【課題】初期の可視光透過率に優れ、耐久性にも優れた透明積層フィルム、これを用いた透明積層体、プラズマディスプレイを提供すること。
【解決手段】透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、液相法により形成された金属酸化物を含む薄膜と、金属薄膜とが交互に積層されており、金属薄膜の少なくとも一方面には、気相法により形成された金属酸化物を含むバリア膜が設けられた透明積層フィルムとする。金属酸化物を含む薄膜およびバリア膜における金属酸化物としてチタンの酸化物、金属薄膜における金属として銀または銀合金を好適に用いる。また、透明支持基体の表面に、粘着剤層を介して、透明積層フィルムを貼り付けた透明積層体とする。また、上記透明積層フィルムまたは透明積層体をプラズマディスプレイに用いる。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れるガスバリア性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】 基材上に金属層または金属酸化物層およびオーバーコート層を積層したガスバリア性積層体の製造方法であって、基材上に金属層または金属酸化物層を形成し、該金属層または金属酸化物層の表面を活性化処理した後にオーバーコート層を設けることを特徴とするガスバリア性積層体の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide、ITO）を含むフィルムの表面に上記ＩＴＯの構成元素であるＩｎ、Ｓｎ、Ｏのうち少なくとも一種の元素と窒素が反応して生成された窒素化合物、または窒素原子を含有する蒸着された窒素化合物を含むＩＴＯフィルム、また、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide、ITO）を含むフィルムの表面を窒素プラズマ処理することを特徴とするＩＴＯフィルムの製造方法を提供する。
本発明により製造されたＩＴＯフィルムを陽極として使用した有機発光素子は、低電圧、高効率、長寿命の特性を発揮する。
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【課題】０．６ｍｍ以下のより薄い光ディスク基板を用いても光ディスク基板が変形せず、しかもスループットを低下させることがない光ディスク基板成膜装置および光ディスク基板成膜方法を提供すること。
【解決手段】基板の面上に薄膜を成膜して光ディスクを作成する光ディスク基板成膜装置において、光ディスク基板１をホルダー部３で固定し、さらにホルダー部３に光ディスク基板１の被成膜領域Ｓの裏面の少なくとも一部と密着する密着支持面Ｓ'を設ける。 （もっと読む）

同時押出成形された多層初期フィルムの同時延伸により製造され、ＰＡ機能層がフィルムの外側層又は２つの支持層間に配設されたフィルムの中心内側層を構成する、非晶質又は部分結晶性ポリアミド（ＰＡ）又はそのポリアミドのエチレンビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）との混合体をベースとする少なくとも１つの機能層を備える二軸方向性のポリプロピレンフィルム（ＰＰフィルム）から成る少なくとも１つの支持層をベースとする多層フィルムの形態の、包装用の、特に食料品及び嗜好品の包装用の高強度の輝きのある品質で調製可能な保護フィルム、その製造方法及び使用方法。 （もっと読む）

金属ナノ粒子コーティングされたミクロポア基材、その調製方法、およびその使用について記載している。
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【課題】例えば真空蒸着室の内面に電気絶縁性かつ易剥離性のダミー壁を形成するのに好適なスラリーを提供する。
【解決手段】窒化硼素粉末を５〜３０質量％含有するスラリーであって、窒化硼素粉末が、粉末Ｘ線回折による黒鉛化指数が３〜３０、酸化硼素含有率が０．５〜５質量％、比表面積が２０ｍ^２／ｇ以上、平均粒径が１０μｍ以下、最大粒径が４０μｍ以下であることを特徴とする窒化硼素含有スラリーである。とくに、真空蒸着室の内面にダミー壁を形成させるための窒化硼素含有スラリーである。 （もっと読む）

【目的】 １２００℃の高温で連続加熱できる精密な温度や時間の制御と真空あるいは不活性ガスによる雰囲気および冷却制御が可能である熱処理と蒸着を同一チャンバー内で連続的に行うことができる熱処理・蒸着複合装置を提供する
【構成】 水冷構造で水平進と回転と旋回が可能で、中心部に基材温度測定用熱電対を通す孔が設けられている駆動装置の主軸と主軸端部には回転式熱電対接続部と主軸先端には主軸と同方向の自公転軸または主軸と直角方向の自公転軸を有する回転冶具が具備され、基材駆動装置が設置された対面のチャンバー側壁には基材を支持する可動軸を具備した水冷式基材観察窓を取り付ける。 （もっと読む）

