【課題】透明性、耐熱性（耐熱透明性）、感度、屈折率、表面硬度及び耐擦傷性が優れると共に、ＩＴＯ透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適に用いられ、かつ十分な解像性を有するポリシロキサン系ネガ型感放射線性組成物、その組成物から形成された保護膜及び層間絶縁膜、並びにその保護膜及び層間絶縁膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】
［Ａ］（ａ１）式（１）で示される加水分解性シラン化合物及び式（２）で示される加水分解性シラン化合物を反応させて得られる加水分解縮合物
［Ｂ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤
［Ｃ］アルコール系溶剤を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性、透明性に優れ、高い接着力を有する硬化物が得られる光素子固定材用組成物、その使用方法及び光素子封止体を提供する。
【解決手段】
（Ａ）式：ＣＨ（Ｒ^１）（Ｘ^０）−Ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^２）_ｐ（Ｘ^１）_３−ｐで表されるシラン化合物（１）、式：Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｑ（Ｘ^２）_３−ｑで表されるシラン化合物（２）、及び、式：Ｓｉ（ＯＲ^５）_ｒ（Ｘ^３）_４−ｒで表されるシラン化合物（３）、を含むシラン化合物混合物〔式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を、Ｘ^０はハロゲン原子、シアノ基又は式：ＯＧで表される基（Ｇは水酸基の保護基）を、Ｄは単結合又は連結基を、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５は炭素数１〜６のアルキル基を、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３はハロゲン原子を、ｐ、ｑは０〜３の整数を、Ｒ^３は炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を、ｒは０〜４の整数を表す。〕であって、前記シラン化合物（１）〜（３）を、モル比で［シラン化合物（１）＋シラン化合物（２）］：［シラン化合物（３）］＝１００：１５〜１００：８５となる割合で含有するものを縮合させて得られるシラン化合物共重合体、（Ｂ）エポキシ化合物、（Ｃ）硬化剤、並びに（Ｄ）硬化触媒を含有する光素子固定材用組成物；その使用方法；並びに光素子封止体。 （もっと読む）

【課題】 レジスト下層膜形成用に適し、レジスト膜との密着性に優れるシリコン含有膜を形成することができると共に、耐レジスト現像液性及び耐酸素アッシング性を有し、かつ現像時にレジスト残りが少なく、レジストパターンの形状が良好で倒れが少ないポリシロキサン組成物と、レジストパターンの形状が良好で倒れが少なく、微細化が可能なパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ポリシロキサン、並びに（Ｂ）窒素含有複素環構造と、極性基及びエステル基から選ばれる少なくとも一種とを有する化合物を含むことを特徴とするポリシロキサン組成物と、酸拡散制御剤を有するポリシロキサン組成物から得られるレジスト下層膜を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】発光効率および耐久性が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子１０は、基板１１と、第１電極１３と、発光層１５と、第２電極１７と、粒子含有層１８を備えている。粒子含有層１８は、シロキサン系重合体、チタノキサン系重合体およびこれらの共重合体から選ばれる少なくとも一種の重合体、および、金属酸化物粒子を含有する組成物の硬化物である。粒子含有層１８は、基板１１と第１電極１３の間に形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】プロトン伝導率が高く、耐熱性と機械的強度を備えたプロトン伝導膜を提供する。
【解決手段】Ｓｉ−Ｏ結合のネットワーク構造を有するプロトン伝導膜は、ネットワーク構造を構成するＳｉ原子に結合されたアリーレン基を有すると共に、アリーレン基にはプロトン供与基が結合されており、あるいは又、ネットワーク構造を構成するＳｉ原子に結合されたナフチル基を有すると共に、ナフチル基にはプロトン供与基が結合されている。 （もっと読む）

【課題】長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物を含むシロキサン化合物を加水分解縮合して得られる重量平均分子量５０００以上のシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、上記シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、を含有する。


