高温オゾン処理を含むナノ細孔の超低誘電薄膜の製造方法及びこれによって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜が提供され、前記製造方法は、有機シリケートマトリックス−含有溶液と反応性ポロゲン−含有溶液とを混合して混合溶液を準備し、前記混合溶液を基材上に塗布して薄膜を形成し、前記薄膜を熱処理し、前記熱処理の過程中にオゾン処理を行うことを含み、このような製造方法によって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜は、高温のオゾン処理及び処理温度の最適化による薄膜内の細孔のサイズと分布度の改善を通じて、２.３以下の誘電率と１０ＧＰａ以上の機械的強度とを有することができる。
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シリコーン組成物は、（Ａ）式：（Ｒ^１Ｒ^２_２ＳｉＯ_１／２）_ｖ（Ｒ^２_２ＳｉＯ_２／２）_ｗ（Ｒ^２ＳｉＯ_３／２）_ｘ（Ｒ^３ＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ［式中、オルガノポリシロキサン樹脂が、ケイ素が結合したエポキシ置換有機基を１分子当たり平均少なくとも２つ有するという条件で、Ｒ^１はＣ_１〜Ｃ_１０ヒドロカルビルであり、Ｒ^２はＲ^１又はエポキシ置換有機基であり、Ｒ^３はＣ_４〜Ｃ_８アルキルであり、ｖは０〜０．３であり、ｗは０〜０．５であり、ｘは０〜０．９であり、ｙは０．１〜０．８であり、ｚは０〜０．５であり、ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１である］を有するオルガノポリシロキサン樹脂と、（Ｂ）有機溶媒と、（Ｃ）光開始剤とを含む。シリコーン組成物を含んだ１以上の層を有する平面光導波路組立品、及び、平面光導波路組立品の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】溶剤に可溶なケイ素化合物の縮合体（以降、反応性ポリシロキサンと呼ぶ）の製造方法において、アルカリ触媒による加水分解縮合の後の中和工程で、中和に用いたときにゲル化が起き難く、安定な反応性ポリシロキサンを得ることのできる、硝酸以外の安全な酸を用いる製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２種類のケイ素化合物をアルカリ性で共加水分解縮合した後、酸で中和する方法において、中和工程で有機酸を用いる製造方法、さらに好ましくは、５以下のｐＫａを有するカルボン酸で、中和後の中和液の液性がｐＨ値で７より小さく２以上である反応性ポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
良好な透明性を有すると共に、優れた耐熱黄変性、並びに、加熱条件下での耐光性と、サーマルサイクルにおける耐冷熱衝撃性とを併せ持った硬化物を形成することができ、且つ、良好な保存安定性を有する変性樹脂組成物等を提供すること。
【解決手段】
エポキシ樹脂（Ａ）存在下、（Ｂ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する基を含む１種のアルコキシシラン化合物、及び（Ｃ）少なくとも１個以上のフッ素原子を置換基として有するフェニル基を含むアルコキシシラン化合物等を反応させて得られる変性樹脂組成物であって、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の含有量の比が所定の範囲内にある変性樹脂組成物。
（Ｒ^１）_ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_４−ｎ ・・・（１）
（ここで、ｎは０以上３以下の整数を示す。また、Ｒ^１及びＲ^２各々独立に、特定の１価の有機基等を示す。） （もっと読む）

【課題】被加工基板上に形成されたマスクパターンとミキシングすることがなく、かつこのマスクパターンの間隙に良好に埋め込むことができ、ドライエッチング耐性及び保存安定性に優れる反転パターン形成用のポリシロキサン樹脂組成物及びこれを用いた反転パターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）被加工基板上にマスクパターンを形成するマスクパターン形成工程（２）上記マスクパターンの間隙に、ポリシロキサン樹脂組成物を埋め込む埋込工程、及び（３）上記マスクパターンを除去し、反転パターンを形成する反転パターン形成工程を有する反転パターン形成方法であって、上記ポリシロキサン樹脂組成物が、特定構造を有する［Ａ］ポリシロキサン及び特定構造を有する［Ｂ］有機溶媒を含有することを特徴とする反転パターン形成方法である。 （もっと読む）

親水性抑制剤で安定させるフリーラジカル硬化性官能基を含有するシルセスキオキサン樹脂組成物について開示する。樹脂を安定させるのに、アスコルビン酸又はサリチル酸のようなフリーラジカルを捕捉する能力を有する親水性抑制剤を用いる。樹脂は反射防止塗膜、硬質マスク又はフォトレジスト層のような半導体形成において有用である。 （もっと読む）