【課題】 膨張黒鉛材料が備える優れた熱伝導特性を損なうことなく、黒鉛粉の落下を生じない膨張黒鉛を用いたシート材料の提供。
【解決手段】 シート状に形成された膨張黒鉛と、該膨張黒鉛のシートの少なくとも一方の面に蒸着されて形成される金属層からなることを特徴とするシート材料である。 （もっと読む）

【課題】 任意の固体材料に関して、液体化した材料の蒸発による成分および固体ターゲットアブレーションにおける微粒子の発生を抑えることにより、良好な膜質の薄膜を形成することができるレーザアブレーション成膜装置の提供。
【解決手段】 ターゲット１１を保持するターゲットホルダ１０と、成膜用基板２１を保持する基板ホルダ２０と、電子線を発生する電子線発生装置３０と、電子線収束装置４０と、レーザ光照射装置５０とを備えた電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置である。電子線収束装置４０は、電子レンズを形成することにより電子線発生装置３０から発生された電子線をターゲット１１の表面の一部に収束させて該表面の一部を局所的に液体化する。レーザ光照射装置５０は、電子線収束装置４０により液体化されたターゲット１１の表面の一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。 （もっと読む）

【課題】 金属部品と同等の強度を有し、且つ軽量な金属樹脂複合部品を提供する。
【解決手段】 樹脂と、該樹脂の架橋助剤となる架橋型多官能モノマーと、前記樹脂中に分散されるトリアジン類で表面処理された金属製フィラーとを配合して混練し、該混練物を金型で成形し、成形後に放射線を照射して前記樹脂を架橋し、該架橋樹脂成形品を１００℃以上で熱処理し、引張強度が１００ＭＰａ以上、比重が３以下とされている。
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【課題】ＴＦＴディスプレー被覆用のＡｌ及びＡｌ合金系の一体構造の管状スパッタターゲットを製造することができる工業的にかつ経済的に魅力的な方法を開発すること
【解決手段】スパッタプロセスにおいて利用可能な管状領域に合わせ目又は継ぎ目がないターゲット材料を有する、特にＴＦＴディスプレーを製造するための管状スパッタターゲットにおいて、前記ターゲット材料がＡｌ又はアルミニウム合金からなることを特徴とする管状スパッタターゲット （もっと読む）

【課題】工程数を低減し、製造コストを抑える。
【解決手段】アルミニウムの蒸着とヘキサメチルジシロキ酸の蒸着とを同時に行うことにより、金属光沢のあるスモーク色の見栄えを有する膜７を形成する。換言すれば、金属光沢のあるスモーク色の見栄えを有する膜７として、アルミニウム、Ｃ、Ｓｉ、ＯおよびＨのすべてを含む膜７を形成する。好ましくは、要求されるスモーク色の濃淡に応じて、真空蒸着装置のチャンバー内に導入されるヘキサメチルジシロキ酸のガス流量を変化させる。 （もっと読む）

【課題】コストを抑えながら、メディアのデータ記憶能力を向上させ、正確なデータ位置制御を維持し、かつメディア・データの解像度を向上させるパターンド・メディア・インプリント・マスタを作製する装置、システム、および方法を提供する。
【解決手段】基板１０２および蒸着マスク１１０は、蒸着プロセスの間、基板および蒸着マスクが一体の要素として作用するように、間にあるスペーシング要素１０８によって固定的に取り付けられる。蒸着マスク１１０は、リソグラフィ・プロセスによって生成された複数の開口１１２を包含する。材料は、固有の蒸着角度で配向された１を越える蒸着源３００から、蒸着マスク１１０を介して基板上に蒸着される。従って、得られる基板１０２の蒸着パターンは、蒸着マスク開口１１２の密度よりも高い密度を示す一方で、蒸着パターンの歪みが回避される。 （もっと読む）

【課題】 Ａｌを主成分とする主導体層をより低抵抗に維持すると同時に、一括のウェットエッチングでパターニングでき、主導体層の耐熱性、特にヒロック耐性が確保される新規の薄膜配線層を提供する。
【解決手段】 基板上にＮｉを主成分とする面心立方格子構造を有する下地層を、該下地層上に主成分が９９原子％以上のＡｌからなる主導体層を形成した薄膜配線層である。また、前記Ｎｉを主成分とする下地層の層厚が５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である薄膜配線層である。また、前記Ｎｉを主成分とする下地層は、添加元素として（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ｇｅ）から選択される１種または２種以上の元素を７〜３０原子％含有し、残部が不可避的不純物およびＮｉからなる薄膜配線層である。 （もっと読む）

