本発明は、ａ）一般式（Ｉ）ＣＦ₃（ＣＦ₂）_n（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）_yＸ_3-y（Ｉ），［式中、Ｘは塩素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及びｎ−プロポキシの系列からの基であり、ｎは３、４、５、６、７、８及び９の系列からの数であり、ｙは０又は１である］の少なくとも１種の加水分解可能なフルオロアルキルシラン、ｂ）ＨＣｌ、ｃ）水、ｄ）イソプロパノール、及びｅ）アルコール、グリコール、グリコールエーテル、エーテル、エステル、ケトン及び脂肪族炭化水素及び芳香族炭化水素の系列からの少なくとも１種の他の溶剤及び／又は希釈剤の成分をベースとし、かつシラン成分（ａ）：水のモル比が１：４．５〜１：９であることを特徴とする特別なコーティング組成物に関する。本発明は更に、そのような組成物の製造法、及び、滑らかな無機基材表面に耐摩耗性及び耐候性の易洗浄性コーティングを施与するための該組成物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下での屈折率の変動を低減することが光学樹脂材料を得る。
【解決手段】分子中に少なくとも１つの水酸基を有する金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物と、揮発性の低分子成分と、有機重合体を含む光学樹脂材料であって、揮発性の低分子成分が、金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物の水酸基と、結合可能な極性基（例えば、カルボン酸基、カルボニル基、及び水酸基など）を有することを特徴としている。 （もっと読む）

化学基本構造：式（Ｉ）を有する、ゾル−ゲルプロセスによって製造される多分岐有機／無機ハイブリッドポリマーをベースとする光防護添加物及びその製造方法。式中、Ｒ₁〜Ｒ₄は水素、置換されていない飽和若しくは不飽和Ｃ₁〜Ｃ₂₄アルキル、置換された飽和若しくは不飽和アルキル、置換された若しくは置換されていないアリール、ハロゲン、ヒドロキシル、置換された若しくは置換されていないアミン、脂肪族若しくは芳香族カルボニル等の基の中から選択されるか、又は、Ｒ₁〜Ｒ₄は酸類、アルコール類、フェノール類、アミン類、アルデヒド類若しくはエポキシド類等の１種以上の化学組成物の縮合生成物若しくは付加生成物の中から選択される。Ｒ₁〜Ｒ₄は存在する芳香族環とともにフェニルより大きい環構造を形成する置換された若しくは置換されていない芳香族環構造を形成してもよく、Ｍ、Ｚは、酸素、窒素及び硫黄の元素中から選択される。本発明は更に、このような添加物、このような添加物を含む熱可塑性材料、並びにこれらの製品の使用に関する。
式（Ｉ）：

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【課題】ポッティング成型が可能であり、かつ膜厚が厚くても硬化物にクラックや気泡を生じず、しかも無色透明でＵＶ耐久性、耐熱性に優れた光半導体封止材を形成しうる光半導体用封止用組成物、当該光半導体用封止用組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】エポキシ基を有するシラン化合物とエポキシ基を持たないシラン化合物とを、有機溶媒、有機塩基および水の存在下で加熱して得られる重量平均分子量５００〜１００万のポリオルガノシロキサン、
それを主成分とする光半導体封止用組成物、光半導体封止材および光半導体。 （もっと読む）

本発明は、ＯＨ末端オルガノヒドロポリシロキサン（Ｐ）を調製するためのプロセスを提供するものであり、このプロセスの第１ステップにおいて、オルガノヒドロジクロロシラン（Ａ）およびジオルガノジクロロシラン（Ａ）を加水分解性塩素１モル当たり最大０．５モルの水と反応させて部分水解物（Ｔ）および塩化水素ガスを得て、第２ステップにおいては依然存在するＳｉＣｌ基を除去するため部分水解物（Ｔ）を水で処理して塩酸を発生させ、オルガノヒドロポリシロキサン（Ｐ）を含む水解物（Ｈ）を得る。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜形成用組成物に関し、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物を含む膜形成用組成物であって，該脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物が，粒径２ｎｍ〜１５ｎｍの粒子形状であることを特徴とする膜形成用組成物。 （もっと読む）

ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）若しくはポリヘドラルオリゴメリックシリケート（ＰＯＳ）のための合成プロセスは、オレフィン基とアルキル若しくは芳香族基両方を含むシラノール及びシロキサイド分子を製造する。オレフィン担持ＰＯＳＳシラノール/シロキサイドは、更なるシラノール/シロキサイドを誘導する能力を保持しつつ、種々の化学物質に誘導体化される。 （もっと読む）

