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Fターム[4J127BD31]の内容

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Fターム[4J127BD31]に分類される特許

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【課題】光透過率に優れ、しかも、密着性、耐摩耗性に優れた特性を有する、ハードコート用組成物を提供する。
【解決手段】炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数6〜20のアリール基のうち少なくとも1種を含有するジアルコキシシラン(イ)1〜10モル%と(メタ)アクリル基を含有するトリアルコキシシラン(ロ)90〜99モル%(ただし、ジアルコキシシラン(イ)とトリアルコキシシラン(ロ)との合計を100モル%とする。)とからなるポリシロキサンであって、まずトリアルコキシシラン(ロ)を加水分解、縮合反応することによって得られるラダー型及び/又はランダム型のシルセスキオキサン誘導体の存在下で、つぎにジアルコキシシラン(イ)を反応系に加えて加水分解、縮合反応することによって得られるポリシロキサンを含有するハードコート用組成物。 (もっと読む)


【課題】光透過率や屈折率等における優れた光学特性に加えて離型性、耐熱性、機械強度に優れた特性を有する、成形型を用いた成形方法に好適な光学部品用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基を含有するトリアルコキシシラン(イ)と(メタ)アクリル基を含有するトリアルコキシシラン(ロ)とをモル比1:99〜90:10の範囲で加水分解、縮合反応することによって得られる重量平均分子量が1500〜30000のラダー型及び/又はランダム型のシルセスキオキサン誘導体、
(B)分子中に少なくとも一つの(メタ)アクリル基を含有する化合物、及び
(C)重合開始剤
を含有することを特徴とする光学部品成形用樹脂組成物。 (もっと読む)


【目的】本発明は、従来のアルコキシ基を残存させたシルセスキオキサンおよびこれを含有する硬化性組成物の安定性が非常に悪いという欠点を解消した紫外線硬化が可能な実質的にシラノール基を含まないシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式(1):R1Si(OR23(1)(式中、R1は少なくとも1つのエポキシ基を有する炭素数1〜8の炭化水素基、または少なくとも1つのエポキシ基を有する芳香族炭化水素基を表し、R2は水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す)で示されるエポキシ基含有アルコキシシラン類(a1)およびエポキシ基を有しない金属アルコキシド類(a2)を{(a2)のモル数}/{(a1)のモル数と(a2)のモル数との合計}(モル比)が0.8以下となるように含有する混合物を、固体触媒を用いて加水分解、縮合させることによって得られる実質的にシラノール基を含まないエポキシ基含有シルセスキオキサン(A)ならびにエポキシ樹脂用硬化剤(B)を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。を用いる。 (もっと読む)


【課題】屈折率が低く、更には、基板に対する密着性に優れ、かつ高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】(A)中空又は多孔質粒子と、(B)光重合開始剤と、(C)アルカリ可溶性基及び重合性基を含む1価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、アルカリ可溶性基を含む1価の基を有する珪素原子を含有する構造単位と、重合性基を含む1価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、又はアルカリ可溶性基を含む1価の基と重合性基を含む1価の基とを有する珪素原子を含有する構造単位を少なくとも含有する化合物、とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。 (もっと読む)


【課題】高い耐熱性を有し、透過率が高く透明で、尚且つ強靭性を有した成形体を得ることができる硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で示されるラジカル反応性基を有したかご開裂型構造を有する硬化性シリコーン樹脂、及びラジカル重合開始剤を含む硬化型樹脂組成物であり、式中、Rはアルキル基、アリール基、又は不飽和結合を有する反応性官能基を示し、その少なくとも1つは反応性官能基であり、Rは不飽和結合を有する反応性官能基を示し、Rは炭素数アルキル基若しくはアルコキシ基又は炭素数アリール基若しくはアリールオキシ基を示し、RはRに由来する2価の基を示し、Rは芳香環を含む2価の基を示し、mは1〜1000の数であり、nは6〜14の数であって、nが奇数のときaは2、nが偶数のときaは1である。


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【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱NILおよび光NILを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式(I):


(式中、Xは−Y−Aで示され、複数のXが存在する場合、Xは同一または異なっていてもよく、Aはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Yは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される3〜10個の元素からなる連結基である)で示されるT単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 (もっと読む)


【課題】重合性官能基及び紫外線吸収性基を有し、得られる塗膜の耐熱性、耐擦傷性、耐候性に優れるシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが下記一般式(I)で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法。
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【課題】耐薬品性、耐摩耗性および接着性に優れ、良好な光硬化性を有し、更には経時によっても安定であり、光照射後に熱処理を施すことなく良好な光硬化性を示すポリオルガノシロキサン構造を有するグラフト重合体およびこれを利用した光重合性樹脂組成物を与える。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン構造ユニットと、側鎖に重合性二重結合を有する繰り返し単位を有する構造ユニットが硫黄原子を介して結合したポリオルガノシロキサングラフト重合体を用いる。 (もっと読む)


