Fターム[4J246BA16]の内容
珪素重合体 (47,449) | Si周りの酸素原子配置による分類 (3,467) | T単位が主量 (1,319) | D単位又はQ単位を含む (515) | T単位とQ単位とからなる (128)
Fターム[4J246BA16]に分類される特許
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シリカ系被膜形成用材料、シリカ系被膜及びその製造方法、多層配線及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法
【課題】 耐エッチング性、耐薬品性、及び耐湿性に優れ、密着性が良好であり、しかも誘電率の低いシリカ系被膜、該シリカ系被膜の形成に好適なシリカ系被膜形成用材料等の提供。
【解決手段】 本発明のシリカ系被膜形成用材料は、CHx、Si−O−Si結合、Si−CH3結合、及びSi−CHx−結合を構造の一部に有するシリコーンポリマーを含む。xは、0〜2の整数を表す。シリコーンポリマーが一般式(1)〜(3)で表されるシリコン化合物と、一般式(4)〜(7)で表されるシリコン化合物とを加水分解縮重合反応させて得られる態様等が好ましい。
【化13】
【化14】
一般式(1)〜(7)中、nは0又は1を表す。R1はn=0のとき、塩素、臭素、フッ素及び水素のいずれかを表し、n=1のとき、炭素数1〜4の炭化水素、芳香族炭化水素、水素、カルボキシル基のいずれかを表す。R2は炭素数1〜4の炭化水素、芳香族炭化水素、及び水素のいずれかを表す。R3は炭素数1〜3の炭化水素及び芳香族炭化水素のいずれかを表す。
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被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法
【解決手段】式(1)のフッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又は式(1)の化合物と式(2)のシラン化合物との混合物を含フッ素系溶媒中で加水分解・縮合反応する被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法。
R4dSi(OR5)4-d (2)
【効果】ガラス、セラミックス、金属、プラスチック等各種基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射防止性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を効率的に形成できる。
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定義された反応性を有するシリコーン樹脂
一般式(1)[A1zR1pSiO(4-p-z)/2](1)[式中、z及びpはそれぞれ0〜3の値にある整数を意味し、
A1は同一又は異なる、水素−、アルキル−、シクロアルキル−、アリール−又はアルコキシ残基であって、脂肪族の線状又は分枝した又は脂環式のアルキル残基又はアリールオキシ残基を有する残基を意味するか、又は、官能基を意味し、
これは18個までのC原子を含有し、更に1個又は複数個の同一又は異なるヘテロ原子であって、O−、S、Si、Cl、F、Br、P又はN原子から選択されたヘテロ原子を含有することができる、
その際、
R1は同一又は異なる、脂肪族又は脂環式のアルコキシ−、アリールオキシ又はヒドロキシ残基又は残基A1を意味する]
の繰り返し単位から構成され、少なくともT単位又はQ単位又はこの両方が存在しなくてはならず、かつこの他にM単位及び/又はD単位が存在することができ、かつ少なくとも1ppmのHClを含有することにより特徴付けられるシリコーン樹脂。
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珪素含有高分子化合物及びその製造方法並びに耐熱性樹脂組成物及び耐熱性皮膜
本発明のアルカリ可溶性珪素含有高分子化合物は、下記の式で表され、重量平均分子量が500〜500,000である。
式中、A1は水酸基を有するか若しくはアルコキシ基を有するフェニル基、R1は炭素数1〜4のアルキレン基、mは0又は1、R2は炭素数1〜4のアルキル基、s及びuは正の数であり、tは0又は正の数であって、0≦t/(s+u)≦1 且つ 0<u/s≦5 である。
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フルオロアルキルシリル化MQ樹脂及びそれを含有する溶媒耐性感圧性接着組成物
【課題】良好な耐溶媒性を所有する一方で、処理が容易で、かつ使用の前後で安定であるシリコーンベースのPSA組成物の提供。特に高度な耐溶媒性を必要とする感圧接着組成物における粘着付与剤としての使用に特に適する、フルオロアルキルシリル化MQ樹脂の提供
【解決手段】式1で表される化合物の使用。当該使用によりPSA組成物に対して例外的に高いレベルの耐溶媒性が提供され、高レベルの溶媒及び/又は長い溶媒への曝露時間を伴う環境への使用にとり理想的なものとなる。
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絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法
【課題】微細な溝も完全に埋め込み、かつ下地段差を平坦化するのに十分な厚塗りができ、下地パターン全体の均一な平坦性を達成でき、さらに水を含まず誘電率の低い、膜特性に優れた絶縁膜を形成することのできる、シロキサン類を用いる、絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造に用いられる絶縁膜形成用塗布液であって、少なくとも一種類の有機置換基と結合したSi原子を含むシロキサン類を含み、かつ、前記シロキサン類の29Si−NMRスペクトルのシグナルの積分値から求められる所定の式で示される含有比率Xが、所定の式を満足する、150℃以上300℃以下の自己流動化温度を有することを特徴とする絶縁膜形成用塗布液、及びこれを用いる半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供することにより前記課題を解決する。
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紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法並びにコーティング組成物及び被覆物品