［式中、Ｒ^１は、Ｈ原子若しくはＦ原子、又はＢ原子、Ｎ原子、Ａｌ原子、Ｐ原子、Ｓｉ原子、Ｇｅ原子若しくはＴｉ原子を含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、４−ｎ個のＸは同一でも異なっていてもよく、ｎが２のとき、２個のＲ^１は同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ耐薬品性が良好な硬化膜を得ることができる感光性シロキサン組成物の提供、および、上記の感光性シロキサン組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、タッチパネル用絶縁膜などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子などの素子の提供。
【解決手段】（ａ）オルガノシランの１種以上を反応させることによって合成されるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、および（ｄ）一般式（２）で表されるフルオレン化合物を含有する感光性シロキサン組成物。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はエポキシ基、アクリル基、またはメタクリル基から選ばれるいずれかの基を有する有機基であって、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ同じであっても、異なっていても良い。） （もっと読む）

【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式［Ｒ^１_ａＳｉＸ_４−ａ］で表されるシラン化合物、及び式［ＳｉＸ_４］で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも１種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つＧＰＣによる重量平均分子量が１０００〜２０００００であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるＲ^１はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｘは塩素原子、臭素原子又はＯＲ（Ｒ：１価の有機基）を示し、ａは１〜３の整数を示す。〕。 （もっと読む）

【課題】本発明は、材料の表面にホスホリルコリン基を高密度で導入することが可能な表面改質方法及び該表面改質方法により表面が改質されている表面改質材料を提供することを目的とする。
【解決手段】表面改質方法は、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基を表面に有する材料に、一般式


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭素数が１以上６以下のアルキコキシ基であり、Ｒ^４は、炭素数が１以上６以下のアルキコキシ基又は炭素数が１以上６以下のアルキル基である。）
で表される化合物と、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基を有する親水化剤を含む塗布液を塗布する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、化学的安定性および寸法安定性に優れ、プロトン伝導を促進する水が構造内部から放出される１００℃を越える温度および低湿度でも、プロトン伝導体として安定に作動させることができるプロトン伝導体の提供。
【解決手段】式（１）で表されるオルガノポリシロキサンを含むことを特徴とするプロトン伝導性膜。


（Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、Ｈ又はＯＨ、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基、ＡはＯＨ、炭素数１〜４のアルキル基、又は架橋に関与する−Ｏ−であり、ｍ_１，ｍ_２はそれぞれ１〜１０の整数、ｎは１〜２０の整数） （もっと読む）

【課題】解像度に優れており、且つ所望形状のパターンを精度良く形成することのできる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の感放射線性組成物は、（Ａ）ポリシロキサンと、（Ｂ）１価の陰イオンを２個以上有する構造、及び１価の陽イオンを２個以上有する構造のうちの少なくとも一方を分子内に有する化合物と、（Ｃ）溶剤と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】基板表面上のナノメートルレベルの開口幅を有し、アスペクト比が大きいトレンチ（溝）への埋め込み性に優れ、ボイドなどの欠陥の発生が抑制され、電気的絶縁性に優れたアイソレーション構造を製造するのに好適なトレンチ埋め込み用組成物、および該組成物を用いたトレンチ・アイソレーション構造の製造方法の提供。
【解決手段】アルキルトリアルコキシシランを５０モル％以上含むアルコキシシラン原料を加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物を含有し、該加水分解縮合物の重量平均分子量が１０００〜５００００であり、該加水分解縮合物の含有量が組成物全量に対して１４質量％超３０質量％以下であるトレンチ埋め込み用組成物の塗膜１４により、基板１０表面上に形成されたトレンチ１２を埋め込む。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を使用するまでもなく、１段階の乳化工程のみでも調製することができ、しかも生成率が高く、同時に長期間の安定性にも優れたＷ／Ｏ／Ｗ型ピッケリングエマルションを提供する。
【解決手段】内部に水相の粒子を閉じ込めた油相の粒子が水相中に分散した状態のＷ／Ｏ／Ｗ型ピッケリングエマルションにおいて、油相とその両側の水相との界面に特定の中空半球状有機シリコーン微粒子を含有する有機シリコーン微粒子を局在させ、且つ水相を４０〜８０質量％、油相を１０〜５０質量％及び有機シリコーン微粒子を１０〜２０質量％（合計１００質量％）の割合で含有して成るものとした。 （もっと読む）

