【課題】電極／セパレータ間に十分な接着性を有すると共に、内部抵抗が低く、高レート特性にすぐれた電池を製造するために好適に用いることができるセパレータのための反応性ポリマーを担持させた多孔質フイルムと、そのような反応性ポリマー担持多孔質フイルムを用いる電池の製造方法を提供する。
【解決手段】分子中に３−オキセタニル基とエポキシ基とから選ばれる少なくとも１種の反応性基を有する架橋性ポリマーを酸無水物と反応させ、一部、架橋させてなる反応性ポリマーを基材多孔質フィルムに担持させることからなる電池用セパレータのための反応性ポリマーを担持させた多孔質フイルムが提供される。更に、電極／反応性ポリマー担持多孔質フイルム積層体を電池容器内に仕込んだ後、カチオン重合触媒を含む電解液を上記電池容器内に注入して、多孔質フィルムと電極を接着することからなる電池の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】含フッ素共重合体の層と非フッ素樹脂の層との接着性に優れる積層体からなる流体搬送ライン用物品の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレン及び／又はクロロトリフルオロエチレンに基づく繰り返し単位（ａ）およびカルボニル基を含有する含フッ素共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／エチレン／（パーフルオロエチル）エチレン／無水イタコン酸共重合体。）の層（Ａ）と非フッ素樹脂の層（Ｂ）とが直接積層されてなる積層体からなり、流体接触面が前記含フッ素共重合体の層（Ａ）の表面からなる流体搬送ライン用物品。 （もっと読む）

【課題】レジスト下層膜材料であって、特に短波長での露光に対して、単独で又は反射防止効果のあるレジスト中間層膜と併せることで優れた反射防止効果を示し、すなわち最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラックなどよりも基板エッチング時のエッチング耐性に優れ、多層レジストプロセス、例えば２層又は３層レジストプロセスでの使用に好適なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２２】
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【課題】 耐熱性とともに透明性が高く、光学用途に使用したときに、優れた特性を有する新規なマレイミド系共重合体を提供する。
【解決手段】 (a)下記一般式(1)および(2)で表される構造単位から選ばれる少なくとも１種と、(b)下記一般(4)で表されるマレイミド骨格を有する構造単位とからなるマレイミド系共重合体。前記共重合体中の構造単位(a)と、構造単位(b)との量比（モル比）が、９５：５〜３０：７０の範囲にある。


（式中、Ｒ¹は有機基を示し、Ｒ²はアルキル基、アシル基を示す。Ｒ³は水素原子またはメチル基であり、Ｘは式(3)で示す置換基を表す。Ｒ⁴は有機基を示し、Ｒ⁵はアルキル基またはアシル基を示す。m,nは０〜２の数であり、pは１〜５の数である。Ｒ⁶はアルキル基または脂環式基である） （もっと読む）

【課題】 耐熱性が高く、アクリル系樹脂やスチレン系樹脂と同様に取扱いが容易（例えば成形性等）な樹脂が求められていた。
【解決手段】 マレイミド単位、グルタルイミド単位、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル単位、更に必要により芳香族ビニル単位を含有して形成されるイミド樹脂を提供した。
アクリル系樹脂やスチレン系樹脂と同様の成形法で成形が可能であり、これらに比べ、非常に高い耐熱性を有している。 （もっと読む）

【課題】微細加工技術に適したレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される含フッ素化合物。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基である。Ｒは水素原子又は保護基である。）
【効果】 本発明の高分子化合物を用いたレジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性、小さいラインエッジラフネス、優れたエッチング耐性、特に、エッチング後の表面ラフネスが小さい特性を有している。フッ素重合性エステル化合物は高分子化合物、機能性材料、医薬・農薬などの原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、かつ、フェノール様酸性水酸基を有するため現像特性の良好な感放射線レジストを製造するためのポリマー単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

本発明のレジスト用重合体は、シアノ基を有する特定の構成単位と酸脱離性基を有する構成単位とラクトン骨格を有する特定の構成単位とを含有するものであり、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー、電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に高感度、高解像度であり、レジストパターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスの発生、マイクロゲルの生成が少ない。 （もっと読む）

【課題】含浸シーラー及び防水シーラーをウェットオンウェットで塗装することによって、防水シーラーと基材との間で温水でのハクリを防止し、同時に優れた防水性を付与できる水性シーラーの塗装方法及びそれにより得られる塗装物を提供する。
【解決手段】基材に水性シーラー（ａ）を塗装する工程（１）、及び、工程（１）を行うことにより得られた基材に水性シーラー（ｂ）を塗装する工程（２）を含んでなる水性シーラーの塗装方法であって、水性シーラー（ａ）は、組成を特定したスチレンー（メタ）アクリル酸アルキルエステル系共重合体エマルション樹脂（ａ１）と、水溶性珪酸塩（ａ２）とを含有し、水性シーラー（ｂ）は、組成を特定したスチレンー（メタ）アクリル酸アルキルエステル系共重合体エマルション樹脂（ｂ１）を含有するものであり、工程（１）及び上記工程（２）は、ウェットオンウェットで行われる。 （もっと読む）

