【課題】 安定的な薄膜形成を可能として、かつ装置コストを抑えることができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置は、複数の成膜室２１〜２４を例えばＺｎＯ膜上のＡＬ膜、Ａｇ膜の積層、あるいはＡｇ膜のみの複数回に分けての成膜に利用することができる。仕切り扉３３ａ，３３ｂをともに開いておくとき、フィルム基板１０を一回だけ搬送すれば、第１成膜室２１と第２成膜室２２ではフィルム基板１０の表面側に成膜でき、同時に第３成膜室２３と第４成膜室２４では裏面側に成膜を施すことができる。仕切り扉３３ａ，３３ｂの一方だけを開いておけば、送りロール４から中間ロール１８に至る搬送経路と、中間ロール１８から巻き取りロール５に至る搬送経路とに切り換えて使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 サイズの大きい被処理物に対しても、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる、蒸着被膜形成方法を提供すること。
【解決手段】 真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置を用いた蒸着被膜形成方法であって、（１）被処理物と金属製スプリング部材を、筒型バレル内にそれぞれ多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とするか、（２）金属製スプリングをテンションを付加して架設した筒型バレル内に、被処理物を多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】 複数の量子ドットの大きさの均一性を向上させることができる量子ドットアレイの製造方法及び量子ドットアレイ等を提供すること。
【解決手段】 本発明は、量子ドットを有する柱状部を基板上に複数有する量子ドットアレイの製造方法において、量子ドットに対してエネルギー障壁となる第１バリア層の構成材料を基板の表面に斜方蒸着し第１バリア層を複数形成する工程と、量子ドットの構成材料を基板の表面に斜方蒸着し第１バリア層上に量子ドットを形成する工程と、量子ドットに対してエネルギー障壁となる第２バリア層の構成材料を基板の表面に対して斜方蒸着し量子ドット上に第２バリア層を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 金属製管状体の材質であるステンレス鋼管状体の接合部を加熱することなく、低温で一体化させる技術を提供する。
【解決手段】 本発明の金属製管状体は、内径1.0ｍｍ以下の金属製管状体の表面にチタンまたはアルミニウムの窒化物、炭化物、酸化物およびこれらの複合化合物の少なくともいずれか一つを含む皮膜を物理蒸着法により形成することを特徴とする。
この結果、本発明の金属製管状体は、ステンレス鋼管状体の接合部だけでなく、管状体全体を低温で皮膜が形成でき、管状体の熱変形は小さく、歪ができない。また、密着性に優れ、しかも高密度であるため、液体が接合部から漏れ出ることがない。 （もっと読む）

【課題】この発明は、蒸着材の膜厚を均一に成膜できる成膜装置を提供することを課題とする。
【解決手段】成膜装置３０は、基板２１の被蒸着面２１ａに離間対向した開口部をそれぞれ有し走査方向Ｓと直交する蒸着源２２の並び方向Ｌに沿って並設された矩形筒状の複数の区画部材２３を有する。各区画部材２３の開口部には、６角形の開口３２を有する遮蔽部材３１が設けられている。遮蔽部材３１の各開口３２は、隣接する辺が外側に折り曲げられている。これにより、被蒸着面２１ａに投影される蒸着領域は、部分的に重なることになる。 （もっと読む）

マグネトロンスパッタリング機構（２）であって、スパッタリング表面の形状が、相互に垂直であって且つスパッタリング表面の少なくとも凡そ鏡面対称軸である第１（Ａ１）および第２の軸（Ａ２）を規定するスパッタリング表面（４）を有するターゲット（３_ａ１）を有するターゲット機構（３）と、前記スパッタリング表面の上で磁場を発生させるマグネット機構（４０）と、前記マグネトロン磁場と前記スパッタリング表面との間で実質的に過渡的な相対移動を成立させることに適した駆動装置（７０）とを備える、マグネトロンスパッタリング機構（２）。前記相対移動は、相互に垂直であって且つ経路（８０）の少なくとも凡そ鏡面対称軸である第３（Ａ３）および第４の軸（Ａ４）を規定する経路（８０）を描く。前記第３の軸は、前記第１の軸（Ａ３）に対し少なくとも凡そ平行であり、前記経路（８０）は、少なくとも２つの尖ったコーナー（８１）を有し、各コーナーは、前記第３の軸（Ａ３）と前記第４の軸（Ａ４）の内一方の上に位置する。相対移動は好ましくは反復移動であり、経路は好ましくは実質的に菱形を描く。マグネトロンスパッタリング機構（２）は、前記ターゲット機構（３）、マグネット機構（４０）、および駆動装置（７０）の内少なくとも２つを備えてよい。
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【課題】 対向ターゲット式のスパッタリング装置を用いて有機発光素子の電極膜や金属膜を形成するようにした有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の有機発光素子の製造方法は、基板上に第１の電極を形成し、該第１の電極上に有機膜を形成し、有機膜上に対向ターゲット式のスパッタリング装置で第２の電極を形成し、有機膜に対するプラズマの損傷なく、低温で有機発光素子の電極膜を形成することによって、有機発光素子の発光効率、電気的、光学的の特性を向上できるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】
可視光線反射率、反射膜のガラスへの密着性、反射膜の硬度、耐高温・高湿性に関し、リアプロジェクションテレビに用いることのできる性能を有する表面鏡を提供する。
【解決手段】
ガラス基板にＣｒ膜、Ａｌ膜、ＳｎＯｘ(ただし０＜ｘ≦２)膜、ＴｉＯｙ（ただし０＜ｙ≦２）膜を、この順にスパッタリング法を用いて積層し、可視光線反射率が９０％以上で、Ａｌ膜が、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄの１種以上を５重量％以下でＡｌに含まれてなる表面鏡。 （もっと読む）

