【課題】非金属材に、金属光沢を付与するだけでなく、グラデーションのある多彩な金属光沢を与える方法及びそれでなる、多彩な金属光沢を有する非金属材を提供することを目的とする。
【解決手段】非金属材の表面に、窒素、酸素、水素及び炭素を含めるガスの雰囲気の下に、該ガスの含有成分を調整しながら金属材のターゲットを使用するスパッタリングによりサーメットを積層するサーメット積層工程を備えることを特徴とする、非金属材に多彩な金属光沢を与える方法、及び、非金属材の表面に、金属材と窒素、酸素、水素及び炭素の元素の成分が深さの方向に変化したサーメット層が積層してあることを特徴とする、多彩な金属光沢を有する非金属材を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板処理のサイクルタイムを減じる装置と方法を提供すること。
【解決手段】本基板処理装置１は、送り込み領域６と、コーティング処理用の第１〜４のプロセスチャンバ２、３、４、８と、取り出し領域７とを備える。これらのチャンバは中央搬送チャンバ５に接続される。第１と第４のチャンバ２、８はそれぞれロック領域６、７の一方と中央搬送チャンバ５との間に直列に配列される。第２と第３のチャンバ３、４は、互いに独立してアクセスされることが可能なように中央搬送チャンバに並列接続される。本処理方法によれば、ａ）基板を装置内に送み、ｂ）基板を第１のチャンバ内に搬送し、第１の処理ステージを実行し、ｃ）基板を中央搬送チャンバに搬送し、ｄ）基板を、代替的に第２又は第３のチャンバに搬送し、第２の処理ステージを実行し、ｅ）基板を中央搬送チャンバに搬送し、ｇ）基板を装置から取り出す。 （もっと読む）

【課題】良好な特性を示す記録層を直流スパッタリングで形成するのに適したスパッタリ
ングターゲットとその製造方法、並びに、該スパッタリングターゲットを用いた高密度光
記録媒体とその製造方法の提供。
【解決手段】（１）Ｂｉ、Ｆｅを含み、比抵抗が１０Ωｃｍ以下であることを特徴とする
スパッタリングターゲット。
（２）Ｂｉ、Ｆｅ、及びＯを含み、更に導電性を付与する物質を含むことを特徴とするスパッタリングターゲット。
（３）Ｂｉ、Ｆｅ、及びＯを含み、化学量論組成よりも酸素が少ない化合物を含む（１）から（２）のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】マスクの再生を容易かつ確実に行い得るマスクの再生方法を提供することにある。
【解決手段】本発明のマスクの再生方法は、シリコンおよび／またはガラスで構成され、導電性を有する無機物質を成膜する際に使用されるマスクを、使用後に再生する方法であり、マスクに、硝酸およびリン酸のうちの少なくとも一方を含む第１の処理液を接触させて、マスクに付着した無機物質を除去する第１の工程と、マスクに、アンモニアおよび過酸化水素を含有する第２の処理液を接触させて、マスクに付着・残存する不要物を除去する第２の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】真空成形等の三次元の立体成形においても金属光沢層に問題が発生せず、層間密着性を有する、金属光沢を表現した金属調化粧シートを提供すること。
【解決手段】少なくとも熱可塑性樹脂基材、接着剤層、金属光沢層、接着剤層、透明熱可塑性樹脂表面層をこの順に設けてなる金属調化粧シートにおいて、前記金属光沢層が、透明熱可塑性樹脂層の両面に金属蒸着層を設けたものであることを特徴とし、前記透明熱可塑性樹脂層が、厚み６〜１００μｍのポリエステル系かポリオレフィン系樹脂単体または複合あるいは混合物からなり、前記金属蒸着層が厚み５０〜１５０ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 直接金属蒸着性に優れ、表面外観の良好なポリエステル樹脂組成物を提供する。加えて、それを成形して得られる成形品の表面の一部または全体に金属蒸着膜が形成されている光反射体が高鏡面性、高輝度感を有し、更に高温暴露後の曇りによる輝度感低下のない組成物を提供する。
【解決手段】 ポリブチレンテレフタレート樹脂（Ａ）３０〜８０重量％、ポリエチレンテレフタレート樹脂（Ｂ）１０〜４０重量％、平均粒子径１．２μｍ以下の焼成カオリン（Ｃ）と非繊維状無機充填材（Ｄ）から構成された無機フィラー０．１〜４０重量％からなるポリエステル樹脂組成物であって、窒素雰囲気下２７０℃で１０分間放置したときの重量減少率が５重量％未満の離型剤（Ｅ）を（Ａ）〜（Ｄ）の合計１００重量部に対して０．０１〜１．０重量部含む光反射体用ポリエステル樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性を高めて膜剥がれを防止すると共に、優れた反射防止特性を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】基板上に施される反射防止膜であって、前記基板側から順に、金属で構成される第１の層と、フッ化物で構成される第２の層とを有することを特徴とする反射防止膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】成膜粒子の入射エネルギー及び相分離の度合いの制御性を向上させることが可能な、相分離膜の製造方法を提供する。
【解決手段】陰極アーク放電により陰極材料のアークプラズマ２４を発生させる工程と、前記アークプラズマ中のイオンを基板２３に照射する工程と、該イオンにより該基板２３上に相分離する組成の材料から成る膜を形成する工程を含む相分離膜の製造方法。前記相分離する組成の材料が、Ａｌ_X（Ｓｉ_YＧｅ_1-Y）_1-X（０．３≦Ｘ≦０．８、０≦Ｙ≦１）の組成を有するアルミニウム及びシリコン、アルミニウム及びゲルマニウム、またはアルミニウム及びシリコン及びゲルマニウムからなる。 （もっと読む）

