【課題】階層状に異なる有機基で修飾されたメソ細孔を有し、同一粒子内における細孔の部位によって異なる性質を発揮させることが可能なコアシェル型球状シリカ系メソ多孔体を提供すること。
【解決手段】スルホン酸基、カルボン酸基及びアミノ基からなる群から選択される少なくとも１種の官能基を有する第一の有機基が導入された第一のシリカからなるコア粒子と、
脂肪族化合物系有機基及び環式化合物系有機基からなる群から選択される少なくとも１種の第二の有機基が導入された第二のシリカからなり、前記コア粒子の外側に積層されているシェル層と、
を備えることを特徴とするコアシェル型球状シリカ系メソ多孔体。 （もっと読む）

レジスト下層膜加工用ハードマスク組成物が提供される。前記ハードマスク組成物は、オルガノシラン重合体および溶媒または溶媒の混合物を含み、前記オルガノシラン重合体は、酸触媒の存在下で、式１、２、および３で表される化合物の加水分解物の重縮合によって調製される：


式中、Ｘは、少なくとも１つの置換または非置換の芳香環を含むＣ_６−Ｃ_３０の官能基であり、Ｒ^１はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基である；


式中、Ｒ^２はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｒ^３はＣ_１−Ｃ_１２のアルキル基である；


式中、Ｒ^４およびＲ^５はそれぞれ独立してＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｙは、芳香環、置換または非置換の、直鎖または分岐のＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、骨格中に芳香環、複素環、ウレア基またはイソシアヌレート基を含むＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、および少なくとも１つの多重結合を含むＣ_２−Ｃ_２０の炭化水素基からなる群から選択される連結基である。
本発明のハードマスク組成物は、優れた膜特性および良好な保存安定性を示し、その満足できるハードマスク特性によって材料層に良好なパターンを転写することを可能にする。加えて、本発明のハードマスク組成物は、後続のパターンのエッチングの際にＯ_２プラズマガスに対して改善されたエッチング耐性を有する。前記ハードマスク組成物は、高い親水性の薄膜の形成に使用することができ、したがって薄膜の上部の反射防止コーティングとの界面の相溶性の改善に効果的である。さらに、前記ハードマスク組成物を用いた半導体集積回路デバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】銀基材に対する高い接着強度と耐熱性を有し、ＬＥＤチップのダイアタッチ材などとして有用な透明性の高いシリコーンレジンを提供する。
【解決手段】本発明のシリコーンレジンは、平均単位式：（Ｒ^１ＳiＯ_３／２）_ａ（Ｒ^２_２ＳiＯ_２／２）_ｂ（Ｒ^３_３ＳiＯ_１／２）_ｃ（ＳiＯ_４／２）_ｄ（ＸＯ_１／２）_ｅ（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は炭素数１〜１０の１価炭化水素基またはエポキシ基含有有機基、Ｘは水素原子またはアルキル基。Ｒ^１〜Ｒ^３の合計数の０.１〜４０モル％はエポキシ基含有有機基、５モル％以上はフェニル基。また、ａ，ｅは正数、ｂ，ｃ，ｄは０または正数。ｂ／ａは０〜１０、ｃ／ａは０〜５、ｄ／(ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ)は０〜０.５、ｅ／(ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ)は0.01〜１。）で示され、常温液状で加熱により透明な硬化物を生じるエポキシ基含有シリコーンレジンである。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線の照射によって効率よく回路形成を行うことができる電気基板材料を提供する。
【解決手段】下記式（１）、式（２）および式（３）に例示されるシルセスキオキサン骨格を含む重合体からなる合成樹脂成形体の表面に金属微粒子が付着した材料にレーザー光線を照射して電気回路基板を作製する。


式（１）、式（２）および式（３）において、それぞれのＲは独立してフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、炭素数が１〜１０のパーフルオロアルキルまたはｔ−ブチルであり、それぞれのＲ¹は独立して炭素数１〜４のアルキルまたはフェニルである。 （もっと読む）