【課題】高価な原料を用いることなく簡便な方法で、窒素雰囲気下、１，０００℃における加熱重量損失率が５％以下であり、極めて高い耐熱性を有する硬化物が得られる、新規なケイ素含有高分子化合物、そのヒドロシリル化重合体、その重合体を含有する耐熱性樹脂組成物及び耐熱性皮膜を提供することにある。
【解決手段】本発明のケイ素含有高分子化合物は、下記一般式（５）で表され、重量平均分子量が５００〜５００，０００である。
【化１】



〔式中、Ａ^２は炭素−炭素不飽和基を有する炭素数２〜１０の有機基、Ｒ^３は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０の２価の芳香族基もしくは炭素数３〜２０の２価の脂環式基、ｎは０又は１、Ｒ^４はＨ原子もしくは炭素数１〜１０のアルキル基（１分子中のＲ^４は同種でも２種以上の異種の組み合わせあってもよい。）、ｘ，ｙは正の数であり、ｗ，ｚは０又は正の数であって、０≦ｚ／（ｗ＋ｘ＋ｙ）≦２且つ０．０１≦ｙ／（ｗ＋ｘ）≦５である。〕 （もっと読む）

アルコール／水混合物及びシラン混合物用の別個の供給管、ガス状の反応生成物用の排出管が備わっている脱気容器、並びに液状の反応生成物用のオーバーフロー管を有する、クロロシランを部分的にアルコキシル化するための直立に配置された循環型反応器であって、その際、前記循環型反応器は、加熱装置、及び反応媒体中の温度を少なくとも５℃の精度で調節することができる、前記加熱装置に接続された循環流中の温度を調節するための調節装置を有し、その際、前記オーバーフロー管には、過剰のアルコール相を分離し、且つ循環型反応器に返送する付加的な相分離ユニットが接続されている。
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本発明は、安息香酸エステルを粒子の形態で含んでなる有機ケイ素ポリマー、それらの調製方法、それらを含んでなる化粧品又は皮膚科用の組成物、並びにヒト又は動物の生体をＵＶ照射から保護するためのそれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性及び耐溶剤性に加えて、特に低誘電性が優れた層間絶縁膜を形成可能であり、かつ十分な放射線感度及び保存安定性を有するポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）加水分解性基を有するポリカルボシラン及び（ａ２）加水分解性基を有するシランモノマーを、（ａ３）触媒の存在下で加水分解縮合することによって得られた加水分解縮合物、並びに［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】低温で合成する必要が無く、副生成物の処理が容易であり、更に、大量の再沈殿溶媒が不要で、アラミドシリコーンポリマーの大量生産に好適に使用することのできるアラミドシリコーンポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）分子鎖両末端に式：−Ｂ−ＮＨ_２（Ｂは二価炭化水素基を表す）で表される基を有する両末端アミノ変性ジオルガノポリシロキサン、（Ｂ）芳香族ジアミン、及び、（Ｃ）芳香族ジカルボン酸ジハロゲン化物を、（Ｄ）無機塩基の存在下、（Ｓ１）水、及び、（Ｓ２）非プロトン性有機溶媒中で、１０℃以上の温度で反応させる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）置換基を有してもよいフェニル基およびエポキシ基を含有するポリシロキサン、および（Ｂ）エポキシ樹脂用硬化剤を含み、前記置換基を有してもよいフェニル基の含有量が前記（Ａ）ポリシロキサンに対して８〜３０質量％であることを特徴とする光半導体封止用組成物、およびこれを用いて作製した発光素子。
【効果】本発明に係る光半導体封止用組成物は、耐熱性および耐光性を損なうことなくクラック耐性、密着性、電極の変色に対する耐性を向上させた硬化物を形成できる。 （もっと読む）

【課題】ｐ型材料とｎ型材料の組み合わせにかかわらず容易に形成することができる、ナノメートルオーダーのｐｎ接合界面を有するバルクヘテロ接合型の有機薄膜を備える光電変換効率に優れた太陽電池を提供すること。
【解決手段】第１の電極および第２の電極と、該電極間に、ｐ型またはｎ型のメソポーラス有機シリカとｎ型またはｐ型の材料とがバルクヘテロ接合している有機薄膜とを備えることを特徴とする太陽電池。 （もっと読む）