【課題】チャンバ要素上や基板の張り出しエッジ上のプロセス堆積物の堆積を減少させるプロセスキットの提供。
【解決手段】基板処理チャンバ内で基板支持体の周りに配置するための堆積リングにおいて、プロセスガスのプラズマが該基板を処理するために形成され、該基板が該基板の張り出しているエッジの前で終わる周囲壁を備え、該堆積リングが該支持体の周囲壁を囲む環状バンド２１６であって、該環状バンドから横に伸長し、該支持体の周囲壁にほぼ並行であり、該基板の張り出しているエッジの下で終わる内部リップ２１８と、隆起リッジ２２４と、内部リップと隆起リッジとの間に、基板の張り出しているエッジの下に少なくとも部分的に伸長する内部開放チャネル２３０と、該隆起リッジの放射状に外向きのレッジ２３６と、を備えている前記環状バンドを備えている防着リングを配置する。 （もっと読む）

【課題】装飾用に適するに素材シートを作成する技術を提供する。
【解決手段】絹、織物または不織布の各繊維等の繊維シート１と、その上に設けられた密着・色再現向上層２と、その上に設けられた貴金属層３とを順次積層した構成を有している。 （もっと読む）

【課題】軟質高分子成形体に優れた金属調を実現し、トップコート層を設けた場合であっても光沢が喪失せず元来の金属調を維持することができる金属調軟質高分子成形体の提供。
【解決手段】軟質高分子成形体１１に金属薄膜層１３を有する金属調軟質高分子成形体１０について、金属薄膜層１３を、長手方向の最大長が５μｍ以内の蒸着金属粒でなる多数の島部が不連続に密集する平坦な表面構造を有するものとし、かつその層厚を２０ｎｍ〜１００ｎｍとした。 （もっと読む）

【課題】 蒸発面での溝形成の程度及びパターンを緩和することによって蒸着ボートの有効寿命をさらに延ばす。
【解決手段】 向上した有効寿命及び耐食性を有する金属蒸発用の耐火性容器であって、容器の蒸発面は底面に形成された複数の溝を有する。かかる溝は、１．２ｍｍ以上の深さ、１．７５ｍｍ以上の幅、又は隣接する溝間（又は隣接する溝の中心間）で２．２ｍｍ以上の間隔、或いはこれらの組合せを有している。 （もっと読む）

【課題】長尺帯状基材に長手方向における膜厚が均一となるように成膜を行う真空蒸着装置の運転方法および真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】予め実験おいて、長尺帯状基材10に長手方向における膜厚が均一となるように成膜作業を行い、実験時の成膜作業開始時点からの経過時間とその時間における電源51の出力を測定して得られた時間と出力の関係を記憶装置9に記憶する。以後の長尺帯状基材10への成膜は次のように行う。まず、成膜作業開始前の予備加熱段階は、水晶発振式膜厚計6を用いて、所望の成膜速度で安定するように電源51の出力を制御する。次に、所望の成膜速度になった後、基材搬送装置3を駆動させて長尺帯状基材10への成膜作業を開始する。そして、成膜作業開始後は、記憶装置9により記憶した経過時間の出力と一致させるように電源51の出力を制御することで成膜作業を行う。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングにより、光輝性及び不連続構造の金属皮膜を高生産性・低コストで得る。
【解決手段】樹脂製品１０（例えばミリ波レーダー装置カバー）は、板状の樹脂基材１１と、樹脂基材１１の上に、結晶構造が同一であり格子定数差が１０％以内である少なくとも２種の金属であって真空蒸着では不連続構造を相対的に形成しやすい易形成金属と相対的に形成しにくい難形成金属とがその順で切り替わってスパッタリングされた部分を含んで成膜された光輝性及び不連続構造の金属皮膜１２とを含み、金属皮膜１２の上には保護膜としてのトップ塗膜、おさえ塗膜等が形成される。 （もっと読む）