【課題】 液晶温度範囲の広い、新規な、ポリシロキサンを主鎖とする側鎖型液晶ポリマーおよび側鎖型液晶エラストマー、並びにそれらの製造に用いるビニル基を有するメソゲンを提供する。
【解決手段】 メソゲンは、下記一般式
【化１】


（上記式中、Ｒ¹は、炭素数１〜２０のアルキレン基またはそれを部分的に変形した基を示し、Ａｒは、置換基を有していてもよいアリール基を示す）で表され、（１）Ｒ¹の鎖長が３以上である、（２）Ａｒが２つ以上の芳香環を含む、の少なくとも一方を満足するものである。液晶ポリマーは、上記メソゲンと、Ｓｉ−Ｈ結合を有するポリシロキサンとの間のヒドロシリル化反応によって得られるものである。液晶エラストマーは、上記メソゲン、および２つ以上のビニル基を有する化合物である架橋剤と、Ｓｉ−Ｈ結合を有するポリシロキサンとの間のヒドロシリル化反応によって得られるものである。 （もっと読む）

【課題】被覆時、加熱等して硬化時にクラックがはいらず、真空紫外光領域〜近赤外光領域で光透過率が優れたシリカ系ガラスとなるハイドロジェンポリシロキサン等を提供する。
【解決手段】環状ジハイドロジェンポリシロキサン、特定のシロキサン単位式等を有するハイドロジェンポリシロキサン、加水分解縮合によるそれらの製造方法、これらポリシロキサンを型内で硬化させることによる１７０ｎｍ以上の真空紫外光領域〜紫外光領域で光透過率９０〜１００％であり可視光領域〜１７００ｎｍ以下の近赤外光領域で光透過率９８〜１００％であるシリカ系ガラス成形体の製造方法、該シリカ系ガラス成形体、該シリカ系ガラスからなる光学素子、これらポリシロキサンを光学部材に被覆し硬化させることによる該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子の製造方法、該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子。 （もっと読む）

【課題】新規なエネルギー反応性組成物、並びにその調製方法又は使用方法の提供
【解決手段】第１材料及び第２材料の製品を含む組成物。当該第１材料は低い流動点を示し、第１官能基を含む。当該第２材料は第２官能基を含む。当該第１官能基は閾値温度以下の温度で当該第２官能基と相互作用し、当該第１材料の粘性又は当該第２材料の粘性より高い粘性を有する製品を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物、および当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、−（Ｓｉ（Ｒ）Ｏ_２）−〔Ｒは、−Ｒ^１ＮＨＳＯ_２Ｒ^２基であり、Ｒ¹ およびＲ² は置換されていてもよい直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基（但し、Ｒ² はフッ素原子をもたない。）を示す。〕で表される構造単位を有し、好ましくはさらに−（Ｓｉ（Ｒ^３ＣＯＯＲ^４）Ｏ_２）−〔Ｒ^３は環状２価炭化水素基、Ｒ^４は１価の酸解離性基を示す〕で表される構造単位を有する。 （もっと読む）

【課題】 耐エッチング性、耐薬品性、及び耐湿性に優れ、密着性が良好であり、しかも誘電率の低いシリカ系被膜、該シリカ系被膜の形成に好適なシリカ系被膜形成用材料等の提供。
【解決手段】 本発明のシリカ系被膜形成用材料は、ＣＨｘ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合、Ｓｉ−ＣＨ_３結合、及びＳｉ−ＣＨｘ−結合を構造の一部に有するシリコーンポリマーを含む。ｘは、０〜２の整数を表す。シリコーンポリマーが一般式（１）〜（３）で表されるシリコン化合物と、一般式（４）〜（７）で表されるシリコン化合物とを加水分解縮重合反応させて得られる態様等が好ましい。
【化１３】


【化１４】


一般式（１）〜（７）中、ｎは０又は１を表す。Ｒ^１はｎ＝０のとき、塩素、臭素、フッ素及び水素のいずれかを表し、ｎ＝１のとき、炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、水素、カルボキシル基のいずれかを表す。Ｒ^２は炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、及び水素のいずれかを表す。Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素及び芳香族炭化水素のいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】 白色発光可能で、耐候性や科学的劣化安定性などに優れたＥＬ特性を有する有機材料と無機材料のハイブリッド材料を提供すること。
【解決手段】 赤色発光可能なΠ（パイ）共役ポリアリレンビニレンと、緑色発光可能なΠ（パイ）共役ポリアリレンビニレンと、青色発光可能なΠ（パイ）共役ポリアリレンビニレンとを調製し、調製したこれらのΠ（パイ）共役ポリアリレンビニレンと、アルコキシシランとをゾル−ゲル法によって調製して、前記Π（パイ）共役ポリアリレンビニレンをシラン系ガラスに混合したハイブリッド材料を得る。 （もっと読む）

