【課題】 本発明は、ターゲット材の大面積化も容易にでき、その材質も板厚方向、幅方向、長手方向に均一であって、さらには、圧延後の焼鈍も不要となるタ−ゲット用金属部材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 高融点金属粉末を金属製容器に嵩密度ρ_sで充填する工程、該容器の内部を真空状態にした後密閉する工程、該容器を600℃以上1200℃以下の温度で圧延率Rsまで圧延する工程、からなる方法であって、該高融点金属の密度がρ₀である場合、圧延率RsをR_s={1-α×(ρ_s/ρ₀)}×100(%)で規定し、αを0.50以上0.90以下にすることを特徴とする金属部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】アンダーコート層を設けずに基材上に金属を強固に蒸着するとともに、製造工程においてチリやゴミが混入する機会を軽減する金属蒸着加工物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明又は半透明の基材と、前記基材の上層にアンダーコート層を形成することなく直接金属が蒸着された金属蒸着膜とで構成された金属蒸着加工物。好ましくは、金属蒸着加工物は、アクリル等の透明又は半透明のプラスチック材で構成される基材１と、この基材１上にホットスタンプ加工等で模様等を描画して形成される描画層２と、その基材１上に金属を蒸着することにより形成される金属蒸着膜３と、その金属蒸着膜３の保護のためにこの膜３上に形成される内側保護膜４と、金属蒸着加工物全体を外気や水等から保護するためにその内側保護膜４上に形成される外側保護膜５とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、主に磁気記録媒体における下地膜など電子部品用の薄膜を形成するために用いられるＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】 原子％で、Ｖ：５〜５０％、Ｂ：０．５〜５％、残部Ｍｏからなり、原料粉末として、平均粒径が２０μｍ以下のＢ粉末を使用し、固化成形をしたことを特徴とするＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法。また、上記成形温度１２００〜１４００℃で固化成形したＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法。さらに、上記Ｂ粉末の平均粒径を０．５〜２０μｍとしたＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】多層反射膜の成膜により基板に応力が加わっても、基板が変形せず平坦度を良好とできるＥＵＶマスクブランクの多層反射膜の成膜方法の提供、およびバッファ層及び吸収層の成膜により基板に応力が加わっても、基板が変形せず平坦度を良好とできるＥＵＶマスクブランクの製造方法の提供。
【解決手段】スパッタリング法を用いて、基板上にＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法であって、多層反射膜の成膜により基板に加わる応力と逆方向の応力を前記基板が有するように、前記基板を変形させた状態で前記多層反射膜の成膜を実施し、前記多層反射膜の成膜後、前記基板を変形前の形状に戻すことを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜の成膜方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶマスクブランクを製造する際に使用され、反射層としての多層反射膜および保護層としてのＲｕ層の形成を実機での生産レベルで多数サイクル実施した場合にも、膜剥がれによるパーティクルを防止することができるスパッタリングターゲットの提供。
【解決手段】基板上に、ＥＵＶ光を反射する反射層におけるルテニウム（Ｒｕ）層を形成するためのスパッタリングターゲットであり、前記スパッタリングターゲットは、Ｒｕと、ホウ素（Ｂ）およびジルコニウム（Ｚｒ）からなる群から選択される少なくとも１つの元素と、を含有し、前記スパッタリングターゲットにおけるＢおよびＺｒの合計含有率が５ａｔ％〜５０ａｔ％であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】入射角度に依存する照度ムラのない多層膜ミラーを実現する。
【解決手段】基板１００上に、マグネトロンスパッタリングによってＳｉ層１１とＭｏ層１２を交互に成膜して多層膜ミラー１０を形成する。Ｓｉ層１１とＭｏ層１２の間に成膜中に形成される拡散層１３は、多層膜ミラー１０の反射率を低下させる性質があるため、軟Ｘ線Ｒ１の入射角度が異なるミラー周辺部分と中央部に対応するように、拡散層１３の面内方向に膜厚分布を設ける。入射角度の低いミラー周辺部分と同等になるように中央部の反射率を低くすることで、反射光Ｒ２の照度を均一にする。 （もっと読む）

【課題】ターゲット寿命の期間中、長期にわたってスパッタレートを安定化させ、高精度な膜厚制御を行う。
【解決手段】希ガスの中から選択された２つのガスをスパッタガスとしてそれぞれ真空チャンバ１に導入するガス供給系３を設ける。第１、第２のマスフローコントローラ４ａ、４ｂによって、スパッタレートの高い方のガスのガス流量は成膜時間の経過と共に増加させ、スパッタレートの低い方のガスのガス流量は減少させる。ターゲット５のエロージョンによるスパッタレートの変化を、ガス流量比の変化によって相殺し、ターゲット初期からターゲット寿命が終わるまでのスパッタレートを安定化する。 （もっと読む）