本発明は、高粘稠なポリオルガノシロキサンおよび式（ＲＯ）_nＰ（Ｏ）（ＯＨ）_(3-n) （Ｉ）〔式中、Ｒは、同一でも異なっていてもよく、４〜３０個の炭素原子を有する１価の炭化水素基を表わし、ｎは、１または２である〕で示される少なくとも１つの乳化剤および／またはその塩を含有し、環状シロキサンの特に低い含量を有する水性シリコーンエマルジョン、その製造法ならびに殊にボディーケア剤中への当該水性シリコーンエマルジョンに関する。 （もっと読む）

【課題】比誘電率の低い層間絶縁膜の形成が可能であり、反射率１．０％以上の高反射性の下地基板上においても、定在波の少ない良好なパターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、硬化パターン及びその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明は、一般式Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ〔Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シアノ基、シアノアルキル基又はアルキルカルボニルオキシ基、Ｒ^２は、１価の有機基、ａは１〜３の整数〕で表される加水分解性シラン化合物、及び、一般式Ｓｉ（ＯＲ^３）_４〔Ｒ^３は、１価の有機基〕で表される加水分解性シラン化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を加水分解縮合させて得られる重合体と、感放射線性酸発生剤と、酸増殖剤と、溶剤とを含有するネガ型感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）
Ｘ_m（Ｒ²）_nＳｉ（ＯＲ¹）_(4-m-n)・・・（１）
（ＸはＣ_6-18の１価炭化水素基、Ｒ¹、Ｒ²は１価炭化水素基、ｍは１又は２、ｎは０又は１、ｍ＋ｎは１又は２）
で表される有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む有機ケイ素化合物原料を、加水分解、重縮合することによって得られる環状体オルガノポリシロキサンとリニア体オルガノポリシロキサンを含有するオルガノポリシロキサンであって、ケイ素核磁気共鳴スペクトル分析における式（１）で表される化合物由来のピークのアルコキシ基が２つ加水分解縮合し、シロキサン単位となった成分（Ｔ２）において、環状体成分を表すピーク成分（Ｔ２ａ）とリニア体成分を表すピーク成分（Ｔ２ｂ）との比率（Ｔ２ａ／Ｔ２ｂ）が０．９以上であるオルガノポリシロキサン、
揮発性の有機溶剤
を含有する撥水剤組成物。
【効果】本発明は撥水性及び撥水接続性に優れたものである。 （もっと読む）

シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、塩基水溶液の揮散剤又はＣＦ_４を含有する反応性イオンエッチング法を用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、フォトレジストの上面全体を露出する。次に、Ｏ_２を含有する第２反応性イオンエッチング法を用い、フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
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【課題】 ポリオルガノシロキサン粒子の製造毎の平均粒子径のばらつきが小さく、所望の粒子径のポリオルガノシロキサン粒子を再現性よく製造する。
【解決手段】 下記式（１）で表される加水分解性有機ケイ素化合物相を上層に配置し、加水分解用触媒の水／アルコール混合溶媒相を下層に配置し、加水分解性有機ケイ素化合物と加水分解用触媒とを接触させるポリオルガノシロキサン粒子の製造方法において、アルコールが炭素数５〜１０の一価アルコール（ＲＯＨ₁）を含む。
Ｒ¹_nＳｉ（ＯＲ²）_4-n・・・・・・・（１）
（式中、Ｒ¹は置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数１〜１０の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアシル基を示し、ｎは０〜３の正数である） （もっと読む）

【課題】低比誘電率であり且つ高弾性率な層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、（Ａ）下式（１）で表される有機ケイ素化合物（ａ１）と、下式（２）で表される有機ケイ素化合物（ａ２）と、を含む加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られるポリシロキサン、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、（Ｃ）酸拡散抑制剤、及び（Ｄ）溶剤を含有する。


〔式中、Ｒ^１は炭素数２〜６のアルケニル基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数である。Ｒ^３は水素原子、フッ素原子、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シアノ基、シアノアルキル基又はアルキルカルボニルオキシ基を表し、Ｒ^４は１価の有機基を表し、ｂは１〜３の整数である。〕 （もっと読む）

【課題】液晶配向性に優れ且つ耐熱性および耐光性が高く、電気特性に優れる液晶配向膜を形成することができ、しかも保存安定性が良好な液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、Ｓｉ−Ｘ’結合（ただしＸ’は液晶配向能を有する構造を含む基である。）およびＳｉ−Ｘ^Ｉ結合（ただしＸ^Ｉはエポキシ構造を含む基である。）を有するポリオルガノシロキサン（Ａ）、ならびに分子内にカルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、カルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造およびカルボン酸のｔ−ブチルエステル構造よりなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を２個以上有する化合物（Ｂ）を含有する。 （もっと読む）