【課題】透過特性に優れ、かつ膜応力が小さくクラックの発生がないケイ素化合物膜を提供する。
【解決手段】第一段階で、ガラス基板１上に、アルキル基がＳｉに結合されたシロキサン骨格の低分子材料に溶媒，シリカ粒子を混合したペースト材料２ａをダイコートを用いて塗布する。塗布後、低沸点の溶媒を揮発させるために、６０〜１００℃の範囲で大気中にて乾燥し、その後、２００℃〜３００℃の範囲で大気雰囲気中において熱処理によって硬化反応させ、酸化ケイ素を主体とする膜２ｂを形成する。第二段階では、含まれるシリカ粒子が溶媒を除いた固形分の体積比で１５％含有するペースト材料３ａを、第一段階で形成した膜２ｂ表面上に塗布する。塗布量は硬化後の膜３ｂの膜厚が約０．５μｍとなるように塗布し、乾燥，熱硬化処理を行い、前記膜２ｂを酸化ケイ素を主体とした膜４とする。 （もっと読む）

【課題】高性能多孔性絶縁膜を得るために、期待される誘電率、機械強度を満たし、化学的安定性に優れる多孔質膜を形成できる有機酸化ケイ素微粒子等を提供する。
【解決手段】無機酸化ケイ素、又はケイ素原子に直接結合した炭素原子を有する有機基を含有する第１有機酸化ケイ素からなる内核と、内核の外周に、ケイ素原子に直接結合した炭素原子を有する有機基を含有する有機基含有加水分解性シラン、又は有機基含有加水分解性シランと前記有機基を含有しない有機基非含有加水分解性シランの混合物からなる外殻形成用成分を塩基触媒の存在下で加水分解性縮合して得られる、第１有機酸化ケイ素とは異なる第２有機酸化ケイ素からなる外殻とを備えてなる有機酸化ケイ素微粒子であって、全炭素原子数［Ｃ］と全ケイ素原子数［Ｓｉ］との比［Ｃ］／［Ｓｉ］が、内核では０以上１未満であり、外殻では１以上である有機酸化ケイ素微粒子を提供する。 （もっと読む）

本発明は、ＭＱ（ＯＨ）型のヒドロキシル化シリコーン樹脂Ａと、ヒドロキシル化シリコーンゴムＢと、Ｄ^Vi及び／又はＭ^Vi単位を有する、ＭＱ型又はＭＱ（ＯＨ）型のビニル官能性シリコーン樹脂Ｅである第３成分と、を含むシリコーン組成物に関するものである。また、本発明は、当該シリコーン組成物の製造方法、当該架橋シリコーン組成物で少なくとも部分的に覆われた支持体を備える複合材、及び、当該シリコーン組成物の、支持体上に接着力を付与する目的で該支持体の表面を完全に又は部分的に被覆するための使用に関するものでもある。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記一般式（１）で表される構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。


（Ｘは、置換されていてもよいメチレン基、又は置換されていてもよい炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

（Ａ）少なくとも１種のチオフェンイル置換シランと架橋剤とを、有機溶剤の存在下で水と反応させて、加水分解生成物を含有する有機相と水性相を形成し、有機相を水性相から分離することにより製造される加水分解生成物、ならびに（Ｂ）有機溶剤を含むシリコーン組成物。上記シリコーン組成物を塗布してフィルムを形成し、そのフィルムを硬化することにより製造された硬化ポリシロキサンを含む正孔輸送／正孔注入層を含有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）。 （もっと読む）

【課題】コンタクトレンズ用に十分な酸素透過性、濡れ性、および低いモジュラスを示すヒドロゲルを提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシラン化合物と、エチレン性不飽和有機シロキサンモノマーと、親水性ケイ素含有多官能性モノマーとを持つ第１の混合物の加水分解-縮合によって製造された三次元ネットワーク構造のポリシロキサンベースのプレポリマー。ヒドロゲルは、先述のポリシロキサンベースのプレポリマーと、アクリル化ケイ素含有モノマーと、エチレン性不飽和親水性モノマーとを持つ第２の混合物を重合させることによって調製される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐溶剤性、表面硬度、絶縁性、平坦性、透明性、耐薬品性及び低誘電性等に優れ、更に、密着性が改良された感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤及びポリシロキサンを含有してなる感光性樹脂組成物。ポリシロキサンが、式で表わされるオルガノシラン化合物の縮合物であることが好ましい。
【化１】