【課題】 優れた紫外線吸収性を示し、アルコキシシリル基を有する新規な紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びに耐熱性及び耐水性に優れ、該化合物を安定にコーティング膜中に保持することが可能なコーティング組成物、及びこの組成物の硬化皮膜にて被覆してなる被覆物品を提供する。
【解決手段】 式(1)又は(2)の紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物。
【化1】
[R1はアルキル基又はアリール基、R2はアルキル基、R31は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基又はアシロキシ基、R32〜R34は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基、R35はエステル結合含有二価有機基、R36は二価炭化水素基、aは0〜2、Zは式(3)
【化2】
の基、Rは水素原子又は一価炭化水素基、R2はアルキル基、0<m≦1、0≦n≦2、0≦p<3、0≦q≦3、0<m+n+p+q<4]
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シロキサン樹脂コーティング
式:
(HSiO3/2)a(RSiO3/2)b(SiO4/2)c
式中、Rが、Z、Z(CH2)n、もしくはZO(CH2)nであり、ここで、Zが、フェニルもしくは置換フェニル基であり、nが、値1〜6を持ち、aが、値0.01〜0.7を持ち、bが、値0.05〜0.7を持ち、cが、値0.1〜0.9を持ち、a+b+c≒1
を持っているシロキサン樹脂。本シロキサン樹脂は、抗反射コーティング組成物において、有用である。
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低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法
【課題】構造誘導体物質として環状シロキサン系モノマーを使用する、誘電率が低く且つ諸般物性に優れた低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】環状シロキサン系モノマー、有機溶媒、酸または塩基、および水を混合してコーティング液を準備する第1段階と、前段階で得たコーティング液を基板上に塗布した後、熱硬化させてメソポーラス薄膜を得る第2段階とを含む、低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法。
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カチオン硬化性含ケイ素化合物の製造方法
本発明は、下記(A)と下記(B)とを、pKa≦5(25℃)、沸点≦150℃(大気圧下)の酸性触媒存在下で加水分解共縮合する、オキセタニル基含有カチオン硬化性含ケイ素化合物の製造方法、好ましくは、下記(A)と下記(B)と下記(C)とを酸性触媒存在下で加水分解縮合する、オキセタニル基含有カチオン硬化性含ケイ素化合物の製造方法である。
Roはオキセタニル基含有有機官能基、Xはシロキサン結合生成基、R2はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基、n=0〜2、Yは水酸基又はシロキサン結合生成基
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導電性シリコーン材料および導電性コーティング膜
【課題】
イオン伝導性置換基を有するオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料であって、特にコーティング剤として製膜性が良好であり、かつ耐熱性に優れ、表面抵抗値の経時変化が少ない伝導性シリコーン材料、および該材料からなる導電性コーティング膜を提供する。
【解決手段】
メルカプト基を有しないシラン化合物Aおよびメルカプト基を有するシラン化合物Bを、反応系に供給し、共加水分解および重縮合を進行させて、オルガノポリシロキサンのゾル溶液を得る工程と、
該ゾル溶液を乾燥させて固化させて固化物を得る工程と、
該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られるオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料、ならびに該導電性シリコーン材料からなる導電性コーティング膜。
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水性シリカ系樹脂組成物
【課題】環境に悪影響を及ぼさず、シロキサン結合を有する無機系硬化性組成物の特長を損なうことなく、硬化後のクラック発生の問題がなく、安価でしかも、常温硬化性を有し、従来の有機系塗膜の諸物性を保持しつつ、常温使用領域において、ガラス転移による顕著な物性変化を起こさない水性ナノシリカ系樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】必須成分として、酸性水分散型コロイダルシリカ及び有機酸からなる主剤と、シランカップリング剤及びアルコキシシランオリゴマーからなる硬化剤と、アルコキシシラン加水分解触媒と、を含むことを特徴とする水性シリカ系樹脂組成物である。
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半導体加工用保護膜形成用塗布液、その調製方法およびこれより得られる半導体加工用保護膜
【課題】 高い膜強度と低い比誘電率を有するCMP犠牲膜やエッチング・ストッパー膜等の半導体加工用保護膜を形成するための塗布液、その調整方法および該塗布液より得られる半導体加工用保護膜に関する。
【解決手段】 (a)テトラアルキルオルソシリケート(TAOS)およびアルコキシシラン(AS)をテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAOH)および水の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物、またはテトラアルキルオルソシリケート(TAOS)をテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAOH)および水の存在下で加水分解または部分加水分解した後、アルコキシシラン(AS)またはその加水分解物もしくは部分加水分解物と混合し、さらに必要に応じてこれらの一部または全部を加水分解して得られるケイ素化合物、(b)有機溶媒、および(c)水を含む液状組成物であり、しかも該液状組成物中に含まれる水の量が35〜65重量%の範囲にあることを特徴とする半導体加工用保護膜形成用塗布液。
