性層を加熱処理する工程とを含むことを特徴とする，位相差フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジスト膜、該レジスト膜を用いたレジスト塗布マスクブランクス及びレジストパターン形成方法、並びに、化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される基により、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により形成されたレジスト膜であって、膜厚が１０〜２００ｎｍであるレジスト膜。


（式中、Ｒ_１は、炭化水素基を表す。Ｒ_２は、水素原子又は炭化水素基を表す。Ａｒは、アリール基を表す。Ｒ_１は、Ａｒと結合して、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成していてもよい。＊は前記フェノール性水酸基の酸素原子との結合位置を表す。） （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、パターン形状、液浸液追随性及びドライエッジング耐性のいずれにも優れる感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂、及び（Ｃ）アセトニトリル溶媒中で測定した波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数εが、トリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネートに対する相対比で０．８以下である放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）中、ＡＲ_１及びＡＲ_２は、芳香族基を表す。Ｒ_１は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。Ａ_１及びＡ_２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。ＺはＣ−ＡＲ_２とともに環を形成する連結基を表す。 （もっと読む）

【課題】含水率が低いセルロースアシレートフィルムの提供。
【解決手段】セルロースアシレートと、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマーと、を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム（式中、Ｒ¹は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、前記脂肪族基、芳香族基または複素環基は置換基を有していてもよい。Ｒ²は置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）。
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【課題】高感度及び高解像度であり、さらに、高透明性、高接着性、高バリア性を有する感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成される透明絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂、（Ｂ）重合性多官能化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂が、（ａ１）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び／又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、（ａ２）エチレン性不飽和結合を有し、かつ、オキセタン環を有するオキセタンモノマーと、（ａ３）エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマー（前記（ａ１）及び（ａ２）のモノマーを除く）と、の共重合体からなる樹脂である感光性樹脂組成物及びこの樹脂組成物を用いて形成された透明絶縁膜。 （もっと読む）