【課題】蒸着率が一定であり，再現性の良い蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置を提供すること。
【解決手段】開口部を有する加熱容器１３，２３と，加熱容器１３，２３の開口部に結合される，加熱容器１３，２３の開口部の長手方向に沿って複数の孔１７，２７が形成されたカバー１５，２５と，を備え，加熱容器１３，２３の開口部の長手方向に沿って，カバー１５，２５に形成された互いに隣接した孔１７，２７間の距離が変わることを特徴とする蒸着ソースである。 （もっと読む）

【課題】プラスチック単層フィルムでなるベースフィルムに熱変形を生じさせることなく金属膜を成膜することができる生産性に優れた巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】金属膜の蒸着前において原料フィルム１２に電子ビームを照射する電子ビーム照射器２１を配置すると共に、キャンローラ１４には直流バイアス電源２２の正極を接続し、補助ローラ１８には直流バイアス電源２２の負極を接続する。これにより、金属膜の蒸着前は電子ビームの照射により帯電させた原料フィルム１２をキャンローラ１４に密着させ、金属膜の蒸着後は補助ローラ１８に電気的に接続される金属膜とキャンローラ１４との間に印加したバイアス電圧によって原料フィルム１２をキャンローラ１４へ密着させる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理中に温度が過度に増加せず、リングの洗浄中に過度に腐食されず、基板処理中に過度に高い温度勾配の形成を減少させ得る基板リングを提供する。
【解決手段】基板リングアセンブリ２０は、周辺エッジ部３０を有する基板支持体２２を備えている。アセンブリ２０は、内部周囲が基板支持体の周辺エッジ部３０を囲み且つ少なくとも部分的に覆っている環状バンド２６を有する。アセンブリ２０は、また、環状バンド２６を基板支持体の周辺エッジ部３０に固定するクランプ３４を有する。 （もっと読む）

【課題】 陰極形成による有機層へのダメージを防止するとともに陰極から有機層への電子注入効率を改善し、素子の発光特性を大幅に改善する。
【解決手段】 有機層と陰極の間に配置された緩衝層が、電子供与性を有するドーパント材が含有された透明導電性有機物で形成されている有機ＥＬ素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】非晶質透明導電膜のアンカー効果を高めて接着力を向上させ、耐久性に優れた透明導電膜を得、また、ＡＣＦや検査用プローブとの接触抵抗を低減可能な透明導電膜を得ることを目的とする。
【解決手段】表面粗さの最大値であるRmaxの値が、１０ｎｍ以上であることを特徴とする非晶質透明導電膜を提供する。この非晶質透明導電膜と異方導電フィルム（ＡＣＦ）との間、及びこの非晶質透明導電膜と検査用プローブとの間、等に生じる接触抵抗を小さな値にすることができる。また、この非晶質透明明導電膜は、アンカー効果を従来より大きくでき、その結果、従来より耐久性の向上を図ることができる。
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【課題】 耐衝撃性に優れ、ダイレクト蒸着後に美麗な光輝表面を保つことができ、しかも、樹脂レンズとの熱板溶着接合部の外観が良好であるダイレクト蒸着用熱可塑性樹脂組成物および成形品を提供する。
【解決手段】 本発明のダイレクト蒸着用熱可塑性樹脂組成物は、ジエン系ゴム状重合体（Ｇ）３０〜７０質量％に、１種以上のビニル系単量体（Ｍ）７０〜３０質量％（（Ｇ）と（Ｍ）の合計は１００質量％である。）をグラフト重合させたグラフト共重合体（Ａ）１〜１００質量部と、ビニル系（共）重合体（Ｂ）９９〜０質量部（（Ａ）と（Ｂ）との合計は１００質量部である。）とを含有するダイレクト蒸着用熱可塑性樹脂組成物であって、前記グラフト共重合体（Ａ）のアセトン可溶分の還元粘度η_ｓｐ／Ｃが０．２〜０．８ｄｌ／ｇである。 （もっと読む）