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有機シリコーン微粒子、有機シリコーン微粒子の製造方法、高分子材料改質剤及び化粧品原料
【課題】
高分子材料改質剤や化粧品原料等として有用な、ポリシロキサン架橋構造体から成る新規の有機シリコーン微粒子を提供する。
【解決手段】
ポリシロキサン架橋構造体から成る有機シリコーン微粒子を、全体として円形リング形状を呈し、外径の平均値が0.05〜15μm、内径の平均値が0.01〜10μm、且つ外径の平均値と内径の平均値との差が0.04〜5μmの範囲内にあるものとした。
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メソポーラスシリカポリマー、その製造方法およびプロトン伝導性材料
【課題】 電気化学素子への応用に好適な、熱安定性、機械的安定性、耐溶媒性が良好で、低湿度においてもプロトン伝導性の優れた経済的に安価なハイブリッドシリカポリマーとその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1):
(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m(SiO2)1-n-m ‥(1)
(式中、n=0.30〜0.63、m=0.03〜0.40、n+m=0.33〜0.70である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有メソポーラスシリカポリマーであるメソポーラスなシリカポリマー。このポリマーをプロトン伝導性材料として、燃料電池、キャパシター、電解セルなどの電気化学素子に応用する。
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酸素吸収剤、酸素吸収性樹脂組成物、及びその樹脂組成物を用いた積層体と包装体
【課題】本発明は、酸素吸収の即効性や内容物の水分活性に依存しない、新規な酸素吸収剤、その酸素吸収剤を配合してなる酸素吸収性樹脂組成物、及びその樹脂組成物を用いた積層体と包装体を提供することを目的とする。
【解決手段】置換基R1、R2、R3、R4の少なくとも一つがエチレン性不飽和結合を有する置換基であり、その他の置換基が水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシル基、(メタ)アクリロキシル基、アリル基、ビニル基、あるいはこれらの誘導体から選ばれるいずれかの置換基からなる特定のシラン化合物もしくはその重縮合物を必須成分とすることを特徴とする酸素吸収剤、酸素吸収性樹脂組成物、及びその樹脂組成物を用いた積層体と包装体である。
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エッチングマスク組成物
【課題】優れた透明性や耐熱性を有し、界面で剥離を生じたり内部にクラックを発生させず、優れた形状精度を有するエッチングマスクを安価に形成する。
【解決手段】(A)一般式(1):(R1)p(R2)qSi(X)4−p−q(式中、R1はフッ素原子を含有する炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、R2は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基(ただし、フッ素原子を含有するものを除く。)、Xは加水分解性基、pは1又は2の整数、qは0又は1の整数である。)で表される加水分解性シラン化合物の加水分解物及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも一種以上、および(B)光酸発生剤を含有し、かつ、全Si上の結合基に占めるシラノール(Si−OH)基の含有率が10〜50%であるエッチングマスク組成物によって、基板1上にエッチングマスク5を形成する。
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プロトン伝導材料、固体高分子電解質膜、及び燃料電池
【課題】 水が無い状態、又は低水分下でも、プロトン伝導性に優れ、熱安定性・化学安定性が高く、かつ製造が容易で低コストであるプロトン伝導材料を提供する。又、水が無い状態、又は低水分下で高温動作に対応し得る燃料電池を実現する。
【解決手段】 イオン交換基1当量当たりの乾燥重量(EW)が250以下、好ましくは、EWが200以下であるプロトン伝導材料。
【化1】
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有機シロキサン樹脂及びこれを用いた絶縁膜
本発明は有機シロキサン樹脂及びこれを用いた絶縁膜に関するものであって、1種以上のハイドロシラン化合物を含むシラン化合物の縮重合体である有機シロキサン樹脂を有機溶媒に溶解した溶液を基体に塗布し形成した絶縁膜を乾燥及び硬化し製造した絶縁膜は機械的物性及び低誘電性が優秀であるため、高集積化半導体素子として適合に使用ことができるという効果がある。 (もっと読む)
放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路
【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、(a)成分:
R1nSiX4−n
(R1は、H若しくはF原子、又はB、N、Al、P、Si、Ge若しくはTi原子を含む基又は有機基を示し、Xは加水分解性基を示し、nは0〜2の整数を示す。)
で表される化合物、その化合物の多量体、及び/又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Si原子1モルに対する、Si原子に結合しているH、F、B、N、Al、P、Si、Ge、Ti及びC原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が0.90〜0.20である樹脂を含むシロキサン樹脂、(b)成分:光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び(c)成分:非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。
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