（Ａ^１は、プロトン性極性基と反応し得る官能基を有する炭素数１〜２０の炭化水素基。Ｚ^１〜Ｚ^３は、それぞれ、単結合であるか又は酸素原子。Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ、ハロゲン原子であるか、互いに結合して環を形成していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基。また、Ｚ^１Ｒ^１〜Ｚ^３Ｒ^３の少なくとも１つは、ハロゲン原子であるか炭素数１〜２０の炭化水素オキシ基である。） （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、その構造中に占める無機部分の割合が高く、製造後、ゲル化することなく安定であり、組成物とした場合に保存安定性に優れた、オキセタニル基を有する有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明によれば、アルカリ性条件下、下記一般式（１）で表されるケイ素化合物Ａと、４個のシロキサン結合生成基を有するケイ素化合物Ｂとを、ケイ素化合物Ａの１モルに対してケイ素化合物Ｂを０．３〜２．８モルの割合で加水分解・縮合する工程を備える方法により、オキセタニル基を有する有機ケイ素化合物を得ることができる。
【化１】


［式中、Ｒ⁰はオキセタニル基を有する有機基であり、Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリール基またはオキセタニル基を有する有機基であり、Ｘは加水分解性基であり、ｎは０または１である。 （もっと読む）

【課題】
ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子に容易に反応性のハロゲノ基を導入することができる新たな製造方法及びそれによって得られたハロゲノ基を含有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の提供。
【解決手段】
アルケニル基を有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子を、ハロゲン化スクシンイミド及び脂肪族アルコールと反応させることを特徴とするハロゲノ基を含有するポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐候性、低汚染性に優れる塗膜を形成できる水分散性樹脂組成物および低汚染型水性塗料を提供する。
【解決手段】カルボニル基および不飽和基を有するアクリル樹脂（ａ）の存在下で、不飽和単量体（ｂ）を乳化重合して得られたアクリル樹脂エマルジョン（ｃ）に、加水分解性アルコキシシリル基含有アルキルシリケート化合物（ｄ）を加え、重合して得られたシリコーン変性アクリル樹脂エマルジョン（Ａ）と、分子内に２つ以上のヒドラジド基を有する化合物（Ｂ）と、コロイド状シリカ（Ｃ）とを含む水分散性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】 ＤＣ接触帯電方式に用いても、帯電均一性に優れ、長期に亘って安定した帯電および画像出力が可能な帯電部材を提供する。
【解決手段】 支持体、該支持体上に形成された導電性弾性層、および該導電性弾性層上に形成された被覆層を有する帯電部材において、該被覆層が、Ｆ及びＳｉを含有する化合物を含有し、該被覆層の最外表面におけるＦ原子とＳｉ原子との濃度比（Ｆ／Ｓｉ＝Ｒ０）が該被覆層の該導電性弾性層と接する面におけるＦ原子とＳｉ原子との濃度比（Ｆ／Ｓｉ＝Ｒ１）よりも高くすることである。 （もっと読む）

【課題】金や銅等の難接着性被着体に対しても、高い接着強度で接着することを可能とするプライマー組成物及び接着剤組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含む成分を加水分解縮合させて得られた加水分解縮合物と、溶剤とを含むプライマー組成物、並びに下記式（１）で表される化合物を含む成分を加水分解縮合させて得られた加水分解縮合物と、硬化性化合物と、硬化剤とを含む接着剤組成物。
【化１】


上記式（１）中、Ａはルイス塩基性官能基を示し、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に加水分解性基を示し、Ｒは炭素数１〜２０のアルキレン鎖を示す。 （もっと読む）

【課題】接着性付与成分として用いることが可能な新規なシリコーン化合物であって、例えばプライマー組成物や接着剤組成物に配合した場合に、金や銅等の難接着性被着体に対しても、高い接着強度で接着することを可能とするシリコーン組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物を含む成分を加水分解縮合させて得られたシリコーン化合物。
【化１】