【課題】 Ａｌやその合金の蒸着被膜を、希土類系永久磁石などの被処理物の表面に、突起物の生成や損傷を効果的に抑制しつつ、優れた生産性でもって形成する方法を提供すること。
【解決手段】 真空処理室内に、蒸着材料の溶融蒸発部と、複数個の被処理物を収容するための収容部材を備えた蒸着装置を用い、複数個の被処理物を収容した収容部材を水平方向の回転軸線を中心に回転させながら、Ａｌまたはその合金の蒸着材料を被処理物の表面に蒸着させるに際し、予め、被処理物を２００℃〜３５０℃に加熱しておいてから蒸着を開始することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】主としてプラスチック材料で構成された基材を備え、電磁波の透過性に優れるとともに、美的外観および耐久性に優れた装飾品を提供すること、当該装飾品を製造することができる装飾品の製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】本発明の装飾品１の製造方法は、主としてプラスチック材料で構成された基材２上に、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｃｒの化合物およびＴｉの化合物よりなる群から選択される少なくとも１種を含む材料で構成された第１の被膜３を形成する工程と、第１の被膜３上に、ｇおよびＡｌよりなる群から選択される少なくとも１種を含む材料で構成された第２の被膜４を形成する工程と、基材２の第２の被膜４が設けられている側の面とは反対の面側からレーザー光を照射し、第２の被膜４の一部を除去することにより、開口部６を形成する工程と、第２の被膜４上にコート層５を形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高い耐湿性を得ることのできる金属化フィルム、コンデンサ用フィルムおよびそれを用いたコンデンサを提供する。
【解決手段】第一の形態として、高分子フィルムの少なくとも片面に金属層を蒸着してなる金属蒸着フィルムであって、該金属化フィルムの少なくとも一方の面上に炭素を含む保護層が形成されており、該保護層の少なくとも一方の保護層表面のＥＳＣＡによるＣ１ｓピークによる炭素の化学状態が、炭素全体を１としたピーク比においてＣＨｘのピーク比が０．８０以下である蒸着フィルム。保護層の少なくとも一方の保護層表面の表面エネルギーの分散力成分が３８ｍＮ／ｍ以下であり、金属層の少なくとも一方の金属層面の表面エネルギーの分散力成分が２７ｍＮ／ｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 ｐｉｎ接合を有する光起電力素子の製造に際し、高いテクスチャー度を有するが吸着サイトが増加している透明導電層を使用した場合においても、ドーピングガス等が実質的に真性なｉ型半導体層に混入して特性が低下するのを防止して良好な特性を有する光起電力素子を製造できるようにする。
【解決手段】 基板上に透明導電層を形成する工程と、第一の導電型を有する半導体層を形成する工程と、前記透明導電層又は半導体層に吸着した前記第一の導電型を決定する元素の少なくとも一部を基板温度１００〜４００℃で熱処理及び／又はプラズマ処理により脱離させる工程と、前記第一の導電型を有する半導体層の上に実質的に真性な第二の半導体層を形成する工程と、前記第一の導電型とは反対の導電型を有する第三の半導体層を形成する工程をこの順に少なくとも有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明のはんだ合金は、スパッタリングターゲットの製造の際にターゲット材とバッキングプレートとの接合に用いられるはんだ合金であって、Ｓｎを主成分とし、Ｉｎを１０〜２５重量％、Ａｇを２０００ｐｐｍ以下の量で含有し、かつ１６０〜２００℃の固相線温度を有することを特徴としている。また、本発明のはんだ合金は、Ｉｎを１０〜２５重量％、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ａｇからなる群より選択される少なくとも１種の金属を合計で１８０〜５０００ｐｐｍの量（ただし、Ａｇは２０００ｐｐｍ以下、Ｐｂは１０００ｐｐｍ未満である）で含有し、Ｓｎを残部の量で含有するものであってもよい。
【効果】 本発明のはんだ合金によれば、耐熱性および接合強度が向上した接合材層を形成することができる。また、本発明のスパッタリングターゲットによれば、マザーガラスの大型化の要請に沿い、大面積の薄膜形成を安定かつ効率的に行うことができる。
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