【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成した場合に、得られたパターン膜の柔軟性を高めることができ、従ってパターン膜の耐久性を高めることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物を重合させることにより得られたシロキサンポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物に、下記式（１）で表され、かつ下記式（１）中のｐが２であるシラン化合物が含まれており、上記シロキサンポリマーの重量平均分子量が５００〜６００００の範囲内にあり、上記シロキサンポリマーの固形分酸価が５〜８００ＫＯＨｍｇ／ｇの範囲内にある感光性組成物。
Ｓｉ（Ｘ）_ｐ（Ｒ）_４−ｐ ・・・式（１）
上記式（１）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒは炭素数１〜３０の非加水分解性の有機基を表し、ｐは１〜４の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を形成する際に、露光後にベイク工程を行う必要がなく、さらにパターン膜に金属が接触されている場合、金属のマイグレーションを抑制できる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、オレフィン二重結合を有する化合物と、光ラジカル発生剤とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物を基板２上に塗工し、基板２上に感光性組成物層１を形成した後、感光性組成物層１を部分的に露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を硬化させて、現像液に不溶にし、次に感光性組成物層１を現像液で現像することにより、未露光部１ｂの感光性組成物層１を除去するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポリジメチルシロキサンのようなもろい材料からなる型を用いる転写成型プロセスに適した、成型性に優れる高屈折率感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｃ）成分：（ａ）下記一般式（１）：


で示されるシラノール化合物、下記一般式（２）：


で示される少なくとも１種のアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部、（ｂ）光重合開始剤０．１〜３０質量部、及び（ｃ）１分子内に３つ以上のアクリロイル基を有する化合物５〜３００質量部、を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料、封止材料、積層材料、接着剤、粉体塗料等に好適な（メタ）アクリロイルオキシ基含有篭状シルセスキオキサン化合物およびその製造方法の提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表される篭状シルセスキオキサン化合物を、末端二重結合を有するエポキシ化合物に１０〜２００℃で付加反応させ、次いで導入されたエポキシ基に（メタ）アクリル酸を６０〜１５０℃で反応させることにより得られる（メタ）アクリロイルオキシ基含有篭状シルセスキオキサン化合物。


（式中、Ｒ¹はそれぞれ独立して炭素原子数が１〜５のアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】有機薄膜上での塗布時の濡れ性、ＵＶ−ｉ線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、低温硬化が可能である感光性ポリオルガノシロキサン組成物、これを用いたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）特定構造のシラノール化合物と特定構造のアルコキシシラン化合物とを、触媒の存在下で水添加を行うことなく重合させて得られるポリシロキサン１００質量部、（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部、（ｃ）非イオン性界面活性剤０．０１〜１０質量部、並びに（ｄ）アルコール性水酸基を有する化合物及びケトン化合物から選択される少なくとも１種の有機溶媒１０〜１５０質量部、を含む感光性ポリオルガノシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】
接着性，耐熱性に優れ、かつ二酸化炭素排出量を減らすことにより環境への負荷を低減することが可能な不飽和ポリエステル樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、１分子中にフェノール性水酸基を平均２〜４個持つリグニン、あるいは１分子中にフェノール性水酸基を平均２〜４個持つリグニン由来のリグノフェノールと、１分子中に少なくとも１個の二重結合を持つ二価のカルボン酸との重合反応によって得られる不飽和ポリエステル成分を用いる。 （もっと読む）

【課題】主鎖中にハードセグメント、ソフトセグメント、及び酸二無水物に基づくカルボキシル基を有し、更に主鎖又は側鎖中にリン原子を含有するポリエステル樹脂を提供する。
【解決手段】少なくとも２個以上のエステル結合と両末端にヒドロキシル基を有し、ガラス転移温度が０℃を超えかつ数平均分子量が８００〜４０００であるエステル結合含有ジオールオリゴマーに基づくハードセグメントと、少なくとも２個以上のエステル結合と両末端にヒドロキシル基を有し、ガラス転移温度が０℃以下でありかつ数平均分子量が８００〜４０００であるエステル結合含有ジオールオリゴマーに基づくソフトセグメントを有し、リン原子を０．５〜７重量％含有させたポリエステル樹脂。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、重合性に優れ、かつ硬化後は樹脂強度に優れる樹脂を得ることができる活性エネルギー線硬化性ウレタン樹脂の製造方法を提供することにある。
【解決手段】ポリオール成分（ａ）、イソシアネート成分（ｂ）、活性エネルギー線重合性基を分子内に１個又は２個以上有しイソシアネート基又は水酸基と反応し得る官能基を分子内に１個又は２個以上有する成分（ｃ）とを、活性水素基を有しない溶剤（Ｂ）中で重合反応させ、活性エネルギー線重合性基を分子内に１個または２個以上有する活性エネルギー線硬化性ウレタン樹脂（Ａ）を製造する製造方法において、モノアルコール（ｄ）の含有量が１００ｐｐｍ以下である溶剤（Ｂ）を使用することを特徴とする活性エネルギー線硬化性ウレタン樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
機械強度等の基本的性能を充分なものとしながら耐熱性や耐溶剤性等の特性が顕著に向上されたものであり、高温環境下においても各種物性の低下が低い硬化物を形成できる硬化性組成物として、特に、パワーモジュール用絶縁材料、アセンブリ用接着剤、航空／宇宙産業用接着剤等に好適に使用することができるシロキサン化合物、及び、このようなシロキサン化合物を含有する硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
イミド結合及びシロキサン結合を有するシロキサン化合物（Ｉ）であって、上記シロキサン化合物（Ｉ）は、分子骨格中及び分子末端にイミド結合を有することを特徴とするシロキサン化合物（Ｉ）である。 （もっと読む）