スピン塗布によりレジストの被膜を形成する場合、無駄となってしまうレジスト材料が存在し、さらに、必要に応じて端面洗浄の工程が増えてしまう。また、真空装置を用いて、基板上に薄膜を成膜する際には、チャンバー内を真空にする特別な装置や設備が必要で、製造コストが高くなってしまう。本発明は、絶縁表面を有する基板上に、ＣＶＤ法、蒸着法又はスパッタ法により選択的に導電層を形成するステップと、前記導電層に接するように、組成物を吐出してレジストマスクを形成するステップと、前記レジストマスクを用いて、大気圧又は大気圧近傍下で、プラズマ発生手段により前記導電層をエッチングするステップと、大気圧又は大気圧近傍下で、前記プラズマ発生手段により前記レジストマスクをアッシングするステップを有することを特徴とする。上記特徴により、材料の利用効率を向上させて、製造コストの低減を実現する。
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本発明は、回転可能な基板ペデスタル及び少なくとも１つの移動可能な傾斜ターゲットを有する物理気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態によれば、均一性の高い薄膜を堆積させることができる。 （もっと読む）

【課題】
従来の反射体に比べて、製造時において従来であれば異物混入や貼り合わせにより発生していた損失を生じることのない、そして製造も容易な、全反射率や正反射率の高い反射体を提供する。
【解決手段】
表面を高平滑処理してなる基材フィルムの表面に、少なくとも、金属又は金属酸化物による金属蒸着層を積層してなる反射体であって、前記高平滑化処理をすることにより、前記基材フィルムの全反射率が８０％以上、かつ正反射率が８０％以上となること、を特徴とする構成を有した反射体とした。
なし （もっと読む）

【課題】
金属蒸着層に対してさらに光学的な効果を付与したり、金属蒸着層を酸化から守るための層をその表面にさらに設けた金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法及び該方法による金属蒸着フィルムを提供する。
【解決手段】
高分子樹脂よりなる基材フィルムの表面に、水溶性塗料による水溶性塗料層を所望の箇所にのみ部分的に積層する、水溶性塗料層積層工程と、前記水溶性塗料層積層工程を終えた前記基材フィルムの前記水溶性塗料層を積層した部分及び積層していない部分の両方の表面に対して一律に、金属または金属酸化物による金属蒸着層を積層してなる金属蒸着層積層工程と、前記金属蒸着層積層工程を終えた前記金属蒸着層の表面に、透明無機蒸着層を積層してなる透明無機蒸着層積層工程と、前記透明無機蒸着層積層工程により得られた積層体を水洗してなる水洗工程と、前記水洗工程後これを乾燥してなる乾燥工程と、よりなる製造方法とした。
なし （もっと読む）

本発明は、回転可能な基板用ペデスタルを有する物理的気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態は、高度に均一な薄膜の堆積を容易にする。更なる実施形態において、一以上のスパッタリングターゲットがペデスタル上方に移動可能に配置される。ペデスタルに対するターゲットの配向は、横方向、垂直方向、又は角度的に調整可能である。一実施形態において、ターゲットは、約０°から約４５°の間で、ペデスタルの回転軸に対して調整されてもよい。
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【課題】 寸法精度が高く内添無機フィラ−による大きな突起が実質的になく、フィルム表面が平滑であり吸湿寸法精度が高く、高品質の銅張基板を与えるＣＯＦ用ポリイミドフィルム、スプリングバックの起こる可能性が低減し、ポリイミドフィルムの剛性および吸湿寸法精度が四元系ポリイミドフィルムに比べて改良された積層体を提供する。
【解決手段】 ３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とｐ−フェニレンジアミンとを各々主成分として熱イミド化によって製造されるポリイミドからなるフィルムであって、フィルムに添加する前の無機フィラ−が平均粒径１μｍ以下でありこれより大きい平均粒径の無機フィラ−に起因する突起を有さず、厚みが２５〜３５μｍであるＣＯＦ用ポリイミドフィルム、ＣＯＦ用ポリイミドフィルムを真空下に放電処理した後、下地金属薄膜さらに導電性金属メッキ層からなる導電性金属層を形成してなる積層体。 （もっと読む）