【課題】 低温度域での塑性加工性に優れたＭｏスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 希土類元素から選ばれる１種類以上の元素を１〜１００質量ｐｐｍ含有し、残部はＭｏ及び不可避的不純物でなるＭｏスパッタリングターゲット材であり、前述の希土類元素はＬａ、Ｃｅの何れか１種または２種を選択するのが好ましい。更に希土類元素の効果を確実に得るには、Ｎ、Ｏ等のガス成分は極力少ない方が好ましく、Ｎは５０ｐｐｍ以下、Ｏは５００ｐｐｍ以下であり且つＮとＯの総量が５００ｐｐｍ以下の範囲が望ましい。 （もっと読む）

【課題】集光効率を向上させるコーティングされたミラー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ用のミラーの生成方法であって、（ａ）基材を設け、（ｂ）同基材上に、ナノメートルスケール又は原子層の厚みｔ１の第１層を蒸着し、（ｃ）第１層上に、ナノメートルスケール又は原子層の厚みｔ２の第２層を蒸着し、第１及び第２層は、異なる構造及び物理的特性を有するように、異なる成長パラメータで蒸着され、各層は、単独で或いは隣接する層と共に、ＥＵＶ反射エレメントを形成し、ＥＵＶ光源からの高速な破片粒子による侵食に対し耐性のある、ほぼストレスフリーのマイクロメートルスケールの厚みのコーティングを有するミラーを形成する。また、リソグラフィとイメージングを含む極端紫外線（ＥＵＶ）又はＸ線応用の集光光学系であって、ＬＬＰ光源等の放射源を備え、集光装置及び反射マスクを含む光学系を開示する。 （もっと読む）

【課題】パターンエッチングによる加工性が良好で、信頼性が高く消費電力が低い有機ＥＬ表示装置を可能とする導電膜基板を提供する。
【解決手段】導電膜基板を、透明基材と、この透明基材上に順次積層された透明導電膜、中間層および金属層とを備えたものとし、透明導電膜は酸化インジウムスズ膜、中間層はＭｏ層、Ｍｏ合金層および酸化インジウム亜鉛層のいずれか、金属層はＡｇ合金層とし、これにより、透明導電膜と金属層との密着性が良好なものとなり、かつ、透明導電膜に対して中間層と金属層を一括で選択エッチングしてリード部のパターンを形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】軟Ｘ線用の多層膜反射鏡の膜応力を低減する。
【解決手段】Ｍｏ薄膜１２とＳｉ薄膜１３の交互多層膜からなる多層膜反射鏡において、Ｍｏ薄膜１２に重元素を添加することによって非晶質状態で成膜し、その非晶質薄膜にイオンビームを照射することで、Ｍｏ薄膜１２の引張応力を強化する。その上にＳｉ薄膜１３を積層した膜構成により、Ｓｉ薄膜１３の膜応力（圧縮応力）をＭｏ薄膜１２の膜応力（引張応力）によって相殺し、交互多層膜全体の膜応力を低減する。 （もっと読む）

【課題】 半導体元素を主成分とする原子数個程度以下の厚みを持つ層状物質であって、同一の原子構造で真性半導体だけでなく、ｐ型あるいはｎ型への制御が可能であり、また金属にもなりうる層状物質を得ることを課題とする。
【解決手段】 元素Aによるグラファイト状の６方格子の原子網からなる２つの層と、これら２つの層の中間に、元素Tが上記２つの層への投影位置が６方格子の中心に位置するように配置された層との3層で単位層が構成され、上記単位層が２次元方向に周期的に繰り返す結晶構造を有することを特徴とする層状物質により解決される。 （もっと読む）

【課題】合金を成膜対象物に注入可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明は第一、第二の同軸型蒸着源３ａ、３ｂを有しており、第一、第二の蒸着源３ａ、３ｂの第一、第二の開口３９ａ、３９ｂからは正の微小荷電粒子が放出され、その微小荷電粒子はクーロン力によって飛行方向が曲げられて成膜対象物６８表面に到達する。このとき、成膜対象物６８の表面に負電圧を印加すれば、微小荷電粒子の飛行速度が加速されるので、微小荷電粒子が成膜対象物６８表面に注入される。第一、第二の同軸型蒸着源３ａ、３ｂの蒸着材料として異なる種類の金属材料を用いれば、成膜対象物６８表面に合金が注入される。 （もっと読む）