【課題】 光反応性基を有する新規なシルセスキオキサン重合体およびその製造方法の提供、並びに屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料の提供。
【解決手段】 シルセスキオキサン重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位により構成され、その製造方法は、特定の繰り返し単位により構成される重合体と特定の化合物とを反応させる。
【化１】


〔式中、Ｒ¹ は、下記式（ａ）で表される基を示す。ｎは繰り返し数である。〕
【化２】


〔式中、Ｒ² は、下記式（イ）〜式（リ）のいずれかで表される基を示す。〕
【化３】


〔式（ホ）において、Ｒ³ は、水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のシクロアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基または−ＣＦ₃ 基を示す。式（チ）において、Ｒ⁴ は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基またはジメチルアミノ基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】耐候性、透明性に優れたシリコーン樹脂成型体用ワニスを合成し、これを用いてフィルム及びシート状シリコーン樹脂成型体を得る。
【解決手段】下記式（１）に示すようなシルセスキオキサン誘導体を用いて得られるシリコーン樹脂組成物及び溶剤を含有するシリコーン樹脂成型体用ワニスを合成し、これを用いてフィルム状及びシート状シリコーン樹脂成型体を得る。
【化１】


式（１−１）におけるすべてのＲは非置換のフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はｔ−ブチルであり、Ｙ¹は式（ａ−１）〜（ａ−５）及び（ｂ−１）のいずれかで示される基である。Ｒ^aはビニル、アリルまたはスチリル、Ｘ¹¹，Ｘ¹²，Ｘ¹³，Ｘ¹⁴及びＸ¹⁵は炭素数１〜４のアルキルまたは非置換のフェニルである。 （もっと読む）

【課題】微細な溝も完全に埋め込み、かつ下地段差を平坦化するのに十分な厚塗りができ、下地パターン全体の均一な平坦性を達成でき、さらに水を含まず誘電率の低い、膜特性に優れた絶縁膜を形成することのできる、シロキサン類を用いる、絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造に用いられる絶縁膜形成用塗布液であって、少なくとも一種類の有機置換基と結合したＳｉ原子を含むシロキサン類を含み、かつ、前記シロキサン類の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナルの積分値から求められる所定の式で示される含有比率Ｘが、所定の式を満足する、１５０℃以上３００℃以下の自己流動化温度を有することを特徴とする絶縁膜形成用塗布液、及びこれを用いる半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高硬度でかつシリコーンの特性を有する硬化物を形成可能な光カチオン硬化性樹脂組成物並びに耐汚染性塗料、コーティング材料、樹脂改質剤、レジスト材料及び光造型剤を提供する。
【解決手段】光カチオン硬化性樹脂組成物は、下記式（Ｉ）に示す構造式（Ｒ^０は下記式（ＩＶ）に示す構造式で表される有機官能基であり、Ｘは加水分解性基。）で表される化合物と、一分子中に一つ以上のシロキサン結合生成基を有する反応性シリコーンと、の混合物を加水分解して得られる。


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【課題】比較的低温での硬化が可能であり、酸素存在下の光硬化によっても良好な硬化性を示し、硬化物の硬度が高く、低屈折率で優れた反射防止性能を示す硬化性樹脂組成物並びにこれを用いた積層体、および反射防止材を提供する。
【解決手段】硬化性樹脂組成物が、成分（Ａ）：無機粒子存在下において合成することにより無機粒子が重合体内に分散しているフッ素含有重合体を少なくとも１成分とする。硬化性樹脂組成物には、成分（Ｂ）：重合開始剤、及び成分（Ｃ）重合性シリカも含有させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
Ｒ_fＳｉ（ＯＲ₁）₃・・・（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式（２）Ｒ_eＳｉ（ＯＲ₂）₃・・・（２）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるフッ素原子含有ケイ素化合物（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、幹部分がフッ素系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型ポリマー（Ｃ）及びフッ素原子を有する高分子化合物（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_p（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_q（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒはエステル基及びポリエーテル基から選択され、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｐは０．０５〜０．９５の値を有し、ｑは０．０１〜０．３０の値を有し、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ≒１である）を有する反射防止膜を形成するのに有用なシルセスキオキサン樹脂。 （もっと読む）