【課題】レジスト材料、封止材料、積層材料、接着剤、粉体塗料等に好適な(メタ)アクリロイルオキシ基含有篭状シルセスキオキサン化合物およびその製造方法の提供する。
【解決手段】下式(I)で表される篭状シルセスキオキサン化合物を、末端二重結合を有するエポキシ化合物に10〜200℃で付加反応させ、次いで導入されたエポキシ基に(メタ)アクリル酸を60〜150℃で反応させることにより得られる(メタ)アクリロイルオキシ基含有篭状シルセスキオキサン化合物。


(式中、R1はそれぞれ独立して炭素原子数が1〜5のアルキル基を示す。) (もっと読む)


【課題】加熱硬化後のインプリント性、基板密着性、耐熱性および表面硬度に総合的に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】A)シランカップリング剤、B)高分子ケイ素化合物、C)光重合性単量体およびD)光重合開始剤を含有することを特徴とする光ナノインプリント用組成物。A)シランカップリング剤が重合性基を含有し、B)高分子ケイ素化合物が、シルセスキオキサンである、光ナノインプリント用組成物。A)シランカップリング剤が重合性基を含有する光ナノインプリント用組成物。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐光性、耐熱性等を維持しつつ、高い屈折率を併せ持つシルセスキオキサン誘導体、その製造方法を提供する。
【解決手段】X0−A−Y0−
(Aはチオウレタン結合を、X0は環状エーテル基又は不飽和二重結合を含有する炭化水素又はチオウレタン結合及び/若しくはシルセスキオキサン構造を含有してもよい炭化水素基を、Y0は直接結合又は炭化水素基を表す。)で表されるチオウレタン結合含有基、及び、
(R0SiO3/2)n
(R0は環状エーテル基又は不飽和二重結合を含有する炭化水素基、上記Y0との直接結合又は環状エーテル基も不飽和二重結合も含有しない炭化水素基を表し、少なくとも一つはY0との直接結合を表し、且つ、少なくとも一つは環状エーテル基又は不飽和二重結合を含有する炭化水素基を表す。)で表されるシルセスキオキサン構造残基を含有するシルセスキオキサン誘導体。 (もっと読む)


【課題】耐化学性、絶縁性、平坦性、耐熱性、光透過率、接着性などの性能に優れ、塗膜硬化後基板の工程温度変化による収縮、膨張などの熱変形に対する亀裂抵抗性及び接着性に優れ、液晶表示素子の保護膜用絶縁材料に適した有機・無機複合体樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)エチレン性不飽和基と芳香族炭化水素基を含むポリ脂肪族芳香族シルセスキオキサン;(b)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物と、1つ以上のアクリル系不飽和化合物とを共重合させて得られた、アクリル系共重合体;(c)2つ以上のエチレン性不飽和結合を有する単量体化合物;及び(d)エポキシ基またはエチレン性不飽和結合を有するシリコン系化合物を含むことを特徴とする有機・無機複合体樹脂組成物。 (もっと読む)


本発明は、反射防止コーティングに有用なシルセスキオキサン樹脂であって、式:(PhSiO(3-x)/2(OR’)xm(HSiO(3-x)/2(OR’)xn(MeSiO(3-x)/2(OR’)xo(RSiO(3-x)/2(OR’)xp(式中、Phはフェニル基であり、Meはメチル基であり、Rは反応性の有機官能基又は硬化性基から選択され、R’はヒドリド基又は炭化水素基であり、xの値は0、1又は2であり、mの値は0.01〜0.97であり、nの値は0.01〜0.97であり、oの値は0.01〜0.97であり、pの値は0.01〜0.97であり、且つm+n+o+p=1)を有するシルセスキオキサン樹脂に関する。この樹脂は高温でベークすると硬化する。代替的に、この組成物は、樹脂の硬化プロファイルを改善するために、遊離基開始剤、又は熱酸若しくは光酸及び熱塩基若しくは光塩基のような他の添加剤を含み得る。さらに、シルセスキオキサン樹脂におけるヒドリド基の存在が、193nmのARC材料としての所望の剥離能に必須である。 (もっと読む)


【課題】耐イオンエッチング性および耐熱性を改善したポリシルセスキオキサンならびに該ポリシルセスキオキサンからなる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】式(1a)で表されるケイ素化合物R1aSi(OR23または、式(1b)で表されるケイ素化合物R1bSi(OR33と、式(1b)で表されるケイ素化合物R1bSi(OR33および式(1c)で表されるケイ素化合物R1c1dSi(OR42からなる群から選択される1種以上のケイ素化合物とを含む混合物を加水分解後、縮合させて得られる芳香環およびビニル基を有するケイ素化合物。 (もっと読む)