本発明は、硬化性組成物に関する。本発明は、優れた加工性及び作業性を示し、且つ硬化し、優れた光抽出効率、クラック耐性、硬度、耐熱衝撃性及び接着性を示し、白濁などを誘発することなく、表面でのべたつきを防止する硬化物を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。
【解決手段】（Ａ）重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）溶剤を含有するネガ型感放射線性組成物であって、前記重合体（Ａ）が、（ａ１）下記一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物および（ａ２）下記一般式（２）で表される加水分解性シラン化合物から選ばれる少なくとも一種の加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られる重合体であって、重合体（Ａ）に含まれる全ての構成単位の合計を１００モル％とするとき、前記化合物（１）由来の構成単位の含有割合が、８０〜１００モル％であるネガ型感放射線性組成物。


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【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液の作製方法等を提供する。
【解決手段】素子分離材料用塗布液の作製方法では、Ｓｉ（ＯＲ^１）_４（Ｒ^１は炭素数２〜６個の有機基）で表される第１のアルコキシシラン化合物と、Ｒ^２_ｎＳｉ（ＯＲ^３）_４−ｎ（Ｒ^２はメチル基、エチル基、プロピル基、ビニル基、または、フェニル基、Ｒ^３は炭素数２〜６個の有機基、ｎは１〜３の整数）で表される第２のアルコキシシラン化合物と、第１の溶媒との混合液を作製する。第１のアルコキシシラン化合物と第２のアルコキシシラン化合物とは、全アルコキシシラン化合物に対する第２のアルコキシシラン化合物のモル比が０．０９〜０．９となるように混合する。この混合液を加水分解、縮合して絶縁膜形成前駆体を作製し、これに第２の溶媒を加え、塗布液を作製する。 （もっと読む）

【課題】高価な原料を用いることなく簡便な方法で、窒素雰囲気下、１，０００℃における加熱重量損失率が５％以下であり、極めて高い耐熱性を有する硬化物が得られる、新規なケイ素含有高分子化合物、そのヒドロシリル化重合体、その重合体を含有する耐熱性樹脂組成物及び耐熱性皮膜を提供することにある。
【解決手段】本発明のケイ素含有高分子化合物は、下記一般式（５）で表され、重量平均分子量が５００〜５００，０００である。
【化１】



〔式中、Ａ^２は炭素−炭素不飽和基を有する炭素数２〜１０の有機基、Ｒ^３は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０の２価の芳香族基もしくは炭素数３〜２０の２価の脂環式基、ｎは０又は１、Ｒ^４はＨ原子もしくは炭素数１〜１０のアルキル基（１分子中のＲ^４は同種でも２種以上の異種の組み合わせあってもよい。）、ｘ，ｙは正の数であり、ｗ，ｚは０又は正の数であって、０≦ｚ／（ｗ＋ｘ＋ｙ）≦２且つ０．０１≦ｙ／（ｗ＋ｘ）≦５である。〕 （もっと読む）

【課題】空気の平均自由行程よりも小さな細孔を有し、嵩密度の低いシリカキセロゲルを簡単な製造工程で製造可能なシリカキセロゲル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランとモノアルキルトリアルコキシシランとを、モル比で、テトラアルコキシシラン：モノアルキルトリアルコキシシラン＝０．０５〜０．３５：０．６５〜０．９５の割合で含むゲル原料と、該ゲル原料中のシラン化合物全量１モルに対し、アルコール類を４〜８モル、水を３〜６モル含む溶媒とを混合し、ゲル原料中のシラン化合物を加水分解してゾルを生成させ、得られたゾルをゲル化し、養生して得られた湿潤ゲルを常圧あるいは減圧下で乾燥して、嵩密度が９０〜２００ｋｇ／ｍ^３、平均空孔径が２０〜６５ｎｍのシリカキセロゲルを得る。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性及び耐溶剤性に加えて、特に低誘電性が優れた層間絶縁膜を形成可能であり、かつ十分な放射線感度及び保存安定性を有するポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）加水分解性基を有するポリカルボシラン及び（ａ２）加水分解性基を有するシランモノマーを、（ａ３）触媒の存在下で加水分解縮合することによって得られた加水分解縮合物、並びに［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。 （もっと読む）

本発明は、安息香酸エステルを粒子の形態で含んでなる有機ケイ素ポリマー、それらの調製方法、それらを含んでなる化粧品又は皮膚科用の組成物、並びにヒト又は動物の生体をＵＶ照射から保護するためのそれらの使用に関する。 （もっと読む）