【課題】無機ガラスのような特性とプラスチックのような特性とを備え、且つ耐屈曲性に優れた硬質透明基板を利用し、各種表示装置用電子材料を積層してなる表示装置を提供する。
【解決手段】硬質透明基板は、一般式（1）で表される硬化性樹脂を硬化させて得られ、硬化性樹脂は、式（2）で計算されるKpが0.68〜0.8の密な構造部位（A）とKpが0.68未満の疎な構造部位（B）とを有し、構造部位（A）/（B）の重量比は0.01〜5.00であり、少なくとも一つの不飽和結合を有して平均分子量が800〜60000である。
-｛(A)-(B)_m｝_n- (1)
（ｍおよびｎは１以上の整数）
Kp＝An・Vw・p/Mw (2)
（An＝アボガドロ数、Vw＝ファンデアワールス体積、p＝密度、Mw＝分子量、Vw＝ΣVa、Va＝4π/R³−Σ1/3πhi²（3Ra−hi）、hi＝Ra−（Ra²＋di²−Ri²）/2di、Ra＝原子半径、Ri＝結合原子半径、及びdi＝原子間距離） （もっと読む）

少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物と、少なくとも一つのＯＲ基又は少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物（又は双方の基を有する化合物）とを、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、又は水酸化バリウム、及び有利には水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、及び２−ブタノール、アセトン又はトルエン等の溶媒存在下で、互いに反応する段階を含むオルガノシリコン縮合物を調製する方法。 （もっと読む）

【課題】 シード粒子などとして好適な比較的粒径が大きく、ＣＶ値が４％未満程度の小さいポリオルガノシロキサン粒子を再現性よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３ …（Ｉ）
で表されるケイ素化合物を水性溶液とし、塩基性触媒存在下で加水分解、縮合反応させて、ポリオルガノシロキサン粒子を製造する方法において、前記ケイ素化合物を水性媒体に溶解して、ケイ素化合物と水とのモル比が１：０．２３〜１：１．７の範囲にあるケイ素化合物含有水性溶液を調製したのち、前記ケイ素化合物に対して３５倍モル以上の水と、塩基性触媒を含む塩基性触媒水性溶液中に添加し、加水分解、縮合反応させる方法である。 （もっと読む）

【課題】可視光領域の波長における透過性にすぐれ、耐熱性が高く、クラック耐性や耐溶剤性に優れた膜を形成できる特性を有する新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式


（式中、Ａ、Ｘは炭化水素基を示す。）で示されるアシロキシ基を含有するシルセスキオキサン単位を含むシリコーン共重合体。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性などのポリシランが持つ高い基本物性を有し、かつ絶縁性、屈折率、撥水性などの諸特性が自由に調整可能なポリシラン化合物を提供すること。
【解決手段】分子内にフッ素含有基を有するフッ素含有ポリシラン化合物であって、該フッ素含有基の少なくとも１個が、酸素原子を介して主鎖のケイ素原子に結合している、フッ素含有ポリシラン化合物。 （もっと読む）

一段階同時加水分解によってシロキサン系組成物の新しい群を形成するためのプロセス及びそこから形成される組成物。シロキサン系組成物は、Ｃ＝Ｃ結合及びＳｉ−Ｈ結合を用いて官能化される。Ｃ＝Ｃ結合及びＨは、シロキサン系組成物のＳｉ−Ｏ主鎖のＳｉにそれぞれ直接結合される。Ｃ＝Ｃ結合は、ビニル基又はフェニル置換基のような芳香族基のものでよい。Ｃ＝Ｃ結合置換基は、シロキサン流体又はアルキル若しくはアリール官能基を含む有機化合物を要せず、標準的な脱水素カップリング触媒による架橋結合を形成するために必要な官能性をもたらす。このプロセスは、シロキサン系組成物又は樹脂中の所望のケイ素、炭素、水素及び酸素の比を調整するために、原料モノマーとして比率が変動する各シランを提供する。シロキサン系組成物は、他の材料の製造で、前駆体又は代替樹脂として使用してもよい。 （もっと読む）

【課題】取り扱いが容易で、低エネルギーで露光可能であり、ポジ型感光性材料として有用であり、高い透明性、耐熱性、および絶縁性を有し得る薄膜を形成可能なポリシラン化合物を提供すること。
【解決手段】フェノール性水酸基含有基およびカルボキシル基含有基のうちの少なくとも一方を有するポリシラン化合物であって、該フェノール性水酸基含有基およびカルボキシル基含有基のうちの少なくとも１個が、酸素原子を介して主鎖のケイ素原子に結合している、ポリシラン化合物。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性に優れ、しかも液晶パネルの長期信頼性も十分に確保できる配向膜を提供する。また、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供するとともに、この配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供する。
【解決手段】液晶分子の配向を制御する配向膜である。少なくとも有機ケイ素材料で形成され、この有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するポリシルセスキオキサンからなる。このポリシルセスキオキサンは、その分子内に液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有し、かつ、シラノール基中の水素が置換基により置換されて不活性化されている。 （もっと読む）