【課題】簡易な駆動機構によりターゲット表面上の磁力線分布を変え、ターゲットのワイドエロージョン化を図るようにした磁石構造体等を提供する。
【解決手段】磁石構造体１１０は、ターゲット表面２０Ａに至る主磁力線を形成するよう、ターゲット２０の裏面２０Ｂの側に配置された主磁石１０、１３と、主磁力線による磁束密度分布を変える補正磁力線を形成するよう、ターゲット２０の裏面２０Ｂの側に配置された補正磁石１１と、ターゲット２０の裏面２０Ｂの側に配置された前記補正磁力線の磁路２１Ａ、２１Ｂ、２４と、磁路２１Ａ、２１Ｂ、２４の内部を貫く補正磁力線の強度を変更可能な磁界補正手段１２、１４と、を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機化合物を含む発光素子を製造するための装置および方法に関する。
【解決手段】これらの素子には、有機発光ダイオードが備えられており、ディスプレイまたはかかる発光ダイオードを有する照明素子であってもよい。本発明の目的は、製造のために使用する時間のコストに関する製造経費を低減することである。この場合、既に前処理された基板が連続式真空コーティングプラントにおいてさらに加工される。かかる基板上には、その上方に発光のために適合する有機化合物の少なくとも一つの層が蒸着することが意図されている電極が形成される。蒸着は相違する角度分布を備えて行われる。このためにはシャドーマスクが使用される。蒸着における角度分布は、シャドーマスクから基板までの間隔および／または上部電極および有機物層を蒸着するためのソースの基本圧を変化させることによって適応させることができる。 （もっと読む）

本発明は、真空蒸着法を用い、母材であるパウダーの表面上に、サイズの均一性に優れた金属、合金及びセラミックスのナノ粒子を蒸着させるパウダーの製造方法、及びその製造装置に関する。特に、本発明は、極めて均一なサイズを有する金属、合金及びセラミックスのナノ粒子が蒸着されたパウダーの製造方法及びその装置を提供するものであって、蒸着と撹拌が別々に行われる従来方法の短所を解決するために、効率的な撹拌手段を用いて蒸着と撹拌とを同時に行うものである。また、本発明は、ナノ粒子が蒸着されたパウダーの製造方法、及びその製造装置を提供するものであって、ナノ粒子の製造において、ナノ粒子の量を増大させるために蒸着時間が増大した場合であっても、ナノ粒子の凝集現象を抑制することにより、ナノ特性が維持される。 （もっと読む）

【課題】 より低い温度で基板を加熱した場合でも金属材料を十分にホールに埋め込むことができる高温リフロースパッタリングの技術を提供する。
【解決手段】 セパレーションチャンバー１の周囲に気密に接続された複数の処理チャンバーのうちの一つはスパッタチャンバー４であり、二段階成膜が行われる。第一の行程ではターゲット４２と基板９との距離は長い第一の距離とされてホール９０の内面にベース薄膜９３が作成され、第二の工程ではターゲット４２と基板９との距離が短い第二の距離とされ、ヒータ４４１で基板９を加熱して薄膜をリフローさせてホール９０内に埋め込む。セパレーションチャンバー１は、冷凍機１３により１３０Ｋ〜５０Ｋに冷却されるパネル１２が設けられ、不純ガスがパネル１２の表面に凝縮される。 （もっと読む）

【課題】
５μＦのコンデンサー素子を形成した際に、絶縁抵抗が５０００ＭΩ以上となるような金属蒸着フィルムを提供する。
【解決手段】
二軸配行ポリエステルフィルムの少なくとも片面に１回以上金属蒸着を行い、所定の幅に裁断しながらリール状に巻きとられた後に少なくとも１回の加熱処理を行った金属蒸着フィルムであって、加熱処理条件が加熱温度５０℃〜８０℃で加熱時間２０〜１００時間である金属蒸着フィルムの製造方法。 （もっと読む）

反射性、水密性、水蒸気透過性のメンブレンの製造方法において、水密性、水蒸気透過性のメンブレンを設けるステップと、担体フィルムを設けるステップと、該メンブレンを該担体フィルムに被着するステップと、真空蒸着法によって該メンブレンの自由な表面に金属表面を被着するステップと、水密性、水蒸気透過性のカバー層を被着するステップと、該担体フィルムを除去するステップとを有する製造方法。連続的なカバー層が設けられた金属コーティングを有する反射性、水密性、水蒸気透過性のメンブレンにおいて、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６３３０：２０００にしたがって３回洗浄を行った後になお活性の金属コーティングの表面の少なくとも８０％が得られることを特徴とするメンブレン。 （もっと読む）