上記式（１）中、Ａはルイス塩基性官能基を示し、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に加水分解性基を示し、Ｒは炭素数１〜２０のアルキレン鎖を示す。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単に作業性良く表面を均一着色したものとすることができ、それを化粧品原料として使用する場合には肌へののりや密着性に優れ、皮膜によって化粧落ちし難く、しみ等の隠ぺい力にも優れる等、望まれる複数の性能を同時に有する着色有機シリコーン微粒子を提供する。
【解決手段】下記の有機シリコーン微粒子の表面に水不溶性植物色素を付着させた。
有機シリコーン微粒子：ポリシロキサン架橋構造体から成る有機シリコーン微粒子であって、縦断面で見て内側小劣弧（１１）とこれを覆う外側大劣弧（２１）と双方の端部間に渡る稜線（３１）とで形成された、全体としては中空半球状体様を呈し、内側小劣弧（１１）の端部間の幅（Ｗ_１）の平均値が０．０１〜９．５μｍ、外側大劣弧（２１）の端部間の幅（Ｗ_２）の平均値が０．０５〜１０μｍ、且つ外側大劣弧（２１）の高さ（Ｈ）の平均値が０．０１５〜９μｍの範囲内にある有機シリコーン微粒子。 （もっと読む）

【課題】シラン系化合物を採用した有機電解液及びリチウム電池を提供する。
【解決手段】リチウム塩と、高誘電率溶媒を含む有機溶媒と、特定構造式のシラン系化合物と、を含む有機電解液により、電解質の分解を抑制してサイクル特性が改善され、寿命の劣化を抑制しうる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記式（１）で表される繰り返し単位、及び下記式（２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂と、溶剤と、を含む。
（もっと読む）

ケイ素ポリマー材料であり、ケイ素原子の少なくとも１部分に直接的に付着された発色団基を有するケイ素ポリマー骨格をもち、そのポリマーはさらにカルボシラン結合を見せる。フィルム形成性組成物および得られるコーティングの特性は、特定の露光波長およびデバイス製造および設計の品質にふさわしいように合わせることができる。２つの異なる発色団を用いることによって、屈折率および吸収係数を効率的に調整することができる。カルボシラン結合の割合を変動させることによって、そして反射防止コーティング組成物の所望のＳｉ−含量を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 熱源の熱エネルギーを遠赤外線に変換して放射・放熱する機能を備えた放熱膜を形成し、かつ、耐熱性、付着性、靭性および熱伝導に優れた放熱膜をえることができる放熱膜用塗料を提供する。
【解決手段】 アルコキシド化合物からなるバインダーと、遠赤外線放射性物質の顔料と、溶媒を備えた放熱膜用塗料において、前記アルコキシド化合物からなるバインダーとして、テトラアルコキシシランに対してトリアルコキシシランを、テトラアルコキシシラン：トリアルコキシシランが５対５から２対８の割合で配合し、前記アルコキシド化合物の脱水縮合により生じるＳｉ−Ｏネットワークの形成進行を制御しつつＳｉ−ＯＨ基を残存させて塗布する基材との付着力を向上せしめたことを特徴とする。顔料は例えばシリカ（ＳｉＯ２）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、マグネシア（ＭｇＯ２）の少なくとも一つの単体またはそれらの化合物である。 （もっと読む）

【課題】シリコーンオイルを添加することにより得られる効果を、より長期間にわたって保持することができる電子写真部材、ならびに、該電子写真部材を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。
【解決手段】最外層に、ＳｉＯ_0.5Ｒ¹（ＯＲ²）（ＯＲ³）で示される第１のユニット、ＳｉＯ_1.0Ｒ⁴（ＯＲ⁵）で示される第２のユニットおよびＳｉＯ_1.5Ｒ⁶で示される第３のユニットを有するポリシロキサンを含有する。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ−１）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ａ−２）塩基を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ｂ）式（１）又は（２）で表される化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ （１）
（ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｅ、Ｘは水酸基、又は有機酸基であり、ａは１以上、ｂは０又は１以上）
Ｍ_aＨ_bＡ （２）
（Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウムであり、Ａは上記Ｘ又は非求核性対向イオン）
（Ｃ）有機酸、
（Ｄ）環状エーテルを置換基として有するアルコール、
（Ｅ）有機溶剤
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物で形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。また、フォトレジストパターンを転写可能で、基板を高い精度で加工できる。 （もっと読む）