【課題】耐酸性、耐アルカリ性に優れ、電気絶縁性の良好な熱硬化性成形材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）不飽和ポリエステル樹脂及び／又はエポキシエステル樹脂、（Ｂ）反応性希釈剤、（Ｃ）低収縮剤、（Ｄ）硫酸バリウム、（Ｅ）耐酸・耐アルカリ性ガラス繊維及び（Ｆ）硬化促進剤を含む熱硬化性成形材料であって、（Ｅ）耐酸・耐アルカリ性ガラス繊維がＳｉＯ₂５５〜６２質量％、ＺｒＯ₂１９〜２２質量％、Ｎａ₂Ｏ１２〜１８質量％を含むことを特徴とする熱硬化性成形材料および同熱硬化性成形材料を成形してなる成形体である。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジストとして必要な、現像性、硬度、耐熱性、感度だけでなく、優れためっき耐性及び保存性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤及び下記一般式（１）で表される化合物を含有してなることを特徴とする。
【化５３】


ただし、前記一般式（１）中、Ｒは、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、及びヘテロ環残基のいずれかを表す。Ｌは、２価の有機連結鎖を表し、２つの窒素原子及び炭素原子を介して環を形成する。 （もっと読む）

【課題】十分な現像性を得ることができると共に、厚膜で解像度よく像形成を行うことが可能な感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）〜（３）で表される構成単位を有するポリアミック酸と、（Ｂ）光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物。


ここで、Ａｒ^１はテトラカルボン酸二無水物残基、Ａｒ^２及びＡｒ^３はそれぞれ独立にジアミン残基、Ｒ^１はエチレン性不飽和基を示し、Ａｒ^１及びＡｒ^２の少なくとも一方は主鎖に炭素数５〜２０のアルキレン基を有する。 （もっと読む）

【課題】製膜条件によらず、安定して優れた撥液性を示す撥液性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシエステル化合物と、多塩基性カルボン酸またはその無水物とを、反応させることにより得られる、縮環構造含有アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）と、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）とを含む撥液性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】液体状態での揮発性が低く、硬化性に優れ、かつ良好な硬度を有する硬化物を与える多官能（メタ）アクリルアミド化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）（２）で表される構造単位を有し、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）３または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）３であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である多官能アクリルアミド化合物。


（式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す。）


（式中、Ｘは（メタ）アクリルアミド基を示す。） （もっと読む）

【課題】２４℃で２週間放置してもエッジフュージョンが発生せず、輸送時の移動や３０ｃｍの高さからの落下においても巻きズレが生じることなく、６０〜９０℃において気泡が入ることなく１μｍ〜４０μｍの段差の埋め込みができる感光性フィルム等の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層を少なくとも有し、感光層が、架橋性基を有するバインダーを少なくとも含有する感光性組成物からなり、バインダーに架橋性基を導入するための触媒の残存量が２００ｐｐｍ以下であり、２４℃における溶融粘度が１．０×１０^５Ｐａ・ｓ〜１．０×１０^７Ｐａ・ｓであり、かつ６０〜９０℃における溶融粘度が１．０×１０^２Ｐａ・ｓ〜５．０×１０^４Ｐａ・ｓであり、感光性フィルムをロール状に巻回してロール体とする際の巻き取りテンションが１．６ｋｇ／１０ｃｍ以上であり、前記ロール体の両端面に端面押さえを有する感光性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐湿熱性、密着性、低吸水性、機械特性、電気特性等の様々な特性に優れた高性能な硬化膜（ソルダーレジストパターン、永久パターン）を得ることができる感光性組成物、及び前記感光性組成物を利用した感光性フィルム、並びに、前記感光性組成物又は前記感光性フィルムを利用した永久パターン形成方法、及び永久パターンを提供すること。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、熱架橋剤、及び光重合開始剤を含んでなり、前記バインダーが、特定のフェノール化合物から誘導されるエポキシ化合物に、感光性基及び酸基を導入して得られる特定の化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、及び前記感光性組成物を利用した感光性フィルム、並びに、前記感光性組成物又は前記感光性フィルムを利用した永久パターン形成方法、及び永久パターンである。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率であり、かつ機械的強度に優れたシリカ系膜およびその製造方法、ならびにシリカ系膜の形成に用いられる絶縁膜形成用組成物の提供。
【解決手段】本発明の一態様に係る絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１つと、下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とをアルカリ触媒を用いて加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は、同一または異なり、アルキル基を示し、Ｘは、ビニル成分を有する基を示す。）・・・（１）Ｒ^９_a（Ｒ^１０Ｏ）_３−aＳｉ−（Ｒ^１３）_c−Ｓｉ（ＯＲ^１１）_３−bＲ^１２_b・・・（２）Ｒ^１４_ｄＳｉ（ＯＲ^１５）_４−ｄ・・・（３） （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】重合性不飽和結合を有するポリシロキサン、および１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物に対する接着性に優れ、モールドから脱型し易く、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供する。
【解決手段】ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含み、前記(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）が下記一般式(I)：


［式中、Ｒ¹は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ²は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）とヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ２）とを含むことを特徴とするインプリント成形用組成物である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、絶縁膜、さらに詳しくは、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有する膜が形成可能な、しかも誘電率、ヤング率などの膜特性に優れた絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】シロキサン構造を有する化合物を含む膜に周波数５．８ＧＨｚのマイクロウエーブを照射して形成される絶縁膜。 （もっと読む）