【課題】大きな接触応力が作用するような条件下や無潤滑下においても好適に使用可能な転がり摺動部材及び転動装置を提供する。
【解決手段】スラスト玉軸受の内輪１，外輪２と玉３との接触面においては、内輪１，外輪２，玉３の母材にＤＬＣ層Ｄが被覆されている。母材のうちＤＬＣ層Ｄが被覆されている部分の表面粗さＲａは、０．０３〜０．２μｍである。ＤＬＣ層Ｄは、炭素からなるカーボン層Ｃと、モリブデン及び炭素からなる複合カーボン層ＦＣと、モリブデンからなる第一金属層Ｍ１と、モリブデン及びクロムからなる複合金属層ＦＭと、クロムからなる第二金属層Ｍ２と、の５層で構成され、ＤＬＣ層Ｄの表面側からカーボン層Ｃ，複合カーボン層ＦＣ，第一金属層Ｍ１，複合金属層ＦＭ，第二金属層Ｍ２の順に配されている。これら５層の等価弾性定数は、いずれも母材の等価弾性定数の０．８〜１．５倍である。 （もっと読む）

【課題】金属とＳｉＯ₂の混合膜を高速かつ安定してスパッタリングで形成可能な成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明は、金属とＳｉＯ₂の混合膜の成膜方法であって、複数の成膜領域に分割した真空処理槽２内において、複数の成膜領域のうち第一成膜領域７にＴａターゲット１３ａ、１３ｂを配置するとともに、第二成膜領域１１にＳｉターゲット１６ａ、１６ｂを配置し、基板５を支持した状態で回転可能な回転支持ドラム３を、その回転に伴い基板５が第一及び第二成膜領域７、１１を通過するように設け、第一成膜領域７においてスパッタリングを行い基板５上にＴａ膜を形成し、第二成膜領域１１においてスパッタリング及び酸化を行い基板５上にＳｉＯ₂膜を形成する工程を、回転支持ドラム３を回転しつつ連続的に繰り返し行う。 （もっと読む）

本発明は金属効果顔料に関し、その金属効果顔料は、少なくとも１種の金属Ｍを含み、Ｍおよび酸素の合計含量を基準にして、２５〜５８原子パーセントの平均酸素含量を有する、実質的に均質な化学組成を有している。本発明はさらに、前記金属効果顔料を製造するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】種々の多成分もしくは多相の材料、従って本合金もしくは混晶を形成しない材料を基礎とするスパッタターゲットであって、その構造がスパッタリングの間のエロージョンに際して生成収率を悪化するパーティクルをできる限り形成しないように構成されたスパッタターゲットを開発する。
【解決手段】少なくとも２つの相又は成分を含有する材料からなるスパッタターゲットであり、その際、少なくとも１つの少数相がマトリクス中に難固溶性であり、かつマトリクスより高い融点を有するスパッタターゲットであって、少なくとも１つの少数相が、その結晶粒又はその結晶粒から形成された凝集物の平均寸法最大１０μｍを有し、かつ該材料は理論密度の少なくとも９８％の密度を有することを特徴とするスパッタターゲットを提供する。 （もっと読む）

【課題】配線材料間の亀裂、断線による製品不良の減少、生産の歩留まり向上に寄与する積層構造の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化インジウムを含む各種透明導電薄膜とモリブデン金属薄膜からなる積層構造であって、透明導電薄膜及びモリブデン金属薄膜をそれぞれスパッタリングで成膜する時の放電ガス圧力を調整して、二つの膜に生じる内部応力の差を１６００ＭＰａ以下にすることで、界面で生じる応力を低減し亀裂、断線の発生を抑制する。 （もっと読む）

透湿性シートを少なくとも１種類の金属でコーティングし、新たに付着したその金属を酸化プラズマに露出して、保護用合成金属酸化物を金属上に形成することによる低輻射率の透湿性の金属化複合体シートの製造方法。この複合体シート材料は、屋根ライニングやハウスラップ等の建物建築バリア層として用いるのに好適である。
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【課題】成膜装置のロードロックチャンバの排気時に発生するパーティクルが基板に付着し、基板上に成膜する膜内に取り込まれることにより膜に欠点が生ずる。
【解決手段】ガラス基板の成膜を行う面に光触媒特性を有する薄膜デバイス用ガラス基板の提供し、および、この基板を用いて成膜する前に、この基板の成膜を行う面に紫外光または可視光を照射する成膜方法を提供する。特に非常に厳しい欠点の仕様が要求される極端紫外光反射型リソグラフィ用マスクブランク用基板、およびその基板への成膜方法を提供する。 （もっと読む）