【課題】シリコーン樹脂シートに対して、切断面におけるマイクロクラックの発生やそれによる曲げ強度の低下を十分に防止しつつ打ち抜き加工することを可能にする。
【解決手段】シリコーン樹脂組成物から形成されたシリコーン樹脂シート21の打ち抜き加工方法であって、下方に向って被切断形状に配設された切断刃3とその内側及び外側に沿ってそれより高く敷設された弾性材4とを備えた上型1、2を配置すると共に、上型の下に上型の切断刃と対向するように上方に向って被切断形状に配設された切断刃13とその内側及び外側に沿ってそれより高く敷設された弾性材14とを備えた下型11、12を配置し、上型と下型との間にシリコーン樹脂シートを移送して位置決めし、上型及び/又は下型を両者の接近方向に、各切断刃の刃先がシリコーン樹脂シートにその上面及び下面から各々打ち込まれるように押圧する。 (もっと読む)


【課題】無機ガラスのような特性とプラスチックのような特性とを備え、且つ耐屈曲性に優れた硬質透明基板を利用し、各種表示装置用電子材料を積層してなる表示装置を提供する。
【解決手段】硬質透明基板は、一般式(1)で表される硬化性樹脂を硬化させて得られ、硬化性樹脂は、式(2)で計算されるKpが0.68〜0.8の密な構造部位(A)とKpが0.68未満の疎な構造部位(B)とを有し、構造部位(A)/(B)の重量比は0.01〜5.00であり、少なくとも一つの不飽和結合を有して平均分子量が800〜60000である。
-{(A)-(B)mn- (1)
(mおよびnは1以上の整数)
Kp=An・Vw・p/Mw (2)
(An=アボガドロ数、Vw=ファンデアワールス体積、p=密度、Mw=分子量、Vw=ΣVa、Va=4π/R3−Σ1/3πhi2(3Ra−hi)、hi=Ra−(Ra2+di2−Ri2)/2di、Ra=原子半径、Ri=結合原子半径、及びdi=原子間距離) (もっと読む)


【課題】エネルギー線照射により極めて短時間で硬化可能で成形性に優れた光硬化性樹脂組成物を提供する
【解決手段】分子の末端又は側鎖に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、分子量が5,000〜100,000のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー1種以上と、単官能(メタ)アクリレート1種以上とからなる光硬化性樹脂組成物と、下記式で表される化合物であるシルセスキオキサン化合物と、光重合開始剤と、酸化防止剤と光安定剤との少なくとも1種以上とを含有してなる樹脂組成物。
【化1】


(式中Rは、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のハロゲン化アルキル基、フェニル基、ハロゲンで置換されたフェニル基、ヒドロキシル基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、エポキシ基、オキセタニル基のいずれから選ばれる1種以上の官能基を有し、mは重合度を表す。) (もっと読む)


【課題】
物性向上のための新規なエチレン性不飽和基含有ケイ素化合物と、低カールでクラックの発生が少なく硬化塗膜は硬度が高い感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸(1)とエポキシ基含有ケイ素化合物(2)との反応物であるエチレン性不飽和基含有ケイ素化合物(A)。 (もっと読む)


【課題】 単分散で粒子径分布が狭く、かつ、柔軟で弾力性に優れた重合体微粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ビニル基を有するポリシロキサンと、25℃の水に対する溶解度が10質量%以下であり、かつ、1分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有する重量平均分子量(Mw)300以上の2官能オリゴマーを必須成分とする重合性成分を重合させて得られるものである重合体微粒子。 (もっと読む)


【課題】 レンズ、光ディスク、光ファイバー及びフラットパネルディスプレイ基板等の光学用途や自動車の窓材等に適し、耐熱性が高く、着色が少なく、熱膨張係数が低く、透明導電膜を安定に成膜することができ、巻き取り性が良く、複屈折が小さいロールフイルムに使用可能なシリコーン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 [RSiO3/2]n (但し、Rは(メタ)アクリロイル基を有する有機官能基であり、nは8、10又は12である)で表され、構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンを主たる成分とするシリコーン樹脂と、分子中に−R3−CR4=CH2又は−CR4=CH2で表される不飽和基とを含み、シリコーン樹脂とラジカル共重合が可能なウレタン結合を有するオリゴマーと、それ以外の共重合が可能な不飽和化合物を、5〜80:1〜50:0〜80の重量割合で配合したシリコーン樹脂組成物。 (もっと読む)


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