本発明は、エチルメタクリレート、少なくとも1種類のα,β-エチレン性不飽和アミド基含有化合物及び少なくとも1種類のモノエチレン性不飽和カルボン酸を重合して含んでいるコポリマーに関する。本発明は、さらにまた、少なくとも1種類のそのようなタイプのコポリマーを含んでいる化粧品及び医薬品、並びに、それらのコポリマーの使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】 皮膚刺激性が少なく、架橋剤を使用しなくても粘着力と凝集力とのバランスに優れた、皮膚貼着材の粘着剤層に有用なアクリル系ポリマー、それを含む皮膚貼着用粘着剤、その粘着剤を用いた皮膚貼着材を提供する。
【解決手段】 本発明のポリマーは、３官能以上の多価メルカプタンの存在下で重合性モノマーの重合を行うことにより得られるポリマーであり、ポリマー部分の全構造単位の５０〜１００重量％が炭素数７〜１７の（メタ）アクリル酸アルキルエステル構造単位である星型アクリル系ブロックポリマーであって、炭素数７〜１７の（メタ）アクリル酸アルキルエステルの残存量が全不揮発分に対して９００ｐｐｍ以下である。 （もっと読む）

フルオロエラストマーを調製するのに適するフルオロポリマー。フルオロポリマーは、一般に、モノマーであるテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン由来の繰り返し単位、及び任意に、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン及びクロロトリフルオロエチレン以外のフッ素化モノマー由来の１種以上の繰り返し単位を含む。 （もっと読む）

本発明の目的は、上記現状に鑑み、耐薬品性、耐溶剤性、耐候性、防汚性、薬液低透過性、非粘着性等のフッ素樹脂本来の特性を損なうことなく、成形性、生産性、層間接着性と耐ストレスクラック性、特に各種薬液と接触する場合における耐ストレスクラック性に優れた含フッ素成形体及び積層体を与えることができるフルオロポリマーを提供することにある。本発明は、オリゴマーを含有するか又はオリゴマーを含有していないフルオロポリマーであって、上記オリゴマーは、分子量が１００００以下であり、上記フルオロポリマーの質量の０．０５質量％以下であることを特徴とするフルオロポリマーである。 （もっと読む）

架橋した直線状ポリ（ビニルアミド／重合可能なカルボン酸）コポリマーであるレオロジー調整剤／ヘアスタイリング樹脂は、高粘度及び長続きするカール保持力という有利なヘアケア特性を示す。 （もっと読む）

本発明は、重合性混合物、基体に対する改良された接着性を有するポリマーフィルムの製造おけるその使用、そのようなポリマーフィルムの製造方法、そのようなポリマーフィルムを含む多層フィルム、さらに、該混合物またはフィルムの光学、電気光学、装飾または安全保障装置および用途における使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、任意の順序で、（ｉ）ポリマー（Ａ１）を式（５）、Ｒ^９（ＣＨＯ）_ｎ、の少なくとも１のポリアルデヒドと反応させ、かつ（ｉｉ）少なくとも部分的に式（１）および式（４ａ）の基を相互にエステル化することによりカルボキシル基を有するポリビニルアルコール（Ａ１）を架橋させる、架橋したポリビニルアセタールの製造方法に関する。さらに本発明は、（ｉ）ポリマー（Ａ２）を式（６）の少なくとも１の化合物と反応させ、（ｉｉ）式（４ｂ）の少なくとも１の化合物を添加し、（ｉｉｉ）式（５）のポリアルデヒドを添加し、かつ（ｉｖ）少なくとも部分的に式（１）の基および式（４ｂ）の化合物から誘導される構造単位を相互にエステル化することによりポリビニルアルコール（Ａ２）を架橋させる、架橋したポリビニルアセタールの製造方法に関する。その際、基Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１ならびに指数ｎは記載に従って定義されている。さらに本発明は本方法により得られる架橋したポリビニルアセタールならびに該ポリマーの特に有利な適用分野に関する。
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ビニルアルコールコポリマーを少なくとも１のポリアルデヒドと反応させ、かつ部分的にエステル化する、架橋したポリビニルアセタールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性基（ｉ）として、アルコール性水酸基、カルボキシル基、およびフェノール性水酸基から選択されるいずれか一つの置換基が、下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ_１は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で保護されていることを特徴とする高分子化合物を用い、本発明のフォトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を構成する。 （もっと読む）

【課題】よって、レンズ調合物に混入され、表面処理なしに当該レンズの湿潤性を改良できる別の親水ポリマーを提供する。
【解決手段】本発明は、少なくとも1個のシロキサン含有成分と、少なくとも1個の反応性親水ポリマー内部湿潤剤の反応生成物を含む湿潤性シリコーンハイドロゲルに関する。本発明は、さらに、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズであって、少なくとも1個の酸素透過性成分と、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズに湿潤性を付与するのに十分な量の反応性親水ポリマー内部湿潤剤を含むシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズに関する。 （もっと読む）

本発明は、両性共重合体と、1種の上記の両性共重合体を含有する高分子電解質錯体と、少なくとも1種の両性共重合体もしくは高分子電解質錯体を含有する化粧品または医薬剤とに関する。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
【解決手段】（Ａ）特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）