本発明は、フォトレジスト用の下層を形成するための、酸発生剤及び新規シロキサンポリマーを含む新規反射防止膜組成物であって、前記シロキサンポリマーが、少なくとも一種の吸光性発色団及び次の構造（１）


［式中、ｍは０または１であり、Ｗ及びＷ’は、独立して、環状エーテルをポリマーのケイ素に連結する原子価結合または接続基であり、そしてＬは、水素、Ｗ’及びＷから選択されるか、あるいはＬ及びＷ’は、環状エーテルをポリマーのケイ素に連結する環状脂肪族連結基を一緒になって構成する］
で表される少なくとも一種の自己架橋性官能基を含む、前記反射防止膜組成物に関する。また本発明は、前記新規反射防止膜組成物の上にコーティングされたフォトレジストに像を形成する方法にも関し、良好なリソグラフィの結果を供する。更に本発明は、少なくとも一種の吸光性発色団及び構造（１）の少なくとも一種の自己架橋性官能基を含む、新規のシロキサンポリマーにも関する。
（もっと読む）

【課題】分散安定性および経時安定性に優れたポリオルガノシロキサンの水性コロイド分散液を、制約条件がより少ない簡易な方法によって得る。
【解決手段】本発明のポリオルガノシロキサンコロイド分散液の製造方法は、（Ａ）一般式：Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ………（１）（式中、Ｒ^１は置換または非置換の１価の炭化水素基を示し、Ｒ^２は置換または非置換のアルキル基を示す。ａは０，１，２または３である。）で表されるオルガノアルコキシシランを、酸性水中で加水分解してオルガノシラノールおよび／またはその部分縮合物の水／アルコール溶液を得る工程と、（Ｂ）前記オルガノシラノールおよび／またはその部分縮合物の水／アルコール溶液に、アニオン性界面活性剤またはＰＶＡ系分散剤の存在下でアルカリ水溶液を添加し、ｐＨ９〜１２の塩基性水中で縮合反応させる工程を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】強靱性、耐クラック性、透明性、硬度、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性等が優れた硬化被膜を形成することができる硬化性シリコーン組成物とその製造方法およびコーティング剤を提供すること。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が５００〜１００，０００であり、フェニル基、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基と炭素数１〜３個のアルキル基、水素原子を有するポリオルガノシルセスキオキサンとフェニル基、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基と炭素数１〜３個のアルキル基、水素原子を有し、ｎが３〜８である環状オルガノシロキサンを含有することを特徴とする硬化性シリコーン組成物とその製造方法およびコーティング剤。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)、(2)、(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R⁵R⁶_qSiX_3-q (2)
R⁷R⁸_rSiX_3-r (3)
(R¹、R²、R³は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基で、少なくとも一つはフッ素原子を含む。R⁴は炭化水素基、R⁵は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁶はR⁴と同定義、R⁷は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁸はR⁴と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基とする組成物と同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおけるエッチング選択比の問題もなく、ArF露光の２層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)〜(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R³R⁴_qSiX_3-q (2)
R⁵R⁶_rSiX_3-r (3)
(R¹はフッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基。R²は炭化水素基、R³は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁴はR²と同定義、R⁵は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁶はR²と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基として使用したレジスト組成物に対し同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおいて有機材料である下層膜との間でエッチング選択比がとれないという問題を解決でき、ArF露光における2層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

【課題】金属反応剤の使用量を少なくすることができ、除去を必要とする副生成物の発生を抑えることができ、かつ、比誘電率が小さく、機械的強度や密着性に優れ、均一な膜質を有する膜を形成することができるポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、およびシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】ポリマーの製造方法は、（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランはポリマー（Ｉ）またはポリマー（ＩＩ）である。 （もっと読む）

【課題】ゼータ電位を任意の値に制御し得る、電気泳動を利用した表示素子に使用する表示用粒子として有用なアンモニウムシラン変性ケイ素含有微粒子、該微粒子を含む表示液及びその表示液を使用した電気泳動型表示素子を提供すること。
【解決手段】ケイ素含有微粒子と、たとえばオクタデシルジメチル（３−トリメトキシシリルプロピル）アンモニウムクロライドとを反応させて得られたアンモニウムシラン変性ケイ素含有微粒子。これを用いた電気泳動表示装置用表示液及びそれを含む電気泳動型表示素子。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、ポリシロキサンに基づく良好な特性とレジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、現像欠陥を著しく低減し得る感放射線性樹脂組成物、及び当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）、及びＳｉＲ^４_３Ｈで表されるシラン化合物を、水の存在下、重縮合することにより得られるポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。
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